专利名称：基板输送装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种输送基板的基板输送装置。
背景技术：
采用基板处理装置，对液晶显示装置用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用玻璃基板、半导体芯片等基板进行种种处理。这样的基板处理装置由于主要用在无尘车间内，所以要求削减设置空间。
图18是表示一例缩短基板处理装置的总长度，力图节省空间的基板处理装置的图(参照特开2000-31239号公报)。
在图18所示的基板处理装置900中，形成相互平行的输送路151、输送路152以及连结它们的翻转路径153。
在基板处理装置900中，逐块取出收纳在分转部111的基板箱C中的基板，以输送路151、翻转路径153及输送路152的大致U字状顺序输送基板，并同时对其实施处理，然后再将其收纳在分转部111的基板箱C内。
在图18的基板处理装置900的输送路151上，按顺序配置输送带112、紫外线照射部113、臭氧灰化部114及刷子水洗部115，在基板处理装置900的输送路152上，按顺序配置紫外线照射部119、气刀部118、水洗部117。
此外，在基板处理装置900的翻转路径153上，按顺序配置基板输送装置800、进行药液处理的药液处理部810及基板输送装置801。在药液处理部810中，为使基板的表面处理均匀化，以将基板倾斜规定角度程度的姿势进行处理。
图19是图18的基板输送装置801的横剖视图，图20是图19的基板输送装置801的A-A线剖视图。
在图19及图20中，将在水平面内垂直的2个方向设为X方向及Y方向，将竖直方向设为Z方向。如图19所示，从输送室300的基板输送口310向Y方向输送基板，从基板输出口320向X方向输出基板。
在图19的基板输送装置801的输送室300内，隔开规定间隔L10地分别沿X方向配置多个输送轴80a和多个输送轴80b。多个输送轴80c，沿Y方向，配置在输送轴80a和输送轴80b之间的规定间隔L10内。多个输送轴80d，沿Y方向配置在输送轴80a、80b之间。
在各输送轴80a、80b上设置多个辊P110，在各输送轴80c上设置多个辊P210，在各输送轴80d上设置多个辊P211。
此外，设在输送室300外的电机M10的旋转轴，贯通输送室300的侧壁地连结在传递机构G1上，从该传递机构G1向多个输送轴80a传递旋转力。同样，设在输送室300外的电机M20的旋转轴，贯通输送室300的侧壁地连结在传递机构G2上，从该传递机构G2向多个输送轴80b传递旋转力。由此，多个辊P110与多个输送轴80a、80b一起旋转。
此外，设在输送室300外的电机M30的旋转轴，贯通输送室300的侧壁地连结在传递机构G3上，从该传递机构G3向多个输送轴80c传递旋转力。由此，多个辊P210与多个输送轴80c一起旋转。
如图20所示，相对于水平面，以倾斜的状态设置输送轴80a、80b。输送轴80a、80b由多个支持部件96支持在固定台90的上方。固定台90由气缸95上下驱动。
如图20所示，从图19的基板输入口310输入的基板200，以倾斜姿势，由辊P110支持。通过设在输送室300外的电机M10、M20，借助传递机构G1、G2，使输送轴80a、80b的辊P110旋转，向Y方向输送基板200。
然后，如果将基板200输送到规定的位置，则电机M10、电机M20停止旋转工作。由此，停止多个辊P110的旋转，停止输送基板200。
之后，由气缸95向Z方向提升固定台90。由此，被多个支持部件96支持的多个输送轴80c的辊P210及多个输送轴80d的辊P211，向多个辊P110的上方移动。因此，基板200脱离辊P110，被支持在辊P210上，提升到上方。
此外，在向上方移动输送轴80c、输送轴80d时，图19的电机M30和传递机构G30的齿轮(未图示)与设在输送轴80c上的齿轮(未图示)咬合。由此，向多个辊P210传递电机(M30)的旋转力，使辊P210旋转。结果，从基板输出口320，向箭头X的方向输送由辊P210、辊P211支持的基板200。
如此，采用基板输送装置801，能够将以倾斜姿势向X方向输入的基板200，以水平姿势向Y方向输出。
但是，如果采用以往的基板输送装置801，由于设在输送室300外的电机M10、M20、M30的旋转轴，通过设在输送室300的侧壁上的孔，连结在输送室300的内部的传递机构G1、G2、G3上，因此，有可能从侧壁上的孔向外部漏泄含有处理液的环境气体(保护性气体)。
此外，为了防止传递机构G1、G2、G3的齿轮的磨损粉扩散到输送室300内，需要在传递机构G1、G2、G3上设置套框250，与基板200隔离。但是，如上所述，在提升输送轴80c时，为能够向输送轴80c传递旋转力，必须打开传递机构G3的套框的下部。由此，因咬合传递机构G3的齿轮而产生的磨损粉由该开放部扩散，有时附着在基板200的表面上。此外，有时因咬合传递机构G3的齿轮而产生振动。结果，妨碍基板200的均匀处理。
此外，为了上述的传递机构G1、G2、G3的齿轮，而需要在输送室300内置置收纳润滑油的收容部260(油垫)。另外，也需要向该收容部260内供给润滑剂。在驱动传递机构G3时，难于供给润滑剂。由此，输送室300内的结构复杂化，同时还增加部件个数，成为阻碍缩小基板输送装置801的空间及降低成本的主要原因。
另外，如果采用以往的基板输送装置801，在以倾斜姿势支持基板200时，如图20所示，在输送轴80a、80b的间隔L10中，不支持基板200。因此，随着基板200的大径化，产生由基板200的自重造成的弯曲，基板有因被过度施加负荷而破损的危险。
此外，多个输送轴80d的辊211，在以倾斜姿势输送时，位于多个输送轴80a、80b的下方；在以水平姿势输送时，位于多个输送轴80a、80b的上方。因此，需要以不与多个输送轴80a、80b干涉的方式，设置输送轴80d及辊211。因此，难于向所有的辊P211传递旋转力，降低基板200的输送力。结果，产生基板200的输送不良。此外，由于必须以不与图20的传递机构G1接触的方式输送基板200，所以，需要加大设定气缸95的冲程量，这样就难于节省上下方向的空间。
发明内容
本发明的目的是提供一种基板输送装置，其能够防止环境气体泄漏，能够不妨碍基板均匀处理地以简易的结构变换基板的姿势，并且能够节省空间和降低成本。
本发明的另外的目的提供一种基板输送装置，能够用简易的结构，不使基板变形及破损地可靠地输送基板。
第1发明的基板输送装置，是输送基板的基板输送装置，其特征在于包括具有壁部的输送室，可旋转地设在上述输送室内、支持基板的第1辊部件，通过移动或倾斜上述第1辊部件，而将上述第1辊部件变换成第1状态及第2状态的状态变换机构，设在上述输送室外、产生旋转力的旋转驱动机构，以及利用磁力将由上述旋转驱动机构产生的旋转力传递给上述第1辊部件的传递机构；上述传递机构，包括与上述壁部对向地配置在上述输送室外、利用由上述旋转驱动机构产生的旋转力而旋转的第1传递部件，以及可与上述第1辊部件一起旋转地设在上述输送室内的第2传递部件；在上述第1辊部件处于上述第1状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间传递旋转力的第1位置，在上述第1辊部件处于上述第2状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间不传递旋转力的第2位置。
