透明导电性膜的制作方法

专利名称：透明导电性膜的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种透明导电性膜，该透明导电性膜例如用于触摸面板等上，能够抑 制透过光着色，且全光线透过率优异。
背景技术：
当前，作为能够通过直接触摸图像显示部来输入信息的器件，有时使用触摸面板。 该触摸面板通过将用于使光透过的输入装置配置在液晶显示装置、CRT等各种显示器上来 构成。作为触摸面板的代表形式可举出将2张透明电极基板以它们的透明电极层相互对 置的方式配置的阻抗膜式触摸面板；以及利用了透明电极层与手指之间产生的电流容量的 变化的静电容量式触摸面板。
作为阻抗膜式触摸面板或静电容量式触摸面板的透明电极基板，通常使用在玻璃 板、透明树脂板、各种热塑性高分子膜等基材上层积了由含有氧化锡的铟氧化物(锡掺杂 氧化铟，ΙΤ0)、氧化锌等金属氧化物形成的透明导电层而构成的基板。在通过这种方式得到 的透明电极基板上，金属氧化物层的反射和吸收导致可见光短波长区域的透过率下降，所 以透过透明电极基板的光有时呈黄色。因此，存在难以正确显示配置于触摸面板之下的显 示装置发出的颜色的问题。
为了解决该问题，提出了将透明导电层与多层光学膜组合的透明导电性层积体 (参见专利文献1)。该透明导电性层积体的多层光学膜由折射率不同的层进行层积而成。 作为多层光学膜的构成要素，使用金属醇盐的水解产物，所以无法在得到抑制透过色的黄 色着色的效果的同时降低透明导电性层积体的雾度值。
专利文献1 日本特开2000-301648号公报发明内容
于是，本发明的目的在于，提供一种能够抑制透过光着色、且雾度值低、全光线透 过率高的透明导电性膜。
为了达到上述目的，本发明的一个方式的透明导电性膜具备在聚酯膜的第1主面 上依次层积的高折射率层、低折射率层以及锡掺杂氧化铟层(ΙΤ0层)。高折射率层由金属 氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂形成。波长400nm时的高折射率层的折射率为1. 63 1. 86。高折射率层的膜厚为40 90nm。波长400nm时的低折射率层的折射率为1. 33 1. 53。低折射率层的膜厚为10 50nm。波长400nm时的锡掺杂氧化铟层的折射率为1. 85 2.35。锡掺杂氧化铟层的膜厚为5 50nm。
作为一例的透明导电性膜，在聚酯膜和高折射率层之间还具备膜厚为1.0 10. Oym的硬涂层。
作为一例的透明导电性膜，还具备形成于聚酯膜的第2主面上的功能层。
作为一例的透明导电性膜，功能层是硬涂层、防眩层、指纹亲合层或自我修复层。
作为一例的透明导电性膜，功能层是滑性硬涂层。所述滑性硬涂层的膜厚为1. 0 10. 0 μ m。所述滑性硬涂层中含有0. 5 30质量％的透光性微粒。所述透光性微粒 的平均粒径相对于所述滑性硬涂层的膜厚的比率为10 60%。
作为一例的透明导电性膜，功能层是硬涂层或防眩层，所述透明导电性膜还具备 层积在该功能层上的抗反射层。
发明效果
根据本发明，能够发挥如下效果。
在一种方式的透明导电性膜中，根据光的波长400nm时的折射率，适当设定层积 在聚酯膜的第1主面上的高折射率层、低折射率层以及ITO层的折射率，从而能够抑制透明 导电性膜的透过光呈黄色，并且能够提高透过率。因此，能够得到抑制了透过光的着色、降 低雾度值、且提高了全光线透过率的透明导电性膜。
在此，折射率具有波长分散性，在短波长区域，存在折射率升高的倾向。通常，调整 各层的折射率时，大多使用钠的D射线(589nm)的值。但是，在本发明的中间层以及ITO层 这类含有金属氧化物微粒的层中，折射率受波长分散的影响变大。在利用波长589nm的折 射率来调整各层的折射率的情况下，不能充分调整波长400nm的透过率，不能充分地得到 黄色降低效果。在本发明中，使用波长400nm的折射率来设计各层，控制了波长400nm时的 透过率，所以能够将抑制黄色的效果最大化。


