专利名称：基板输送装置的制作方法
技术领域：
基板输送装置
技术领域：
本实用新型是关于一种基板输送装置，特别是关于一种可避免蚀刻液蓄积于该基
板上的输送装置。背景技术：
电路基板在制作的过程中，是设于一输送装置上，利用该输送装置带动基板移动至清洗或蚀刻等各种不同制程的设备处进行加工。 参见图8所示，为一现有技术的基板输送装置60，其主要包含有以上、下双层交叠的方式横向排列的数根输送轮轴61，该输送轮轴61上固设有若干输送轮62，前述基板70夹合于上、下层的输送轮62之间，当输送轮轴61受动力驱动而转动时，可进而带动该基板70移动。然而，对于电路成型精度要求高的基板70来说，过多的输送轮62会妨碍蚀刻液均匀地喷洒于该基板70上，且输送轮62的压抵还会损坏已成型的电路。[0004] 进一步参见图9所示，在现有技术中，已有人设计出利用仅于两端及中央处分别设有一输送轮62A的输送轮轴61A来支撑并带动基板70移动，以减少基板70与输送轮62A间的接触。 只是对于硬质的大型基板70来说，由于其厚度相对长度与宽度来说较薄，造成该基板70虽为硬质板材，却又会如软质板材般容易形成波浪状的弯曲；缘此，当蚀刻液喷洒于基板70上后，在该作为支撑的二相邻输送轮62A之间会下垂而形成凹弧面，造成蚀刻液积存于该凹弧面间，而蚀刻液的重量又使得基板70进一步下凹，在蚀刻液无法顺利排除之下，便会对该基板70上的电路产生过蚀的现象，造成基板70的瑕疵，从而提高了该基板70制程不良率。
实用新型内容
有鉴于前述现有技术的缺点，本实用新型提供一种基板输送装置，借此设计解决目前现有技术的基板输送装置会造成蚀刻液蓄积在该基板上的缺点。 为了达到上述的实用新型目的，本实用新型所利用的技术手段是使一基板输送装
置包括有 —蚀刻槽； 数根输送轮轴，其是横向且间隔排列地枢设于该蚀刻槽的两相对壁面之间，且可受动力驱动，每一输送轮轴上靠近两端处分别固设有一输送轮；及 至少一抬升组件，其是纵向跨设各输送轮轴的中段处，每一抬升组件包含有一枢接座及至少一滚轮，该枢接座顶面设有两相对侧壁，该滚轮枢设于该侧壁之间，枢接座底部间隔内凹成型有数个凹槽，该凹槽对应设置于该输送轮轴上。 本实用新型的优点在于，利用该抬升组件垫高基板中央处的设计，当蚀刻液喷洒于基板上后，便会顺着基板朝两侧流泄，不会蓄积于该基板上，因此可有效避免基板的电路遭蚀刻液过蚀而造成瑕疵，达到提高该基板良率的目的。[0012] 其中，在对应设于蚀刻槽出、入口端处的抬升组件中，枢接座的上缘靠近其中一端 处对应形成有一斜导边，滚轮进一步于枢接座两相对端部及与该端部相邻的凹槽间，使基 板可于蚀刻槽外部的输送轮与该抬升组件的滚轮间顺利衔接并移动。 此外，由于基板中央处受该抬升组件垫高后，其两相对侧边间的宽度会略为縮减， 因此，随着抬升组件的滚轮的位置逐步抬升，上述输送轮轴两端的输送轮间的距离也逐步 縮减，以避免基板由该输送轮上掉落。
图1为本实用新型的上视图。图2为本实用新型的侧视图。图3为本实用新型的前视图。图4为本实用新型的部分元件放大图。[0018]图5为本实用新型抬升组件的立体外观图。[0019]图6为本实用新型抬升组件的立体分解图。[0020]图7为本实用新型设于蚀刻槽出、入口端的抬升组件[0021]图8为现有技术的侧视图。图9为另一现有技术的上视图(10)蚀刻槽(20)输送轮轴(21)输送轮(30)定向盘(31)导引面(40) (40A)抬升组件(41)套环(411)环槽(42) (42A)枢接座(421) (421A)基座(422) (422A)侧壁(423) (423A)凹槽(424) (424A)侧板(425)凹槽(426A)斜导边(43)滚轮