在本基板输送装置中，在第1辊部件处于第1状态时，第2传递部件位于第1位置，在第1传递部件和第2传递部件之间，传递由旋转驱动机构产生的旋转力。此外，在第1辊部件处于第2状态时，第2传递部件位于第2位置，在第1传递部件和第2传递部件之间，不传递由旋转驱动机构产生的旋转力。
此时，由于不需要为了将旋转驱动机构的旋转力传递给第1传递部件及第2传递部件而在侧壁上设置孔，所以，能够防止含有处理液的环境气体向输送室外部泄漏。
此外，由于旋转驱动机构及第1传递部件设在输送室外，所以，能够防止从旋转驱动机构及第1传递部件产生的磨损粉附着在基板上。此外，也不产生第1传递部件及第2传递部件的振动。此外，在第1传递部件及第2传递部件之间，也不需要供给润滑剂。因此，不妨碍基板的均匀处理。
另外，由于旋转驱动机构及第1传递部件设在输送室外，所以，不需要在输送室内置置收纳润滑剂的容器，也就不需要向输送室内补给润滑剂。因此，能够削减部件个数，同时，简化输送室内的结构。所以，能够以简单的结构变换基板的姿势，并且，能够实现基板输送装置的小型化及节省空间化。
也可以第2传递部件，在第1位置，夹壁部，与第1传递部件对向；在第2位置，与第1位置相比远离第1传递部件。
此时，第2传递部件，通过在第1位置，夹壁部地与第1传递部件对向，能够传递由旋转驱动机构产生的旋转力。此外，在第2位置，与第1位置相比，通过远离第1传递部件，能够不传递由旋转驱动机构产生的旋转力。
也可以基板输送装置还具有可旋转地设在输送室内的支持基板的第2辊部件，在第1辊部件处于第1状态时，将基板支持在第1辊部件上，在第1辊部件处于第2状态时，将基板支持在第2辊部件上，如此设置第1辊部件及第2辊部件，此时，在第1辊部件处于第1状态时，将基板支持在第1辊部件上；在第1辊部件处于第2状态时，将基板支持在第2辊部件上。由此，能够从第1辊部件向第2辊部件转接基板。
也可以基板输送装置，第1状态是第1辊部件相对于水平面形成第1角度的状态，第2状态是第1辊部件相对于水平面形成不同于第1角度的第2角度的状态。
此时，在第1状态下，第1辊部件相对于水平面形成第1角度，由第1辊部件支持基板。此时，由于第2传递部件，在第1位置，夹壁部地与第1传递部件对向，所以，能够将利用旋转驱动机构产生的旋转力传递给第1辊部件，能够利用第1辊部件输送基板。
另外，在第2状态下，多个第1辊部件相对于水平面形成第2角度，由第2辊部件支持基板。此时，由于第2传递部件，在第2位置，与第1位置相比，远离第1传递部件，所以，不将利用旋转驱动机构产生的旋转力传递给第1辊部件。
对于基板输送装置，也可以相互交叉地设置第1辊部件和第2辊部件。
此时，由于相互交叉地设置第1辊部件和第2辊部件，所以，能够变换输送方向的同时，从第1辊部件向第2辊部件转接基板。
对于基板输送装置，也可以相互大致平行地设置第1辊部件和第2辊部件。
此时，由于相互大致平行地设置第1辊部件和第2辊部件，所以，能够维持基板的输送方向的同时，从第1辊部件向第2辊部件转接基板。
也可以第1传递部件，具有与壁部对向的第1面及第1旋转轴，同时，内置多个沿以第1旋转轴为中心的圆周配置的第1磁铁；第2传递部件具有可与壁部对向的第2面及第2旋转轴，同时，内置多个沿以第2旋转轴为中心的圆周配置的第2磁铁。
此时，由于在第1传递部件上，沿以第1旋转轴为中心的圆周内置第1磁铁，在第2传递部件上，沿以第2旋转轴为中心的圆周内置第2磁铁，所以，能够利用多个磁铁的磁力传递旋转力。结果，确实能够将第1传递部件的旋转力传递给第2传递部件。
也可以能够以在第1面交替形成N极及S极的方式，按等间距配置多个第1磁铁；以在第2面交替形成N极及S极的方式，按与多个第1磁铁相同的间距配置多个第2磁铁。
此时，在第1磁铁和第2磁铁之间，产生因相互极性不同而吸引的引力，能够高效率地将旋转力从第1传递部件传递到第2传递部件。
也可以基板输送装置将第1传递部件的多个第1磁铁内置在非磁性部件中，将第2传递部件的多个第2磁铁内置在非磁性部件中。此时，由于第1传递部件及第2传递部件将第1磁铁和第2磁铁内置在非磁性部件中，所以，能够高效率地将第1传递部件的旋转力传递给第2传递部件。
也可以第2传递部件的非磁性部件的至少外周面由树脂构成。此时，能够防止处理液对第2传递部件的腐蚀。
第2发明的基板输送装置，是输送基板的基板输送装置，包括可旋转地设置并支持基板的多个第1旋转轴，与上述多个第1旋转轴同心设置的第1辊，可旋转地设置并支持基板的多个第2旋转轴，以及与上述多个第2旋转轴同心设置的第2辊；在上述多个第2旋转轴的上方，以与上述多个第2旋转轴相互交叉的方式设置上述多个第1旋转轴；上述第1辊的直径小于上述第2辊的直径；还具有状态变换机构，其通过相对倾斜或移动上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴，而将上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴的位置关系变换为第1状态或第2状态；以在上述多个第1及第2旋转轴处于上述第1状态时，上述第1辊的顶部位于上述第2辊的顶部的上方，在处于上述第2状态时，上述第2辊的顶部位于上述第1辊的顶部的上方的方式，配置上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴。
在该基板输送装置中，通过相对移动或倾斜多个第1旋转轴和多个第2旋转轴，能够由状态变换机构将相互交叉设置的多个第1旋转轴和多个第2旋转轴的位置关系变换为第1状态或第2状态。
此时，在第1状态下，多个第1辊的顶部位于第2辊的顶部的上方。由此，能够利用多个第1辊支持基板。此外，在第2状态下，多个第2辊的顶部位于第1辊的顶部的上方。由此，能够利用多个第2辊支持基板。结果，能够防止在基板上产生因自重造成的弯曲，同时防止对基板局部施加过度的负荷。
此外，由于向多个第1辊或多个第2辊传递旋转力，所以能够防止基板的不良输送。因此，能够不变形、不破损地将基板变换成规定角度的第1状态及第2状态，同时，能够转换基板的输送方向。
此外，在将基板变换为第1状态及第2状态时，能够降低上下方向的冲程量，能够实现节省空间。
也可以基板输送装置，在第1状态下多个第1旋转轴相对于水平面形成的角度，不同于在第2状态下多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度。
此时，由于在第1状态下第1旋转轴相对于水平面形成的角度，不同于在第2状态下第2旋转轴相对于水平面形成的角度，所以，能够变换基板相对于水平面的倾斜角度，同时利用第1辊及第2辊输送基板。
也可以基板输送装置，在第1状态下多个第1旋转轴相对于水平面形成的角度，与在第2状态下多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度相等。
此时，由于在第1状态下多个第1旋转轴相对于水平面形成的角度，与在第2状态下多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度相等，所以，能够维持基板相对于水平面的倾斜角度，同时利用第1辊及第2辊输送基板。