图1是表示根据一个实施方式的透明导电性膜的结构的示意剖面图。
图2是表示在聚酯膜和高折射率层之间具有硬涂层的透明导电性膜的结构的示 意剖面图。
图3是表示具有功能层的透明导电性膜的结构的示意剖面图。
具体实施方式
下面，详细说明将本发明具体化的实施方式。
[透明导电性膜]
本实施方式的透明导电性膜通过在聚酯膜的第1主面上依次层积高折射率层、低 折射率层以及锡掺杂氧化铟层(铟锡氧化物层、ITO层)来构成(参见图1)。高折射率层 由金属氧化物微粒和紫外线(UV)固化性粘合剂形成。波长400nm时的高折射率层的折射率 为1. 63 1. 86，高折射率层的膜厚为40 90nm。波长400nm时的低折射率层的折射率为1.33 1. 53，低折射率层的膜厚为10 50nm。波长400nm时的ITO层的折射率为1. 85 2.35，ITO层的膜厚为5 50nm。
下面，依次说明该透明导电性膜的构成要素。
<聚酯膜>
聚酯膜是透明基材，由以聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂为代表的聚酯类树脂 形成。聚酯膜的膜厚通常为25 400 μ m,优选为35 250 μ m。
<高折射率层>
高折射率层由通过对高折射率层用涂液进行紫外线固化而得到的固化物形成，该 高折射率层用涂液由金属氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂混合而成。作为金属氧化物微4粒，优选氧化钛和氧化锆。氧化钛和氧化锆在波长400nm时的折射率根据制造方法而不同， 优选为2.0 3.0。并且，作为紫外线固化性粘合剂，可以举出具有(甲基)丙烯酰基的多 官能单体、低聚物以及聚合物。波长400nm时的紫外线固化性粘合剂的折射率优选为1. 4 1. 7。
高折射率层的涂液如下调整，即，使得干燥固化后的固化膜(即，高折射率层)在 波长400nm时的折射率达到1. 63 1. 86，优选达到1. 66 1. 86。此外，高折射率层的涂 液以干燥固化后的膜厚达到40 90nm、优选达到45 90nm的方式涂布，然后进行固化。 高折射率层的折射率和膜厚在上述范围外时，在JIS Z 87 中规定的L * a * b表色系中 的透过色的b*的值变大，能够明显地识别出透明导电性膜的透过色呈黄色。并且，在高折 射率层的折射率大于1. 86的情况下，涂膜中粒子的比例增多，导致雾度值上升。当高折射 率层的膜厚在上述范围外时，透过色的b*的值增大，能够明显地识别出透明导电性膜的透 过色的黄色着色。
<低折射率层>
低折射率层是通过以下步骤得到的层，S卩，在根据需要而使用的溶剂中，将平均粒 径为10 IOOnm的无机微粒和活性能量线固化性树脂混合，得到涂液，采用该涂液进行涂 布、固化。作为无机微粒，可以举出胶体氧化硅、中空氧化硅微粒。作为活性能量线固化性 树脂，可以举出例如具有(甲基)丙烯酰基的多官能单体、低聚物以及聚合物。
低折射率层的涂液如下调整，即，使得干燥固化后的固化膜(即，低折射率层)在 波长400nm时的折射率为1. 33 1. 53。该折射率小于1. 33时，低折射率层的涂液中的中 空氧化硅微粒等的比例增大，所以涂膜变脆，并且不能良好地制造低折射率层。另一方面， 当低折射率层的折射率大于1. 53时，透过色的b*的值增大，能够明显地识别出透明导电性 膜的透过色的黄色着色。
低折射率层的涂液以干燥固化后的膜厚达到10 50nm、优选达到15 45nm的方 式涂布，然后进行固化。该膜厚在上述范围外时，透过色的b*的值增大，能够明显地识别出 透明导电性膜的透过色的黄色着色。
<高折射率层和低折射率层的形成方法>