0031](50)基板(H》距离(H2)距离(H3)距离(60)基板输送装置(61) (61A)输送轮轴(62) (62A)输送轮(70)基板
具体实施方式
参见图1所示，本实用新型的基板输送装置包括有一蚀刻槽10、数根输送轮轴20、 数个定向盘30及至少一抬升组件40，其中 输送轮轴20横向且间隔排列地枢设于该蚀刻槽10的两相对壁面之间，且可受动 力驱动，每一输送轮轴20上靠近两端处分别固设有一输送轮21 ，该输送轮21是可对应支 撑于一基板50的底面靠近两相对侧边处，随着输送轮轴20的转动而带动该基板50顺向移 动； 进一步参见图3、4所示，定向盘30分别固设于该输送轮轴20上，且位于该输送轮 轴20端部与所设的输送轮21间，该定向盘30对应输送轮21的一端面的外径与该输送轮21相配合，且小于定向盘30另一端面的外径，该定向盘30的环侧面连接其两端面而形成为一倾斜的导引面31 ，当该基板50于输送轮21上移动时，该定向盘30可避免基板50的移动方向偏斜，使基板50保持位于该输送轮21上移动； 配合参见图5、6所示，抬升组件10纵向跨设各输送轮轴20的中段处，每一抬升组件40包含有数个套环41、一枢接座42及至少一滚轮43 ; 该套环41是套设固定于该输送轮轴20的中段处，套环41上内凹成型有一环槽411 ; 该枢接座42具有一基座421及一侧板424，该基座421顶面突伸有一侧壁422，基座421底部间隔内凹成型有数个凹槽423，该侧板424设于该基座421旁侧，而与该基座421的侧壁422间隔且相互平行设置，该侧板424底缘亦间隔内凹成型有数个与该基座421的凹槽423相配合的凹槽425，该基座421与侧板424的凹槽423、425分别对应设置于该套环41的环槽411间，使该枢接座42可跨设于若干输送轮轴20上，当输送轮轴20转动时，只会相对该枢接座42转动，该枢接座42不会随该输送轮轴20转动，并借该套环41的环槽411还可避免枢接座42左右偏移； 该滚轮43枢设于该基座421的侧壁422与侧板424之间，且分别位于枢接座42的两两相邻的凹槽423之间。 配合参见图2、7所示，为上述抬升组件40A的枢接座42A的另一实施状态，其中，该抬升组件40A是对应设于蚀刻槽10出、入口端处，该枢接座42A的基座421A侧壁422A与侧板424A上缘靠近其中一端处分别形成有一斜导边426A，该滚轮43亦沿该斜导边426A设置，且除了分别于枢接座42A的两两相邻的凹槽423A之间对应设有滚轮43外，更进一步于枢接座42A两相对端部及与该端部相邻的凹槽423A间分别设有一滚轮43，使得当基板50进入该蚀刻槽10时，得以由蚀刻槽10外部的输送轮顺利衔接上抬升组件40A的滚轮43，并顺着该斜导边426A上所设的滚轮43A逐步抬升，当基板50移出蚀刻槽时，亦可沿着抬升组件40A的斜导边426A上所设滚轮43逐步下降，再与蚀刻槽10外部的输送轮衔接。[0043] 此外，参见图1所示，由于基板50中央处受该抬升组件40垫高后，其两相对侧边间的宽度会略为縮减，因此，令该未设有该抬升组件40的输送轮轴20的输送轮21间距离为&，对应于该抬升组件40的斜导边426A的输送轮轴20两端输送轮21间距离为H2，而设有该抬升组件40的输送轮轴20两端输送轮21间距离为H3，其中& > H2 > H3，亦即随着该基板50逐步抬升，输送轮轴20两端输送轮21间的距离也逐步縮减，以避免基板50由该输送轮21上掉落。 借由利用该抬升组件40垫高基板50中央处的设计，当蚀刻液喷洒于基板50上后，便会顺着基板50朝两侧流泄，不会因蚀刻液蓄积于该基板50上而造成该基板50上所设的电路的瑕疵，有效达到提高该基板50良率的目的。