也可为基板输送装置，还包括具有壁部的输送室，设在上述输送室外、产生旋转力的旋转驱动机构，以及利用磁力将由上述旋转驱动机构产生的旋转力传递给上述第1旋转轴的传递机构；上述第1旋转轴、上述第1辊、上述第2旋转轴及上述第2辊设在上述输送室内；上述传递机构，包括与上述壁部对向配置在上述输送室外并利用由上述旋转驱动机构产生的旋转力旋转的第1传递部件，以及可与上述第1旋转轴一起旋转地设在上述输送室内的第2传递部件；在上述多个第1及第2旋转轴处于上述第1状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间传递旋转力的第1位置，在上述多个第1及第2旋转轴处于上述第2状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间不传递旋转力的第2位置。
此时，由于不需要为了将旋转驱动机构的旋转力传递给第1传递部件及第2传递部件而在侧壁上设孔，所以，能够防止含有处理液的环境气体向输送室的外部泄漏。
此外，由于旋转驱动机构及第1传递部件设在输送室外，所以，能够防止从旋转驱动机构及第1传递部件产生的磨损粉附着在基板上。此外，也不产生第1传递部件及第2传递部件的振动。另外，在第1传递部件及第2传递部件之间，也不需要供给润滑剂。因此，不妨碍基板的均匀处理。
另外，由于旋转驱动机构及第1传递部件都设在输送室外，所以，不需要在输送室内置置收纳润滑剂的容器，也就不需要向输送室内补给润滑剂。因此，能够削减部件个数，同时，简化输送室内的结构。所以，能够以简单的结构变换基板的姿势，并且，能够实现基板输送装置的小型化及空间节省化。
第3发明的基板输送装置，是输送基板的基板输送装置，包括可旋转地设置并支持基板的多个第1旋转轴，与上述多个第1旋转轴同心设置的第1辊，可旋转地设置并支持基板的多个第2旋转轴，以及与上述多个第2旋转轴同心设置的第2辊；上述多个第1旋转轴，与上述多个第2旋转轴大致相互平行地设置；还具有状态变换机构，其通过相对倾斜或移动上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴，而将上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴的位置关系变换为第1状态或第2状态；上述状态变换机构，以在上述多个第1及第2旋转轴为上述第1状态时上述第1辊的顶部位于上述第2辊的顶部的上方，在为上述第2状态时上述第2辊的顶部位于上述第1辊的顶部的上方的方式，相对移动或倾斜上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴。
在该基板输送装置中，通过相对移动或倾斜多个第1旋转轴和多个第2旋转轴，能够利用状态变换机构，将大致平行状态的多个第1旋转轴和多个第2旋转轴的位置关系，变换为第1状态或第2状态。
此时，在第1状态下，多个第1辊的顶部位于第2辊的顶部的上方。由此，能够利用多个第1辊支持基板。此外，在第2状态下，多个第2辊的顶部位于第1辊的顶部的上方。由此，能够利用多个第2辊支持基板。结果，能够防止在基板上产生因自重造成的弯曲，同时防止对基板局部施加过度的负荷。
此外，由于向多个第1辊或多个第2辊传递旋转力，所以能够防止基板的不良输送。因此，能够不变形、不破损地将基板变换到第1状态及第2状态。
也可以基板输送装置，在第1状态下多个第1旋转轴相对于水平面形成的角度，不同于在第2状态下多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度。
此时，由于在第1状态下第1旋转轴相对于水平面形成的角度不同于在第2状态下多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度，所以，能够变换基板相对于水平面的倾斜角度，同时利用第1辊及第2辊输送基板。
也可以基板输送装置，在第1状态下多个第1旋转轴相对于水平面形成的角度，与在第2状态下多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度相等。
此时，由于在第1状态下多个第1旋转轴相对于水平面形成的角度，与在第2状态下多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度相等，所以，能够维持基板相对于水平面的倾斜角度，同时利用第1辊及第2辊输送基板。
也可为基板输送装置，还包括具有壁部的输送室，设在上述输送室外、产生旋转力的旋转驱动机构，以及利用磁力将由上述旋转驱动机构产生的旋转力传递给上述第1旋转轴的传递机构；上述第1旋转轴、上述第1辊、上述第2旋转轴及上述第2辊设在上述输送室内；上述传递机构，包括与上述壁部对向地配置在上述输送室外、利用由上述旋转驱动机构产生的旋转力旋转的第1传递部件，以及可与上述第1旋转轴一起旋转地设在上述输送室内的第2传递部件；在上述多个第1及第2旋转轴处于上述第1状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间传递旋转力的第1位置，在上述多个第1及第2旋转轴处于上述第2状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间不传递旋转力的第2位置。
此时，由于不需要为了将旋转驱动机构的旋转力传递给第1传递部件及第2传递部件而在侧壁上设置孔，所以，能够防止含有处理液的环境气体向输送室的外部泄漏。
此外，由于旋转驱动机构及第1传递部件设在输送室外，所以，能够防止从旋转驱动机构及第1传递部件产生的磨损粉附着在基板上。此外，也不产生第1传递部件及第2传递部件的振动。另外，在第1传递部件及第2传递部件之间，也不需要供给润滑剂。所以，不妨碍基板的均匀处理。
另外，由于旋转驱动机构及第1传递部件都设在输送室外，所以，不需要在输送室内置置收纳润滑剂的容器，也就不需要向输送室内补给润滑剂。因此，能够削减部件个数，同时，简化输送室内的结构。所以，能够以简单的结构变换基板的姿势，并且，能够实现基板输送装置的小型化及节省空间化。
图1是模式表示具有本发明的第1实施方式的基板输送装置的基板处理装置的俯视图。
图2是基板输送装置的横剖视图。
图3是图2的基板输送装置的A-A线剖视图。
图4是图2的基板输送装置的A-A线剖视图。
图5是图2的基板输送装置的B-B线剖视图。
图6是表示磁圆板的内部结构的图。
图7(a)是表示将磁圆板的旋转力传递给磁圆板的状态的图，(b)是表示不将磁圆板的旋转力传递给磁圆板的状态的图。
图8是说明图2～图5的基板输送装置的工作的立体图。
图9是基板输送装置的横剖视图。
图10是图9的基板输送装置的A-A线剖视图。
图11是图9的基板输送装置的A-A线剖视图。
图12是图9的基板输送装置的B-B线剖视图。
图13是图9的基板输送装置的B-B线剖视图。
图14(a)是表示将磁圆板的旋转力传递给磁圆板的状态的图，(b)是表示不将磁圆板的旋转力传递给磁圆板的状态的图。
图15是基板输送装置的横剖视图。
图16是图15的基板输送装置的A-A线剖视图。
图17是图15的基板输送装置的A-A线剖视18是表示一例缩短基板处理装置的总长度，力图节省空间的基板处理装置的图。
图19是图18的基板输送装置的横剖视图。
图20是图19的基板输送装置的A-A线剖视图。
具体实施例方式
以下，参照附图，说明本发明的实施方式。
(第1实施方式)图1是模式表示具有本发明的第1实施方式的基板输送装置的基板处理装置的俯视图。