设置于聚酯膜上的高折射率层和低折射率层的形成方法可以采用现有公知的方 法，没有特别限制。例如，能够采用干涂法、湿涂法等方法。从生产效率以及制造成本方面 考虑，特别优选湿涂法。作为湿涂法，可以采用公知的方法，作为代表性的方法，可以举出例 如辊涂法、旋涂法、浸涂法等。其中，从生产效率的方面考虑，优选辊涂法等能够连续形成层 的方法。
< ITO 层〉
ITO层被层积在低折射率层之上。波长400nm时的ITO层的折射率为1. 85 2. 35， 优选为1.90 2. 30。若ITO层的折射率脱离该范围，则透明导电性膜的透过色着色，透过 率下降。并且，ITO层的干燥固化后的膜厚为5 50nm，优选为20 30nm。该膜厚小于5nm 时，难以将ITO层均勻成膜，不能得到稳定的阻抗。另一方面，当膜厚大于50nm时，ITO层 自身的光吸收增强，黄色降低效果减弱。ITO层的制膜方法没有特别限制，可以采用例如蒸 镀法、溅镀法、离子电镀法、CVD法(化学蒸镀法)或电镀法。其中，从控制ITO层厚度的观 点出发，优选蒸镀法和溅镀法。另外，在形成ITO层之后，可以根据需要，在100 200°C的范围内实施退火处理，进行结晶。具体地说，若在高温下进行结晶，则显示出ITO层的折射 率变小的倾向。因此，ITO层的折射率能够通过控制退火处理的温度和时间来进行调整。
<硬涂层>
在聚酯膜和高折射率层之间能够形成硬涂层(参见图幻。作为硬涂层，可以举 出例如对由四乙氧基硅烷等反应性硅化合物和活性能量线固化性树脂混合而成的硬涂层 用涂液进行紫外线固化而得的固化物。作为活性能量线固化性树脂，可以举出例如单官能 (甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯等。其中，从在生产效率和硬度之间取得平衡 的观点出发，优选含有铅笔硬度(评价方法JIS-K5600-5-4)达到H以上的活性能量线固 化性树脂的组合物的聚合固化物。
作为这种含有活性能量线固化性树脂的组合物，没有特别限制，可以使用例如将2 种以上公知的活性能量线固化性树脂混合的组合物，作为紫外线固化性硬涂材料在市场上 销售的组合物，或者，除此之外，在不损害本发明效果的范围内，还添加了其他成分的组合 物。干燥固化后的硬涂层的膜厚优选为1.0 10.0 μ m，折射率优选为1.45 1.60。当硬 涂层的膜厚小于1.0 μ m时，铅笔硬度小于H，所以不理想。另一方面，当膜厚大于10 μ m时， 固化收缩引起的翘曲增强，而且不必要地变厚，生产效率、作业性下降，所以不理想。
硬涂层的形成方法没有特别限制，可以采用通常使用的涂布方法，例如辊涂法、旋 涂法、浸涂法、刮涂法、照相凹版涂布法等任意方法。
〈功能层〉
在聚酯膜的上述第1主面相反侧的第2主面上能够形成功能层(参见图幻。该 功能层可以应用能够对透明导电性膜赋予预定功能的任意功能层。功能层可以是例如硬涂 层、指纹亲合层、防眩层、自我修复层等。硬涂层可以是现有公知的，没有特别限制。
指纹亲合层是表示对附着在透明导电性膜表面的指纹(活体由来脂质成分)显示 出亲合性的层。例如，从单官能聚合物、具有乙烯基或(甲基)丙烯酰基的低聚物以及具有 乙烯基或(甲基)丙烯酰基的聚合物中选择1种或2种以上来使用，对它们的有机溶剂溶 液进行涂布、干燥、紫外线固化后得到的层。
防眩层是，通过表面凹凸使从荧光灯等外部光源照射的光线散射，从而减少光反 射的层。该防眩层是对在热固性树脂、紫外线固化性树脂等活性能量线固化性树脂中分散 了粒径为几μ m的球形或无规的无机或有机微粒的涂液、或者不使用粒子也能够形成凹凸 的聚合物的涂液进行涂布、固化后得到的层。
自我修复层是提高笔输入时在透明导电性膜表面上的笔记感，具有自我修复性、 即产生的凹痕随着时间推移而消失，恢复到原有形状的性质的层。作为形成自我修复层的 树脂，可以使用紫外线固化性或热固性的不饱和丙烯酸类树脂、聚氨酯改性(甲基)丙烯酸 酯等不饱和聚氨酯类树脂、不饱和聚酯类树脂等。
