为2mm，深为0.2mm的液流导流凹槽5，在Cis池I左侧面正中心，及正面、背面上距所在面中心平行向右13mm处开置直径为4臟，深为7mm的螺丝孔，依次为液流入口 6、液流出口 7、电极插口 8 ;在液流导流凹槽5的末端，分别开置竖直的直径为2_的圆柱形通道，并在液流入口 6、液流出口 7、电极插口 8位置向内开置直径为2mm圆柱形通道，这些圆柱形通道相连通为液流通道10，在Cis池I的底面，开置长方形边框状凹槽为粘合剂凹槽9，粘合剂凹槽9框长34mm，框宽15mm，槽宽2mm，槽深0.2mm。
[0032]参照图3，所述Trans池2为直径8mm、高15mm的PTFE或PEEK圆柱形结构件，外部也为M8细牙螺纹，螺距0.5mm，在Trans池2上面开置Trans腔室11，Trans腔室11为直径6mm，高13mm的圆柱形空腔，在Trans池2底部开置芯片凹槽12，芯片凹槽12为直径4mm，深0.2mm的圆柱形凹槽；在芯片凹槽12两边开有便于安装芯片及辅助导流的矩形辅助凹槽14，矩形辅助凹槽14宽2mm，深0.2mm，在Trans腔室11及芯片凹槽12之间设有连通小孔13，连通小孔13是直径最小处为Imm的锥孔结构，在孔的上侧做锥角处理。
[0033]本实用新型的工作原理为:
[0034]使用时，Trans池2的准备，将硅芯片没有氮化硅膜的一侧(氮化硅膜上含有纳米孔)粘合到芯片凹槽12处，氮化硅窗口与连通小孔13对齐；然后将盖玻片3通过粘合剂粘合到粘合剂凹槽9处；再将Trans池2旋进所述Trans池插槽4中；此时芯片上方为Trans腔室11，芯片下面与盖玻片3形成Cis腔室；将两个Ag/AgCl电极分别放在Trans腔室11内和电极插口 8中，到此完成组装。接下来，先在Trans腔室11内加入测试溶液，再将测试溶液从液流入口 6泵入；测试溶液流经液流通道10，进入液流导流凹槽5，到达Cis腔室，此处经娃芯片上的纳米孔与Trans腔室11相连通，溶液进一步经过液流导流凹槽5、液流通道10，从液流出口 7流出，进行单分子荧光成像时，测试溶液的流动可以降低荧光漂白的影响；而通过旋转调节Trans池2，可以满足TIRF显微镜物镜工作距离对Cis腔室的厚度要求。
【主权项】
1.一种荧光显微成像纳米孔检测池，包括CiS池(I)，其特征在于:Cis池(I)底部和盖玻片⑶连接，Trans池⑵连接在Cis池⑴中部，Trans池⑵的底面、Cis池⑴与盖玻片(3)的上面共同组成纳米孔检测的Cis腔室，荧光显微镜透过盖玻片(3)进行观察； 所述Cis池(I)为矩形结构件，在Cis池(I)中部开置Trans池插槽(4)，Trans池插槽(4)是一个圆柱形空腔，内部为细牙螺纹，Trans池插槽(4)与Trans池(2)配合使用，在Cis池(I)底面，以Trans池插槽(4)中心为起点沿Cis池(I)长度的方向上开置两段液流导流凹槽(5)，在Cis池(I)左侧面正中心，及正面、背面上距所在面中心偏离Trans池插槽(4)靠右位置处开置螺丝孔，依次为液流入口 ￠)、液流出口(7)、电极插口(8);在液流导流凹槽(5)的末端，分别开置竖直圆柱形通道，并在液流入口 ￠)、液流出口(7)、电极插口(8)位置向内开置圆柱形通道，这些圆柱形通道相连通为液流通道(10)，在Cis池(I)的底面，开置长方形边框状凹槽为粘合剂凹槽(9); 所述Trans池(2)为圆柱形结构件，夕卜部为细牙螺纹，在Trans池(2)上面开置Trans腔室(11)，Trans腔室(11)为圆柱形空腔，在Trans池⑵底部开置芯片凹槽(12)，芯片凹槽(12)为圆柱形凹槽；在芯片凹槽(12)两边开有便于安装芯片及辅助导流的矩形辅助凹槽(14)，在Trans腔室(11)及芯片凹槽(12)之间设有连通小孔(13)，连通小孔(13)是锥孔结构，在孔的上侧做锥角处理。
2.根据权利要求1所述的一种荧光显微成像纳米孔检测池，其特征在于:所述的Cis池(I)和Trans池⑵均为PTFE或者PEEK结构件，Cis池(I)的长30?120mm、宽20?80臟、高5?3Ctam，Trans池(2)的直径6?16臟、高10?35臟。
3.根据权利要求1所述的一种荧光显微成像纳米孔检测池，其特征在于:所述Trans池插槽⑷直径为6?16mm。
4.根据权利要求1所述的一种荧光显微成像纳米孔检测池，其特征在于:所述液流导流凹槽(5)长10?40mm宽I?4mm深为0.2?0.5臟。
5.根据权利要求1所述的一种荧光显微成像纳米孔检测池，其特征在于:所述液流入口(6)、液流出口(7)、电极插口(8)直径相同，直径为2?10_，需要和相应的接头配合使用。
6.根据权利要求1所述的一种荧光显微成像纳米孔检测池，其特征在于:所述液流通道(10)，直径为I?4mm。
7.根据权利要求1所述的一种荧光显微成像纳米孔检测池，其特征在于:所述粘合剂凹槽(9)的长方形框状的框长20?80mm，框宽8?35mm，凹槽宽度为I?4mm，深度0.2?0.5mmο
8.根据权利要求1所述的一种荧光显微成像纳米孔检测池，其特征在于:所述Trans腔室(11)直径4?14mm，高8?33mm。
9.根据权利要求1所述的一种荧光显微成像纳米孔检测池，其特征在于:所述芯片凹槽(12)直径为4?8謹，深0.2?0.5謹。
10.根据权利要求1所述的一种荧光显微成像纳米孔检测池，其特征在于:所述矩形辅助凹槽(14)宽I?4謹，深0.2?0.5謹。
【专利摘要】一种荧光显微成像纳米孔检测池，包括Cis池，Cis池底部和盖玻片连接，Trans池连接在Cis池中部，Trans池、Cis池与盖玻片共同组成纳米孔检测的Cis腔室；在Cis池中部开置Trans池插槽与Trans池配合使用，在Cis池底面开置两段液流导流凹槽，在Cis池开置液流入口、液流出口、电极插口，通过液流通道连通；Trans池外部为螺纹，在Trans池上面开置Trans腔室，底部开置芯片凹槽及矩形辅助凹槽，在Trans腔室及芯片凹槽之间设有连通小孔，本实用新型可放置在荧光显微镜载物台上，便于调节Cis腔室液膜厚度，降低实验过程中荧光漂白的影响，使荧光成像信号更稳定可靠。
【IPC分类】G01N21-05
【公开号】CN204575521
【申请号】CN201520169491
【发明人】李景虹, 刘广超, 张凌, 刘洋
【申请人】清华大学
【公开日】2015年8月19日
【申请日】2015年3月24日