图1所示的基板处理装置500，是处理液晶显示装置用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用玻璃基板、半导体芯片等基板的装置。
基板处理装置500，由分转部60、传送带61、69、紫外线(UV)照射部62、药液处理部63、64、一次水洗部65、二次水洗部66、67、气刀部68及基板输送装置100、101构成。
在图1的基板处理装置500中，形成相互平行的输送路154、输送路156及连结两输送路的翻转路径155。输送路154、156与翻转路径155大致垂直。
在基板处理装置500的输送路154上，按顺序设置传送带61、紫外线(UV)照射部62、药液处理部63、64。在基板处理装置500的翻转路径155上，按顺序设置基板输送装置100、一次水洗部65及基板输送装置101。在基板处理装置500的输送路156上，按顺序设置二次水洗部66、67、气刀部68及传送带69。
首先，在基板处理装置500的分转部60，送入收纳多张基板200的基板箱C。通过输送装置(未图示)，一张一张地取出收纳在基板箱C中的基板200，输送到传送带61。此时，在输送路154中，为均匀化处理基板，并以从水平面将基板倾斜规定角度的姿势，进行处理。
在输送到传送带61时，基板200的姿势从水平姿势变换为倾斜规定角度的姿势(以下，称为“倾斜姿势”。)。倾斜姿势的基板200，由传送带61输送到紫外线(UV)照射部62，对基板200照射紫外线。结果，分解附着在基板200表面的有机物及油分，提高基板200的涂敷性。然后，在药液处理部63、64，对基板200实施腐蚀等药液处理。
然后，在输送路155，对基板200进行一次水洗处理。在基板输送装置100上，变换基板200的输送方向，同时，将以倾斜姿势输送的基板200变换到水平姿势。然后，将基板200输送到一次水洗部65。在一次水洗部65，以水平姿势对基板200的表面进行水洗处理。进行一次水洗处理是为防止在干燥基板200的表面时，析出、附着杂质。所以，在本实施方式的基板输送装置100、101中，在输送基板200的同时，也能够从上方对基板200喷射纯水。
然后，将基板200输送到基板输送装置101。在本实施方式中，在输送路156，以倾斜姿势处理基板200。所以，在基板输送装置101内，在变换基板200的输送方向的同时，将以水平姿势输送的基板200变换到倾斜姿势。然后，将基板200输送到二次水洗部66、67。
之后，在二次水洗部66、67，用纯水清洗基板200的表面。然后，将基板200输送到气刀部68。在气刀部68，对基板200喷射幕状的空气。其后，由传送带69输送基板200，利用输送装置(未图示)将基板200收纳在基板箱C内。从分转部60输出收纳有多张处理后的基板200的基板箱C。
下面，详细说明基板输送装置100、101。另外，基板输送装置100和基板输送装置101具有大致相同的结构。以下，先说明基板输送装置100。
图2是基板输送装置100的横剖视图。在图2中，在水平面内垂直的2个方向设为X方向及Y方向，将竖直方向设为Z方向。
图2所示的基板输送装置100具有输送室30。输送室30由与Y方向平行的一对侧壁30a、30c及与X方向平行的一对侧壁30b、30d形成。在输送室30的侧壁30a上设有基板输入口33，在输送室30的侧壁30b上设有基板输出口34。
基板输送装置100，变换从基板输入口33沿X方向送入在输送室30内的基板200的方向，从基板输出口34，向Y方向送出基板200。
在输送室30内，沿Y方向配置多个输送轴10，沿X方向配置多个输送轴20。在各输送轴10上，按大致等间隔设置多个小型输送辊11。在各输送轴20上，按大致等间隔设置多个大型输送辊21。
由支持部件12a可旋转地支持多个输送轴10的一端附近，由支持部件15a可旋转地支持多个输送轴10的另一端附近。在输送轴10的一端分别安装磁圆板8a。
由支持部件12b可旋转地支持多个输送轴20的一端附近，由支持部件15b可旋转地支持多个输送轴20的另一端附近。在输送轴20的一端，分别安装磁圆板8b。
在输送室30的侧壁30d和周壁31围住的空间内，设置旋转驱动多个输送轴10的电机M1、传动皮带B1及多个磁圆板7a。夹侧壁30d，与磁圆板8a对向地配置各磁圆板7a。在电机M1的旋转轴和多个磁圆板7a之间，架设传动皮带B1，通过旋转电机M1的旋转轴，同一方向旋转多个磁圆板7a。
通过旋转磁圆板7a，而旋转磁圆板8a。由此，输送轴10与小型输送辊11一起旋转。结果，能够向X方向输送支持在小型输送辊11上的基板200。关于磁圆板7a及磁圆板8a的结构的详细情况见后述。
在输送室30的侧壁30d和周壁32围住的空间内，设置旋转驱动多个输送轴20的电机M2、传动皮带B2及多个磁圆板7b。夹侧壁30c，与磁圆板8b对向地配置各磁圆板7b。在电机M2的旋转轴和多个磁圆板7b之间，架设传动皮带B2，通过旋转电机M2的旋转轴，同一方向旋转多个磁圆板7b。
通过旋转磁圆板7b，而旋转磁圆板8b。由此，输送轴20与大型输送辊21一起旋转。结果，能够向Y方输送支持在大型输送辊21上的基板200。关于磁圆板7b及磁圆板8b的结构的详细情况见后述。
图3及图4是图2的基板输送装置100的A-A线剖视图。图3表示以倾斜姿势支持基板200的状态，图4表示以水平姿势支持基板200的状态。
在支持台13的上方，由支持部件12a可旋转地支持输送轴10的一端附近。在支持台13的上方，由支持部件15a可旋转地支持输送轴10的另一端附近。
此外，由支持轴13A可旋转地支持支持台13的一端。由气缸16可上下移动地支持支持台13的另一端。气缸16的活塞16a的顶端安装在支持台13的下面。
如图3所示，在增加气缸16的活塞16a的突出量时，支持台13以支持轴13A为中心，向箭头R10的方向旋转。由此，输送轴10呈倾斜状态。在此状态下，输送轴10的小型输送辊11的顶部位于输送轴20的大型输送辊21顶部的上方。所以，能够由小型输送辊11以倾斜姿势支持基板200。
此外，如图3所示，在输送室30的侧壁30d的局部，设置从竖直方向稍微倾斜的倾斜壁30e。磁圆板8a与倾斜壁30e的内面平行对向。此外，磁圆板7a，与倾斜壁30e的外面平行对向地安装在轴76a上。由此，磁圆板8a，夹倾斜壁30e，与磁圆板7a对向。所以，如果通过传动皮带B1，与轴76a一起旋转磁圆板7a，能够利用作用于磁圆板7a和磁圆板8a之间的磁力，与磁圆板8a一起旋转输送轴10。
如图4所示，在减小气缸16的活塞16a的突出量时，支持台13以支持轴13A为中心，向箭头R11的方向旋转。由此，输送轴10呈水平状态。在此状态下，基板200的大型输送辊21的顶部位于输送轴10的小型输送辊11顶部的上方。所以，能够由大型输送辊21以水平姿势支持基板200。
此时，设在输送轴10一端的磁圆板8a向远离倾斜壁30e的方向移动。由此，加大磁圆板7a和磁圆板8a之间的距离，不向磁圆板7a和磁圆板8a之间作用磁力。所以，即使通过传动皮带B1旋转磁圆板7a，也不旋转磁圆板8a。结果，输送轴10及小型输送辊11都不旋转。
图5是图2的基板输送装置100的B-B线剖视图。
在支持台13B的上方，由支持部件12b可旋转地支持输送轴20的一端附近，在支持台13B的上方，由支持部件15b可旋转地支持输送轴20的另一端附近。支持台13B以水平状态固定在侧壁30a、30c上。由此，输送轴20b呈水平状态。