作为功能层的硬涂层，可以使用具有滑性的硬涂层(有时又称为滑性硬涂层或易 滑硬涂层)。滑性硬涂层的膜厚为1.0 10.0μπι。滑性硬涂层中含有0.5 30质量％的 透光性微粒。透光性微粒的平均粒径相对于滑性硬涂层的膜厚的比率为10 60%。通过 透光性微粒，在滑性硬涂层的表面形成细微的凹凸，显现出良好的卷取性能。滑性硬涂层的 膜厚更优选为3 6 μ m。若该膜厚小于1. 0 μ m，则有可能损害硬涂性能；若大于10. 0 μ m， 则有可能损害卷取性能。6
滑性硬涂层通过对含有紫外线固化性粘合剂和透光性微粒、且根据需要而含有添 加剂的硬涂层用涂液照射紫外线进行固化而形成。作为紫外线固化性粘合剂的材料，没有 特别限制，可以举出例如单官能(甲基)丙烯酸酯、多官能(甲基)丙烯酸酯以及四乙氧基 硅烷等反应性硅化合物等的固化物。
透光性微粒用于在硬涂层的表面上形成凹凸，以显现卷取性能。该透光性微粒能 够使用任意材料。作为这类透光性微粒，例如除了氧化硅以外，还可以由通过对从氯乙烯、 (甲基)丙烯酸单体、苯乙烯、乙烯中选择的至少一种单体聚合而得到的聚合物等形成。透 光性微粒的平均粒径根据硬涂层的膜厚来决定。上述透光性微粒的平均粒径相对于硬涂层 的膜厚的比率优选为10 60%，更优选为20 50%。该平均粒径的比率小于硬涂层的膜 厚的10%的情况下、以及大于60%的情况下，卷取性能有可能受损。透光性微粒的平均粒 径相对于硬涂层的膜厚的比率(RP/re)能够通过以下的式(1)求出。
Rp/hc =[(透光性微粒的平均粒径)/(硬涂层的膜厚)]X 100(%)…式(1)
相对于硬涂层用涂液，透光性微粒的含量优选为0.5 20质量％，更优选为 0. 5 10质量％，特别优选为3 5质量％。硬涂层中可以含有添加剂，作为这类添加剂， 可以使用硅酮类添加剂。作为该硅酮类添加剂，可以举出聚醚改性聚二甲基硅氧烷，具体可 以举出BI Japan株式会社制造的肌K 330,BYK 33UBYK 346。滑性硬涂层的形成方法没 有特别限制，可以采用通常进行的涂布方法，例如辊涂法、旋涂法、浸涂法、刮涂法、照相凹 版涂布法等任意方法。
在本说明书中，有时将功能层中包含的上述硬涂层、防眩层称为支承层。在支承层 上能够形成抗反射层和/或防眩性抗反射层。该抗反射层是通过光干扰来减少从荧光灯等 外部光源照射的光线的层。在折射率为1. 5 1. 6的支承层上形成单层结构的抗反射层的 情况下，能够层积一层折射率低于支承层的、例如折射率为1. 3 1. 5的低折射率层。在折 射率为1. 5 1. 6的支承层上形成双层结构的抗反射层的情况下，能够在支承层上依次层 积折射率高于该支承层的、例如折射率为1. 6 1. 8的高折射率层、以及折射率低于该高折 射率层的低折射率层来形成。
包含于抗反射层的低折射率层是对由平均粒径为10 IOOnm的无机微粒和活性 能量线固化性树脂混合而成的涂液进行涂布、固化后得到的层。作为无机微粒，可以举出胶 体氧化硅、中空氧化硅微粒，作为活性能量线固化性树脂，可以举出例如具有(甲基)丙烯 酰基的多官能单体、低聚物以及聚合物。
包含于抗反射层的高折射率层是对由平均粒径为10 IOOnm的金属氧化物微粒 和活性能量线固化性树脂混合而成的涂液进行涂布、固化后得到的层。作为金属氧化物微 粒，可以举出锡掺杂氧化铟、氧化钛、氧化锆等，作为活性能量线固化性树脂，可以举出例如 具有(甲基)丙烯酰基的多官能单体、低聚物以及聚合物。
防眩性抗反射层是具有防眩性和抗反射性的功能的层，通过在上述防眩层上层积 抗反射层来形成。
这些功能层可以分别单独使用，或者，也可以将这些功能层适当组合使用。
实施例
下面，举出制造例、实施例以及比较例，进一步具体说明上述实施方式，但本发明 不限于这些实施例的范围。另外，各层的折射率通过以下方式进行测定。
<折射率的测定方法>