权利要求一种基板输送装置，包括有一蚀刻槽、数根输送轮轴及至少一抬升组件，其特征在于输送轮轴横向且间隔排列地枢设于该蚀刻槽的两相对壁面之间，且可受动力驱动，每一输送轮轴上靠近两端处分别固设有一输送轮；抬升组件纵向跨设各输送轮轴的中段处，每一抬升组件包含有一枢接座及至少一滚轮，该枢接座顶面设有两相对侧壁，该滚轮枢设于该侧壁之间，且分别位于枢接座的两两相邻的凹槽之间，枢接座底部间隔内凹成型有数个凹槽，该凹槽对应设置于该输送轮轴上。
2. 如权利要求l所述的基板输送装置，其特征在于对应设于蚀刻槽出、入口端处的抬升组件中，枢接座的上缘靠近其中一端处对应形成有一斜导边，滚轮进一步于枢接座两相对端部及与该端部相邻的凹槽间。
3. 如权利要求1所述的基板输送装置，其特征在于该抬升组件进一步包含有数个套环，该套环套设固定于该输送轮轴的中段处，其上内凹成型有一环槽，前述枢接座的凹槽对应设置于该套环的环槽间。
4. 如权利要求2所述的基板输送装置，其特征在于该抬升组件进一步包含有数个套环，该套环套设固定于该输送轮轴的中段处，其上内凹成型有一环槽，前述枢接座的凹槽对应设置于该套环的环槽间。
5. 如权利要求1至4中任一项所述的基板输送装置，其特征在于该抬升组件的枢接座具有一基座及一侧板，该基座顶面突伸有一侧壁，基座底部间隔内凹成型有该凹槽，该侧板设于该基座旁侧，而与该基座的侧壁间隔且相互平行设置，该侧板底缘亦间隔内凹成型有与该基座的凹槽相配合的凹槽。
6. 如权利要求5所述的基板输送装置，其特征在于进一步包含有数个定向盘，该定向盘分别固设于该输送轮轴上，且位于该输送轮轴端部与所设的输送轮间，该定向盘对应输送轮的一端面的外径与该输送轮相配合，且小于定向盘另一端面的外径，该定向盘的环侧面连接其两端面而形成为一倾斜的导引面。
7. 如权利要求6所述的基板输送装置，其特征在于令该未设有该抬升组件的输送轮轴的输送轮间距离为H"对应于该抬升组件的斜导边的输送轮轴两端输送轮间距离为H2，而设有该抬升组件的输送轮轴两端输送轮间距离为H3，且& > H2 > H3。
专利摘要一种基板输送装置，其包括有一蚀刻槽、横向且间隔排列于该蚀刻槽间的数根输送轮轴，以及纵向跨设各输送轮轴上的至少一抬升组件，输送轮轴横向间隔排列地枢设于蚀刻槽的两相对壁面之间，每一输送轮轴上靠近两端处分别固设有一输送轮，抬升组件纵向跨设各输送轮轴的中段，每一抬升组件包含一枢接座及至少一滚轮，该枢接座顶面设有两相对侧壁，该滚轮枢设于该侧壁之间，且分别位于枢接座的两两相邻的凹槽之间，枢接座部间隔内凹成型有数个凹槽，该凹槽对应设置于输送轮轴上。利用该抬升组件垫高基板中央处的设计，当蚀刻液喷洒于基板上后，便会顺着基板朝两侧流泄，不会蓄积于该基板上，因此可有效避免基板的电路遭蚀刻液过蚀而造成瑕疵，达到提高该基板良率的目的。
文档编号H01L21/677GK201478284SQ200920168670
公开日2010年5月19日 申请日期2009年8月3日 优先权日2009年8月3日
发明者吴宁, 黄世达 申请人:扬博科技股份有限公司