磁圆板8b与侧壁30c的内面平行对向。此外，磁圆板7b，与侧壁30c的外面平行对向地安装在轴76b上。由此，磁圆板8b，夹侧壁30c，与磁圆板7b对向。所以，如果通过传动皮带B2，与轴76b一起旋转磁圆板7b，能够利用作用于磁圆板7b和磁圆板8b之间的磁力，与输送轴20b一起旋转磁圆板8b。
下面，根据图6说明磁圆板7a和磁圆板8a的构成。图6是表示磁圆板的内部结构的图。图6(a)是磁圆板的横剖视图，图6(b)是图6(a)的磁圆板的D-D线的剖视图，图6(c)是夹持倾斜壁30e地对向的磁圆板的侧面图。
如图6(a)、(b)所示，在磁圆板7a的内部，呈圆形状交替设置在一面具有S极、在另一面具有N极的磁铁71，及在一面具有N极、在另一面具有S极的磁铁72。磁圆板8a的结构与磁圆板7a的结构相同。
此外，如图6(b)所示，磁圆板7a由螺栓77a固定在旋转轴10的端面。
在本发明的实施方式中，磁圆板7a由非磁性体形成。例如，可以采用PTFE(四氟化乙烯)、PCTFE(三氟化乙烯)等氟树脂、PVC(聚氯乙烯)等树脂、或钛、铝、不锈钢等非磁性体的金属或合金。此外，举例了上述的非磁性体的金属或合金，但并局限于此，也可以采用其他非磁性体。
如图6(c)所示，磁圆板7a与倾斜壁30e的一面对向，磁圆板8a与倾斜壁30e的另一面对向。
此时，图2的电机M1产生的旋转运动，借助传动皮带B1，传递给轴76a，旋转磁圆板7a。利用磁铁吸引磁圆板7a的内部的磁铁71和磁圆板8a的内部的磁铁82，利用磁铁吸引磁圆板7a的内部的磁铁72和磁圆板8a的内部的磁铁81。由此，与输送轴10一起旋转磁圆板8a。
另外，倾斜壁30e的由磁圆板7a和磁圆板8a夹持的部分，为增大磁圆板7a和磁圆板8a之间的磁力作用，其厚度小于其它部分的侧壁30d的厚度。
下面，说明磁圆板7a和磁圆板8a之间的旋转力的传递及隔断。
图7(a)是表示将磁圆板7a的旋转力传递给磁圆板8a的状态的图，图7(b)是表示不将磁圆板7a的旋转力传递给磁圆板8a的状态的图。
如图3所示，在倾斜输送轴10的状态下，如图7(a)所示，由于磁圆板7a和磁圆板8a之间的距离小于，在磁圆板7a的磁铁71和磁圆板8a的磁铁82之间作用引力的界限的距离及在磁圆板7a的磁铁72和磁圆板8a的磁铁81之间作用引力的界限的距离，所以，磁圆板7a的旋转力能够确实传递给磁圆板8a。
如图4所示，在水平保持输送轴10的状态下，由于磁圆板7a和磁圆板8a之间的距离大于，在磁圆板7a的磁铁71和磁圆板8a的磁铁82之间作用引力的界限的距离及在磁圆板7a的磁铁72和磁圆板8a的磁铁81之间作用引力的界限的距离，所以，磁圆板7a的旋转力不能传递给磁圆板8a。
如此，在本发明的实施方式中，不同于以往的基板输送装置，不需要电机M1、M2及传动皮带B1、B2都从倾斜姿势向水平姿势变换，能够简化结构，能够实现节省空间及低成本化。
图8是说明图2～图5的基板输送装置100的动作的立体图。图8(a)表示倾斜输送轴10的状态，图8(b)表示输送轴呈水平的状态。
如图8(a)所示，在气缸16的活塞16a的突出量达到最大时，以相对X-Y平面(水平面)的倾斜角度θ的状态支持多个输送轴10。此时，通过旋转多个输送轴10，由输送轴10的小型输送辊11，向X方向输送基板200。另外，在图8中，省略小型输送辊11的图示。
如果将基板200输送到规定的位置，如图8(b)所示，缓慢减小气缸16的活塞16a的突出量，多个输送轴10从倾斜角度θ的状态向与X-Y平面平行的状态转换。
如图8(c)所示，气缸16的活塞16a的突出量一达到最小，多个输送轴10就形成与X-Y平面平行的状态。由此，输送轴10的小型输送辊11的外周面的顶部位于大型输送辊21的外周面的顶部的下方。结果，由输送轴10的小型输送辊11支持的基板200被大型输送辊21支持。所以，能通过旋转大型输送辊21，向Y方向输出基板200。
在本实施方式的基板输送装置100中，由于不需要为了将M2的旋转力传递给输送轴10、20而在侧壁30a～30d上设孔，所以，能够防止向输送室30的外部泄漏含有处理液的环境气体。
此外，在本实施方式的基板输送装置100中，由于将向输送轴10、20传递电机M1、M2的旋转力的传递机构设在输送室30的外面，所以，能够防止从传递机构产生的磨损粉附着在基板200上。此外，在利用基板输送装置100变换基板200的姿势时，也不产生由磁圆板7a、7b、8a、8b造成的振动。所以，不妨碍基板200的均匀处理。
另外，由于将向输送轴10、20传递电机M1、M2的旋转力的传递机构设在输送室30的外面，所以，不需要在输送室30内置置收纳润滑剂的容器，也就不需要向输送室30内补给润滑剂。因此，能够削减部件个数，同时，简化输送室30内的结构。所以，能够实现基板输送装置100的小型化及空间节省化。
此外，在倾斜姿势时，基板200的整面由小型输送辊11支持，在水平姿势时，基板200的整面由大型输送辊21支持。由此，能够防止在基板200产生上因自重造成的弯曲，同时防止对基板200局部施加过度的负荷。
此外，由于向所有的小型输送辊11及大型输送辊21传递旋转力，所以，能够防止基板200的不良输送。因此，能够不变形、不破损地将基板200从倾斜规定角度θ的倾斜姿势变换到水平姿势，同时，能够将基板200的输送方向从X方向转换到Y方向。
在本实施方式的基板输送装置100中，能够以不对基板200局部施加过度负荷的方式，将基板200的输送方向从X方向转换到Y方向。此外，在从倾斜姿势变换到水平姿势时，能够降低气缸95的冲程量。所以，能够实现基板输送装置100的小型化及空间节省化。
在本实施方式中，输送轴10相当于多个第1旋转轴，小型输送辊11相当于第1辊，输送轴10及小型输送辊11相当于第1辊部件，输送轴20相当于多个第2旋转轴，大型输送辊21相当于第2辊，输送轴20及大型输送辊21相当于第2辊部件，侧壁30a～30d相当于壁部，电机M1、M2及传动皮带B1、B2相当于旋转驱动机构，磁圆板7a、7b、8a、8b相当于传递机构，磁圆板7a、7b相当于第1传递部件，磁圆板8a、8b相当于第2传递部件，磁铁71、81和磁铁72、82相当于多个第1磁铁及多个第2磁铁，气缸16及活塞16a相当于状态变换机构。
(第2实施方式)第2实施方式的基板输送装置，变换以水平姿势输入的基板的输送方向，同时，以水平姿势输出基板。以下，说明第2实施方式的基板处理装置的基板输送装置100a。
图9是基板输送装置100a的横剖视图。在图9中，在水平面内垂直的2方向设为X方向及Y方向，竖直方向设为Z方向。
图9所示的基板输送装置100a具有输送室30。输送室30由与Y方向平行的一对侧壁30a、30c及与X方向平行的一对侧壁30b、30d形成。在输送室30的侧壁30a上设有基板输入口33，在输送室30的侧壁30b上设有基板输出口34。
基板输送装置100a，变换从基板输入口33沿X方向送入输送室30内的基板200的方向，从基板输出口34沿Y方向送出基板200。
在输送室30内，沿Y方向配置多个输送轴10，沿X方向配置多个输送轴20。在各输送轴10上，按大致等间隔设置多个小型输送辊11。在各输送轴20上，按大致等间隔设置多个大型输送辊21。
多个输送轴10的一端可旋转地支持在侧壁30d上，多个输送轴10的另一端可旋转地支持在侧壁30b上。在多个输送轴10的一端分别安装磁圆板8a。