(1)通过浸渍涂布机(杉山元理化学机器株式会社制造)，在折射率为1. 63的PET 膜(商品名“A4100”、东洋纺织株式会社制造)上分别涂布用于形成各层的涂液，调整层厚， 使得干燥固化后的膜厚达到100 500nm左右。
(2)干燥后，通过紫外线照射装置(岩崎电气株式会社制造)在氮气气氛下使用 120W高压汞灯，照射400mJ的紫外线，进行固化。采用砂纸对固化后的PET膜背面进行研 磨，并且用黑色涂料将膜背面涂满，通过反射分光膜厚计(“FE-3000 ”、大塚电子株式会社制 造)，测定反射光谱。
(3)根据从反射光谱读取的反射率，求出下述(式2、所示的n-Cauchy的波长分散 式的常数，求出波长400nm时的折射率。
Ν(λ) = Α/λ 4+β/ λ 2+C...(式 2)
A、B、C:波长分散常数
<折射率的测定方法>
(1)将折射率为1.63的PET膜(商品名“A4100”、东洋纺织株式会社制造)于 100°C下进行1小时预备干燥之后，使用铟鍚=10 1(质量比)的ITO靶在PET膜上进 行溅射，形成实际膜厚为20nm的作为透明导电层的锡掺杂氧化铟层(ΙΤ0层)，制作透明导 电性膜。
(2)使用砂纸对该透明导电性膜背面进行研磨，并且用黑色涂料将膜背面涂满，通 过反射分光膜厚计(“FE-3000”、大塚电子株式会社制造)，测定反射光谱。
(3)根据从反射光谱读取的反射率，使用上述式O)，求出波长400nm时的折射率。
另外，实施例和比较例中记载的各层的折射率是通过上述的折射率的测定方法求 出的折射率。
<全光线透过率、雾度值的测定方法>
通过雾度计(“NDH2000”、日本电色工业株式会社制造)，测定全光线透过率(％ ) 和雾度值(％ )。
〈透过色的测定方法〉
使用色差计(“SQ-2000”、日本电色工业株式会社制造)，测定透过色、b *。该b *是指JIS Z 8729中规定的L * a * b表色系中的值。
<卷取性能的评价方法>
将两面硬涂(HC)膜卷成辊状，目视观察辊，通过如下所示的评价基准，对膜的卷 取性能进行评价。
◎完全没有卷取褶纹以及凹陷等凹凸状变形。
〇几乎没有卷取褶纹或凹陷等凹凸状变形。
X :卷取褶纹或凹陷等凹凸状变形大。
[制造例1、硬涂层用涂液(HC-I)的制备]
将二季戊四醇六丙烯酸酯80质量份、季戊四醇三丙烯酸酯20质量份、1，6_双 (3-丙烯酰氧基-2-羟丙氧基)己烷20质量份、光聚合引发剂(商品名IRGA⑶RE 184、汽 巴精化株式会社制造)4质量份以及异丁醇100质量份混合，制备硬涂层用涂液(HC-I)。
[制造例2、高折射率层用涂液(H-I)的制备]
将平均粒径为0. 02 μ m的氧化锆微粒79质量份、1个分子中具有6个丙烯酰基的 聚氨酯丙烯酸酯(分子量1400、日本合成化学工业株式会社制造、紫光UV7600B)21质量份 以及光聚合引发剂(商品名“IRGACURE184”，汽巴精化株式会社制造)5质量份混合之后，用 甲乙酮进行稀释，使得上述固体成分达到10质量％，制备高折射率层用涂液(H-I)。
[制造例3、高折射率层用涂液(H-2)的制备]
将平均粒径为0. 02 μ m的氧化锆微粒72质量份、1个分子中具有6个丙烯酰基的 聚氨酯丙烯酸酯(分子量1400、日本合成化学工业株式会社制造、紫光UV76OOB08质量份 以及光聚合引发剂(商品名“IRGACURE184”、汽巴精化株式会社制造)5质量份混合之后，用 甲乙酮进行稀释，使得上述固体成分达到10质量％，制备高折射率层用涂液(H-2)。
[制造例4、高折射率层用涂液(H-3)的制备]
将平均粒径为0. 02 μ m的氧化锆微粒86质量份、1个分子中具有6个丙烯酰基的 聚氨酯丙烯酸酯(分子量1400、日本合成化学工业株式会社制造、紫光UV7600B) 14质量份 以及光聚合引发剂(商品名“IRGACURE184”、汽巴精化株式会社制造)5质量份混合之后，用 甲乙酮进行稀释，使得上述固体成分达到10质量％，制备高折射率层用涂液(H-3)。
