述第二触控电极102在所述衬底基板105上的正投影的交叠处形成所述交叠的区域。
[0075]其中，所述第一方向和所述第二方向垂直。
[0076]进一步地，结合具体工艺，一种上述任一种触摸屏基板的制作方法的可选实施方式是:
[0077](I)采用派射工艺(sputter)在衬底基板105形成300nm厚度的金属层，然后通过构图工艺形成第一电极线1011以及第二电极线1012，所述构图工艺例如可以包括涂覆一层光刻胶，通过曝光形成光刻胶去除区域和光刻胶保留区域，所述光刻胶保留区域对应形成金属图形的区域即第一电极线和第二电极线的区域，所述光刻胶去除区域对应不形成金属图形的区域，之后显影去除光刻胶去除区域的光刻胶，进行刻蚀后得到第一电极线和第二电极线的图形，最后剥离第一电极线和第二电极线的图形上的光刻胶。所述构图工艺还可以为其他用来形成特定图形的工艺，本发明不做限定。其中第一电极线1011以及第二电极线1012的宽度控制在5um左右，例如4um?6um，实现不容易被人眼察觉的效果。
[0078](2)采用透明材料形成的绝缘层103，例如氮氧硅、氧化铝等。绝缘层103至少要包括第一触控电极101和第二触控电极102在衬底基板上的正投影的交叠区域，即所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影的交叠区域完全落入所述绝缘层在所述衬底基板上的正投影内。具体可以采用化学气相沉积形成绝缘层薄膜后通过构图工艺如曝光、显影、刻蚀等工艺形成所需的绝缘层103的图形。在构图工艺设计中还需注意对第一触控电极101的电极线的保护，防止电极线在后续刻蚀过程中被腐蚀。
[0079](3)最后在制备完成绝缘层103的衬底基板上进行第二触控电极102的制作，例如沉积一层氧化铟锡薄膜，其厚度约为45nm，之后通过构图工艺如曝光、显影、刻蚀等工艺形成第二触控电极102以及镂空区域的填充图形。考虑配合绑定(bonding)等后续工艺，如图1所示，第二触控电极102的边缘位置可以设计采用外扩的突出设计，例如第二触控电极102的边缘设置端子部件或者连接部件1021，以用于绑定(bonding)。
[0080](4)绑定柔性印刷电路板(Flexible Printed Circuit Board，FPCB)，用于驱动第一触控电极和第二触控电极以实现触控功能。
[0081]对于第二种制作方法，即先形成第二触控电极102然后形成第一触控电极101的具体工艺过程，除制作顺序以外与上述工艺流程类似，在此不做赘述。
[0082]本领域技术人员可以对上述步骤进行改动和优化，例如，在步骤(I)之前，可以利用一次构图工艺形成一层黑矩阵，具体流程为:沉积黑矩阵层，然后通过曝光、显影等工艺形成。该黑矩阵可以位于衬底基板105的边缘位置，用于遮盖柔性印刷电路板与触摸屏基板的导线。
[0083]显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种触摸屏基板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的第一触控电极和第二触控电极，其特征在于，所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影有交叠，所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影交叠的区域设置有绝缘层以阻隔所述第一触控电极和所述第二触控电极接触。2.根据权利要求1所述的触摸屏基板，其特征在于，所述第一触控电极包括横纵交叉的第一电极线形成的矩形网格状结构，所述第一电极线围成多个镂空区域。3.根据权利要求2所述的触摸屏基板，其特征在于，所述第一触控电极还包括在第二方向延伸的第二电极线，多个所述矩形网格状结构与多个所述第二触控电极在第一方向上延伸并间隔设置，多个所述矩形网格状结构由第二电极线连接，所述第二电极线与所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影有交叠形成所述交叠的区域，其中所述第一方向和所述第二方向垂直。4.根据权利要求3所述的触摸屏基板，其特征在于，所述第一电极线和所述第二电极线一体形成，所述第一电极线和所述第二电极线包括金属材料，所述金属材料包括钼、银、钛、铜、铝的任意一种。5.根据权利要求2所述的触摸屏基板，其特征在于，所述第二触控电极包括透明导电材料，所述透明导电材料包括氧化铟锡、氧化铟锌、石墨烯的任意一种。6.根据权利要求5所述的触摸屏基板，其特征在于，所述镂空区域填充有与所述第二触控电极相同的材料。7.根据权利要求1所述的触摸屏基板，其特征在于，所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影的交叠区域完全落入所述绝缘层在所述衬底基板上的正投影内，且所述绝缘层的面积大于或等于所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影交叠的区域面积。8.根据权利要求3所述的触摸屏基板，其特征在于，所述第一电极线和/或第二电极线宽度范围为4um_6um。9.根据权利要求1-8任一项所述的触摸屏基板，其特征在于，所述第一触控电极设置为发射极，所述第二触控电极设置为接收极；或者所述第一触控电极设置为接收极，所述第二触控电极设置为发射极。10.一种触摸屏面板，其特征在于，所述触摸屏面板包括权利要求1-9任一项所述的触摸屏基板。11.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1-9任一项所述的触摸屏基板。12.一种触摸屏基板的制备方法，其特征在于，包括: 在衬底基板上形成第一触控电极； 在所述第一触控电极上方形成绝缘层； 在所述绝缘层上方形成第二触控电极；或者， 在衬底基板上形成第二触控电极； 在所述第二触控电极上方形成绝缘层； 在所述绝缘层上方形成第一触控电极； 其中，所述第一触控电极与所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影有交叠，所述绝缘层形成在所述第一触控电极与所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影交叠的区域以阻隔所述第一触控电极和所述第二触控电极接触。13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，具体包括: 通过第一次构图工艺形成第一触控电极，所述第一触控电极包括横纵交叉的第一电极线构成的矩形网格状结构以及连接多个所述矩形网格状结构的第二电极线，所述矩形网格状结构在第一方向上延伸，所述第二电极线在第二方向上延伸，所述第一电极线围成多个镂空区域； 通过第二次构图工艺形成绝缘层； 通过第三次构图工艺形成第二触控电极，所述第二触控电极在第一方向上延伸且与所述矩形网格状结构间隔设置，所述第二电极线与所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影的交叠处形成所述交叠的区域； 其中，所述第一方向和所述第二方向垂直。14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，还包括:在所述第一电极线围成的多个镂空区域中填充导电材料。15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于， 通过同一次构图工艺形成所述第二触控电极以及在所述镂空区域中填充导电材料。
【专利摘要】本申请公开了一种触摸屏基板及其制作方法、触摸屏面板和显示装置，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的第一触控电极和第二触控电极，所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影有交叠，所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影交叠的区域设置有绝缘层以阻隔所述第一触控电极和所述第二触控电极接触，从而可以避免金属刻蚀触控电极时出现金属尖，以及当金属架桥时，ITO与金属搭接处过细容易出现阻抗偏大的问题，实现工艺简单，触控优良的效果。
【IPC分类】G06F3/041
【公开号】CN104932752
【申请号】CN201510395802
【发明人】曾亭, 陈军涛, 胡明, 谢涛峰, 丁贤林, 杨忠正, 李可丰, 王文龙
【申请人】合肥鑫晟光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年9月23日
【申请日】2015年7月6日