由支持部件12c可旋转地支持多个输送轴20的一端附近，由支持部件15c可旋转地支持多个输送轴20的另一端附近。支持部件12c及支持部件15c由支持部件12d及支持部件15d支持。在输送轴20的一端附近，分别安装磁圆板8b。
在输送室30的侧壁30d和周壁31围住的空间内，设置旋转驱动多个输送轴10的电机M2、传动皮带B1及多个磁圆板7a。夹侧壁30d，与磁圆板8a对向地配置各磁圆板7a。在电机M1的旋转轴和多个磁圆板7a之间，架设传动皮带B1，通过旋转电机M1的旋转轴，同一方向旋转多个磁圆板7a。
通过旋转磁圆板7a，旋转磁圆板8a。由此，输送轴10与小型输送辊11一起旋转。结果，能够向X方向输送支持在小型输送辊11上的基板200。
在输送室30的侧壁30c和周壁32围住的空间内，设置旋转驱动多个输送轴20的电机M2、传动皮带B2及多个磁圆板7b。夹侧壁30c，与磁圆板8b对向地配置各磁圆板7b。在电机M2的旋转轴和多个磁圆板7b之间，架设传动皮带B2，通过旋转电机M2的旋转轴，而同一方向旋转多个磁圆板7b。
通过旋转磁圆板7b，旋转磁圆板8b。由此，输送轴20与大型输送辊21一起旋转。结果，能够向Y方输送支持在大型输送辊21上的基板200。
图10及图11是图9的基板输送装置100a的C-C线剖视图。图10表示由小型输送辊11支持基板200的状态，图11表示由大型输送辊21支持基板200的状态。
输送轴20由支持部件15c支持。支持部件15c的一端附近，在支持台13的上方，由支持部件12d可旋转地支持。支持部件15c的另一端附近，在支持台13的上方，由支持部件15d可旋转地支持。
此外，由支持轴13A可旋转地支持支持台13的一端。由气缸16可上下移动地支持支持台13的另一端。气缸16的活塞16a的顶端安装在支持台13的下面。
如图10所示，在减小气缸16的活塞16a的突出量时，支持台13以支持轴13A为中心，向箭头R11的方向旋转。由此，支持部件15c呈倾斜状态。在此状态下，输送轴10的小型输送辊11的顶部位于输送轴20的大型输送辊21顶部的上方。所以，能够由小型输送辊11以水平姿势支持基板200。
此外，如图10所示，磁圆板8a与输送室30的侧壁30d的内面平行对向。此外，磁圆板7a，与侧壁30d的外面平行对向地安装在轴76a上。由此，磁圆板8a，夹侧壁30d，与磁圆板7a对向。所以，如果通过传动皮带B1，与轴76a一起旋转磁圆板7a，能够利用作用于磁圆板7a和磁圆板8a之间的磁铁，使磁圆板8a与输送轴10一起旋转。
如图11所示，在增加气缸16的活塞16a的突出量时，支持台13以支持轴13A为中心，向箭头R10的方向旋转。由此，支持部件15c呈水平状态。在此状态下，基板200的大型输送辊21的顶部位于输送轴10的小型输送辊11顶部的上方。所以，能够由大型输送辊21以水平姿势支持基板200。
图12及图13是图9的基板输送装置100a的D-D线剖视图。图12表示由小型输送辊11支持基板200的状态，图13表示由大型输送辊21支持基板200的状态。
在支持台13B的上方，由支持部件12c可旋转地支持输送轴20的一端附近，在支持台13B的上方，由支持部件15c可旋转地支持输送轴20的另一端附近。在支持台13B的下方设置气缸16。
磁圆板8b与侧壁30c的内面平行对向。此外，磁圆板7b，与侧壁30c的外面平行对向地安装在轴76b上。
如图12所示，在减小气缸16的活塞16a的突出量时，加大磁圆板7b和磁圆板8b之间的距离，不向磁圆板7b和磁圆板8b之间作用磁力。所以，即使通过传动皮带B2旋转磁圆板7b，也不会使磁圆板8b旋转。结果，输送轴20及大型输送辊21都不旋转。
另外，如图13所示，在增加气缸16的活塞16a的突出量时，磁圆板8b夹侧壁30c，与磁圆板7b平行对向。所以，如果利用传动皮带B2，磁圆板7b与轴76b一起旋转，通过向磁圆板7b和磁圆板8b之间作用磁力，磁圆板8b能够与输送轴20及大型输送辊21一起旋转。
关于本实施方式的磁圆板7a、7b、8a、8b的内部结构，与第1实施方式的磁圆板7a、7b、8a、8b的内部结构相同。
下面，说明本实施方式的基板输送装置100a的磁圆板7b和磁圆板8b之间的旋转力的传递及隔断。
图14(a)是表示将磁圆板7b的旋转力传递给磁圆板8b的状态的图，图14(b)是表示不将磁圆板7b的旋转力传递给磁圆板8b的状态的图。
如图10及图12所示，在支持部件15c倾斜的状态下，如图14(a)所示，上下错开配置磁圆板7b和磁圆板8b。因此，由于磁圆板7b和磁圆板8b间的距离大于，在磁圆板7b的磁铁71和磁圆板8b的磁铁82之间作用引力的界限的距离及在磁圆板7b的磁铁72和磁圆板8b的磁铁81之间作用引力的界限的距离，所以，不能将磁圆板7b的旋转力传递给磁圆板8b。
如图11及图13所示，在支持部件15c为水平状态下，如图14(b)所示，磁圆板7b和磁圆板8b配置在可对向的位置。由于磁圆板7b和磁圆板8b之间的距离小于，在磁圆板7b的磁铁71和磁圆板8b的磁铁82之间作用引力的界限的距离及在磁圆板7b的磁铁72和磁圆板8b的磁铁81之间作用引力的界限的距离，所以，能可靠地将磁圆板7b的旋转力传递给磁圆板8b。
在本实施方式的基板输送装置100a中，由于不需要为了将M1、M2的旋转力传递给输送轴10、20而在侧壁30a～30d上设孔，所以，能够防止向输送室30的外部泄漏含有处理液的环境气体。
此外，在本实施方式的基板输送装置100a中，由于将向输送轴10、20传递电机M1、M2的旋转力的传递机构设在输送室30的外面，所以，能够防止从传递机构产生的磨损粉附着在基板200上。此外，在利用基板输送装置100a变换基板200的姿势时，也不产生由磁圆板7a、7b、8a、8b造成的振动。所以，不妨碍基板200的均匀处理。
另外，由于将向输送轴10、20传递电机M1、M2的旋转力的传递机构设在输送室30的外面，所以，不需要在输送室30内置置收纳润滑剂的容器，也就不需要向输送室30内补给润滑剂。因此，能够削减部件个数，同时，简化输送室30内的结构。此外，在从倾斜姿势变换到水平姿势时，能够降低气缸95的冲程量。所以，能够实现基板输送装置100的小型化及空间节省化。
此外，在水平姿势时，基板200的整面由小型输送辊11或大型输送辊21支持。由此，能够防止在基板200上产生因自重造成的弯曲，同时防止对基板200局部施加过度的负荷。
此外，由于向所有的小型输送辊11及大型输送辊21传递旋转力，所以，能够防止基板200的不良输送。因此，能够不变形、不破损基板200地，将基板的输送方向从X方向转换到Y方向。
在本实施方式中，输送轴10相当于多个第1旋转轴，小型输送辊11相当于第1辊，输送轴10及小型输送辊11相当于第1辊部件，输送轴20相当于多个第2旋转轴，大型输送辊21相当于第2辊，输送轴20及大型输送辊21相当于第2辊部件，侧壁30a～30d相当于壁部，电机M1、M2及传动皮带B1、B2相当于旋转驱动机构，磁圆板7a、7b、8a、8b相当于传递机构，磁圆板7a、7b相当于第1传递机构，磁圆板8a、8b相当于第2传递部件，磁铁71、81和磁铁72、82相当于多个第1磁铁及多个第2磁铁，气缸16及活塞16a相当于状态变换机构。
(第3实施方式)第3实施方式的基板输送装置，变换以水平姿势输入的基板的姿势，同时，以倾斜姿势输出基板。以下，说明第3实施方式的基板处理装置的基板输送装置100b。
图15是基板输送装置100b的横剖视图。在图15中，在水平面内垂直的2方向设为X方向及Y方向，竖直方向设为Z方向。
图15所示的基板输送装置100b具有输送室30。输送室30由与Y方向平行的一对侧壁30a、30c及与X方向平行的一对侧壁30b、30d形成。在输送室30的侧壁30a上设有基板输入口33，在输送室30的侧壁30c上设有基板输出口34。
基板输送装置100b，变换从基板输入口33，以水平姿势送入输送室30内的基板200的姿势，从基板输出口34以倾斜姿势送出基板200。
在输送室30内，沿Y方向配置多个输送轴10b，沿Y方向也配置多个输送轴20b。在各输送轴10b上，按大致等间隔设置多个输送辊11b。在各输送轴20b上，按大致等间隔设置多个输送辊21b。
由支持部件12f可旋转地支持多个输送轴10b的一端附近，由支持部件15f可旋转地支持多个输送轴10b的另一端附近。在输送轴10b的一端附近，分别安装磁圆板8a。
由支持部件12g可旋转地支持多个输送轴20b的一端附近，由支持部件15g可旋转地支持多个输送轴20b的另一端附近。在输送轴20b的一端附近，分别安装磁圆板8b。
在输送室30的侧壁30d和周壁31围住的空间内，设置旋转驱动多个输送轴10b的电机M1、传动皮带B1及多个磁圆板7a。夹侧壁30d，与磁圆板8a对向地配置各磁圆板7a。在电机M1的旋转轴和多个磁圆板7a之间，架设传动皮带B1，通过旋转电机M1的旋转轴，使多个磁圆板7a同一方向旋转。
通过旋转磁圆板7a，而磁圆板8a旋转。由此，输送轴10b与输送辊11b一起旋转。结果，能够以倾斜姿势输送支持在输送辊11b上的基板200。另外，磁圆板7a、8a的结构的详细情况与第1实施方式的磁圆板7a、8a的结构相同。
在输送室30的侧壁30d和周壁32围住的空间内，设置旋转驱动多个输送轴20b的电机M2、传动皮带B2及多个磁圆板7b。夹侧壁30c，与磁圆板8b对向地配置各磁圆板7b。在电机M2的旋转轴和多个磁圆板7b之间，架设传动皮带B2，通过旋转电机M2的旋转轴，使多个磁圆板7b同一方向旋转。
通过旋转磁圆板7b，而使磁圆板8b旋转。由此，输送轴20b与输送辊21b一起旋转。结果，能够以水平姿势输送支持在输送辊21b上的基板200。另外，磁圆板7b、8b的结构的详细情况与第1实施方式的磁圆板7b、8b的结构相同。
图16及图17是图15的基板输送装置100b的E-E线剖视图。图16表示由输送辊21b支持基板200的状态，图17表示由输送辊11b支持基板200的状态。
在支持台13的上方，由支持部件12e可旋转地支持输送轴20b的一端附近。在支持台13的上方，由支持部件15e可旋转地支持输送轴20b的另一端。
此外，由支持轴13A可旋转地支持支持台13的一端。由气缸16可上下移动地支持支持台13的另一端。气缸16的活塞16a的顶端安装在支持台13的下面。
如图16所示，在减小气缸16的活塞16a的突出量时，支持台13以支持轴13A为中心，向箭头R11的方向旋转。由此，支持部件12f呈水平状态。在此状态下，输送轴20b的输送辊21b的顶部位于输送轴10b的输送辊11b的顶部的上方。所以，能够由输送辊21b以水平姿势支持基板200。
此时，设在输送轴20b一端的磁圆板8b和磁圆板7b，夹侧壁30b相对向，在磁圆板8b和磁圆板7b之间作用磁力。所以，在通过传动皮带B2旋转磁圆板7b时，使磁圆板8b旋转，与输送轴20b一起旋转输送辊21b。
此外，如图17所示，在增加气缸16的活塞16a的突出量时，支持台13以支持轴13A为中心，向箭头R10的方向旋转。由此，支持部件12f呈倾斜姿势。在此状态下，输送轴20b的输送辊21b的顶部位于输送轴10b的输送辊11b的顶部的下方。所以，能够由输送辊11b以倾斜姿势支持基板200。
此时，设在输送轴10b一端的磁圆板8a和磁圆板7a，夹侧壁30d对向，在磁圆板8a和磁圆板7a之间作用磁力。所以，在通过传动皮带B1旋转磁圆板7a时，使磁圆板8a旋转，与输送轴10b一起旋转输送辊11b。
在本实施方式的基板输送装置100b中，由于不需要为了将M1、M2的旋转力传递给输送轴10、20而在侧壁30a～30d上设孔，所以，能够防止向输送室30的外部泄漏含有处理液的环境气体。
此外，在本实施方式的基板输送装置100b中，由于将向输送轴10b、20b传递电机M1、M2的旋转力的传递机构设在输送室30的外面，所以，能够防止从传递机构产生的磨损粉附着在基板200上。此外，在利用基板输送装置100b变换基板200的姿势时，也不产生磁圆板7a、7b、8a、8b造成的振动。所以，不妨碍基板200的均匀处理。
另外，由于将向输送轴10b、20b传递电机M1、M2的旋转力的传递机构设在输送室30的外面，所以，不需要在输送室30内置置收纳润滑剂的容器，也就不需要向输送室30内补给润滑剂。因此，能够削减部件个数，同时，简化输送室30内的结构。此外，在将基板200从倾斜姿势变换到水平姿势时，能够降低气缸95的冲程量。所以，能够实现基板输送装置100b的小型化及空间节省化。
此外，在倾斜姿势下，基板200的整面由输送辊11b支持，在水平姿势下，基板200的整面由大型输送辊21b支持。由此，能够防止在基板200上产生因自重造成的弯曲，同时防止对基板200局部施加过度的负荷。
此外，由于向所有的输送辊11b及输送辊21b传递旋转力，所以，能够防止基板200的不良输送。因此，能够不变形、不破损基板200地，将基板的输送方向从水平姿势转换到规定角度θ的倾斜姿势。
另外，在本实施方式中，相对于水平面，以支持轴13A为中心，旋转支持部件12f，但也可以上下移动支持部件12f。
在本实施方式中，输送轴10相当于多个第1旋转轴，小型输送辊11相当于第1辊，输送轴10及小型输送辊11相当于第1辊部件，输送轴20相当于多个第2旋转轴，大型输送辊21相当于第2辊，输送轴20及大型输送辊21相当于第2辊部件，侧壁30、30a～30d相当于壁部，电机M1、M2及传动皮带B1、B2相当于旋转驱动机构，磁圆板7a、7b、8a、8b相当于传递机构，磁圆板7a、7b相当于第1传递部件，磁圆板8a、8b相当于第2传递部件，磁铁71、81和磁铁72、82相当于多个第1磁铁及多个第2磁铁，气缸16及活塞16a相当于状态变换机构。
权利要求
1.一种基板输送装置，用于输送基板，其特征在于包括具有壁部的输送室，可旋转地设在上述输送室内、支持基板的第1辊部件，通过移动或倾斜上述第1辊部件，而将上述第1辊部件变换成第1状态及第2状态的状态变换机构，设在上述输送室外、产生旋转力的旋转驱动机构，以及利用磁力将由上述旋转驱动机构产生的旋转力传递给上述第1辊部件的传递机构；上述传递机构，包括与上述壁部对向地配置在上述输送室外、利用由上述旋转驱动机构产生的旋转力而旋转的第1传递部件，以及可与上述第1辊部件一起旋转地设在上述输送室内的第2传递部件；在上述第1辊部件处于上述第1状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间传递旋转力的第1位置，在上述第1辊部件处于上述第2状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间不传递旋转力的第2位置。
2.如权利要求1所述的基板输送装置，其特征在于上述第2传递部件，在上述第1位置，夹上述壁部，与上述第1传递部件对向，在上述第2位置，与上述第1位置相比，远离上述第1传递部件。
3.如权利要求1所述的基板输送装置，其特征在于还具有可旋转地设在上述输送室内并支持基板的第2辊部件；以在上述第1辊部件处于上述第1状态时，基板被支持在上述第1辊部件上，在上述第1辊部件处于上述第2状态时，基板被支持在上述第2辊部件上的方式，设置上述第1辊部件及上述第2辊部件。
4.如权利要求3所述的基板输送装置，其特征在于上述第1状态为上述第1辊部件相对于水平面形成第1角度的状态，上述第2状态为上述第1辊部件相对于水平面形成不同于上述第1角度的第2角度的状态。
5.如权利要求3所述的基板输送装置，其特征在于上述第1辊部件和上述第2辊部件相互交叉设置。
6.如权利要求3所述的基板输送装置，其特征在于上述第1辊部件和上述第2辊部件相互大致平行地设置。
7.如权利要求1～6中的任意一项所述的基板输送装置，其特征在于上述第1传递部件具有与上述壁部对向的第1面及第1旋转轴，并且，内置多个沿以上述第1旋转轴为中心的圆周配置的第1磁铁；上述第2传递部件具有可与上述壁部对向的第2面及第2旋转轴，并且，内置多个沿以上述第2旋转轴为中心的圆周配置的第2磁铁。
8.如权利要求7所述的基板输送装置，其特征在于以在上述第1面交替形成N极及S极的方式，按等间距配置上述多个第1磁铁；以在第2面交替形成N极及S极的方式，按与上述多个第1磁铁相同的间距配置上述多个第2磁铁。
9.如权利要求7所述的基板输送装置，其特征在于上述第1传递部件的上述多个第1磁铁内置在非磁性部件内，上述第2传递部件的上述多个第2磁铁内置在非磁性部件内。
10.如权利要求9所述的基板输送装置，其特征在于上述第2传递部件的非磁性部件的至少外周面由树脂构成。
11.一种基板输送装置，用于输送基板，其特征在于包括可旋转地设置并支持基板的多个第1旋转轴，与上述多个第1旋转轴同心设置的第1辊，可旋转地设置并支持基板的多个第2旋转轴，以及与上述多个第2旋转轴同心设置的第2辊；在上述多个第2旋转轴的上方，以与上述多个第2旋转轴相互交叉的方式设置上述多个第1旋转轴；上述第1辊的直径小于上述第2辊的直径；还具有状态变换机构，其通过相对倾斜或移动上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴，而将上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴的位置关系变换为第1状态或第2状态；以在上述多个第1及第2旋转轴处于上述第1状态时，上述第1辊的顶部位于上述第2辊的顶部的上方，在处于上述第2状态时，上述第2辊的顶部位于上述第1辊的顶部的上方的方式，配置上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴。
12.如权利要求11所述的基板输送装置，其特征在于在上述第1状态下上述多个第1旋转轴相对于水平面形成的角度、与在上述第2状态下上述多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度不同。
13.如权利要求11所述的基板输送装置，其特征在于在上述第1状态下上述多个第1旋转轴相对于水平面形成的角度、与在上述第2状态下上述多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度相等。
14.如权利要求11～13中任意一项所述的基板输送装置，其特征在于还包括具有壁部的输送室，设在上述输送室外、产生旋转力的旋转驱动机构，以及利用磁力将由上述旋转驱动机构产生的旋转力传递给上述第1旋转轴的传递机构；上述第1旋转轴、上述第1辊、上述第2旋转轴及上述第2辊设在上述输送室内；上述传递机构，包括与上述壁部对向配置在上述输送室外并利用由上述旋转驱动机构产生的旋转力旋转的第1传递部件，以及可与上述第1旋转轴一起旋转地设在上述输送室内的第2传递部件；在上述多个第1及第2旋转轴处于上述第1状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间传递旋转力的第1位置，在上述多个第1及第2旋转轴处于上述第2状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间不传递旋转力的第2位置。
15.一种基板输送装置，用于输送基板，其特征在于包括可旋转地设置并支持基板的多个第1旋转轴，与上述多个第1旋转轴同心设置的第1辊，可旋转地设置并支持基板的多个第2旋转轴，以及与上述多个第2旋转轴同心设置的第2辊；上述多个第1旋转轴，与上述多个第2旋转轴大致相互平行地设置；还具有状态变换机构，其通过相对倾斜或移动上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴，而将上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴的位置关系变换为第1状态或第2状态；上述状态变换机构，以在上述多个第1及第2旋转轴为上述第1状态时上述第1辊的顶部位于上述第2辊的顶部的上方，在为上述第2状态时上述第2辊的顶部位于上述第1辊的顶部的上方的方式，相对移动或倾斜上述多个第1旋转轴和上述多个第2旋转轴。
16.如权利要求15所述的基板输送装置，其特征在于在上述第1状态下上述多个第1旋转轴相对于水平面形成的角度、与在上述第2状态下上述多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度不同。
17.如权利要求15所述的基板输送装置，其特征在于在上述第1状态下上述多个第1旋转轴相对于水平面形成的角度、与在上述第2状态下上述多个第2旋转轴相对于水平面形成的角度相等。
18.如权利要求15～17中任意一项所述的基板输送装置，其特征在于还包括具有壁部的输送室，设在上述输送室外、产生旋转力的旋转驱动机构，以及利用磁力将由上述旋转驱动机构产生的旋转力传递给上述第1旋转轴的传递机构；上述第1旋转轴、上述第1辊、上述第2旋转轴及上述第2辊设在上述输送室内；上述传递机构，包括与上述壁部对向地配置在上述输送室外、利用由上述旋转驱动机构产生的旋转力旋转的第1传递部件，以及可与上述第1旋转轴一起旋转地设在上述输送室内的第2传递部件；在上述多个第1及第2旋转轴处于上述第1状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间传递旋转力的第1位置，在上述多个第1及第2旋转轴处于上述第2状态时，上述第2传递部件位于在上述第1传递部件和上述第2传递部件之间不传递旋转力的第2位置。
全文摘要
一种基板输送装置，在气缸的突出量增加时，如果磁圆板旋转，则利用作用于磁圆板之间的磁力，使磁铁与输送轴一起旋转，以比X－Y平面倾斜规定角度的状态支持输送轴。通过旋转输送轴，而由输送轴的小型输送辊向X方向输送基板。在气缸的突出量减小时，设在输送轴一端的磁圆板向从倾斜壁远离的方向移动，不在磁电极圆板之间作用磁力。此外，从倾斜规定角度的状态，向与X－Y平面平行的状态转换输送轴。此时，输送轴的小型输送辊的外周面的顶部位于大型输送辊的外周面的顶部的下方。由此，由大型输送辊支持基板。
文档编号B65G47/22GK1532126SQ20041000707
公开日2004年9月29日 申请日期2004年2月27日 优先权日2003年3月19日
发明者小原茂, 冈田尚久, 长田直之, 南茂树, 久, 之 申请人:大日本网目版制造株式会社