[制造例5、高折射率层用涂液(H-4)的制备]
将平均粒径为0. 02 μ m的氧化锆微粒67质量份、1个分子中具有6个丙烯酰基的 聚氨酯丙烯酸酯(分子量1400、日本合成化学工业株式会社制造、紫光UV7600B)33质量份 以及光聚合引发剂(商品名“IRGACURE184”、汽巴精化株式会社制造)5质量份混合之后，用 甲乙酮进行稀释，使得上述固体成分达到10质量％，制备高折射率层用涂液(H-4)。
[制造例6、高折射率层用涂液(H-5)的制备]
将平均粒径为0. 02 μ m的氧化锆微粒58质量份、1个分子中具有6个丙烯酰基的 聚氨酯丙烯酸酯(分子量1400、日本合成化学工业株式会社制造、紫光UV7600B)42质量份 以及光聚合弓丨发剂(商品名“ IRGA⑶RE184”、汽巴精化株式会社制造)5质量份混合，用甲乙 酮进行稀释，使得上述固体成分达到10质量％，制备高折射率层用涂液(H-5)。
[制造例7、高折射率层用涂液(H-6)的制备]
将平均粒径为0. 02 μ m的氧化锆微粒94质量份、1个分子中具有6个丙烯酰基的 聚氨酯丙烯酸酯(分子量1400、日本合成化学工业株式会社制造、紫光UV7600B)6质量份以 及光聚合引发剂(商品名“IRGA⑶RE 184”、汽巴精化株式会社制造)5质量份混合之后，用 甲乙酮进行稀释，使得上述固体成分达到10质量％，制备高折射率层用涂液(H-6)。
[制造例8、低折射率层用涂液(L-I)的制备]
将二季戊四醇六丙烯酸酯10质量份、氧化硅微粒分散液(商品名“XBA-ST”、日 产化学株式会社制造)90质量份、异丙醇900质量份、光聚合引发剂(商品名“IRGACURE 907”、汽巴精化株式会社制造)5质量份混合，制备低折射率层用涂液(L-I)。
[制造例9、改性中空氧化硅微粒(溶胶)的制备]
将中空氧化硅溶胶(触媒化成工业株式会社制造、商品名ELEC0MNY-1001S IV、 中空氧化硅溶胶为25质量％的异丙醇分散液、平均粒径60nm) 2000质量份、Y -丙烯酰氧 基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制造、KBM5103) 70质量份以及蒸馏水80质 量份混合，制备改性中空氧化硅微粒(溶胶)(平均粒径60nm)。
[制造例10、低折射率层用涂液(L-2)的制备]
通过全氟(1，1，9，9-四氢-5，8- 二氟甲基_4，二氧六环壬烷)_9_醇104质量 份与双0，2，3，3，4，4，5，5，6，6，7，7-十四氟庚酰基)过氧化物为8质量％的全氟己烷溶液 11质量份的聚合反应，得到含羟基的氟代烯丙基醚聚合物(数均分子量72000、重均分子量 118，000)。
接着，由含羟基的氟代烯丙基醚聚合物、甲乙酮43质量份、吡啶1质量份以及 α-氟代丙烯酸氟化物(fluoroacrylic acid fluoride) 1质量份，制备具有聚合性双键的 含氟反应性聚合物溶液(固体成分13质量％、在α-氟代丙烯酰基上的氢氧基的导入率为 40摩尔％ )。将该含氟反应性聚合物溶液40质量份、上述改性中空氧化硅微粒60质量份、 光聚合引发剂(汽巴精化株式会社制造、IRGA⑶RE 907) 2质量份、以及异丙醇2000质量份 混合，制备低折射率层用涂液(L-2)。
[制造例11、低折射率层用涂液(L-3)的制备]
将上述改性中空氧化硅微粒60质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40质量份、光聚合 引发剂(汽巴精化株式会社制造、IRGA⑶RE 907) 2质量份、以及异丙醇2000质量份混合， 制备低折射率层用涂液(L-3)。
[制造例12、低折射率层用涂液(L-4)的制备]
将氧化硅微粒分散液(商品名“XBA-ST”、日产化学株式会社制造)5质量份、具有 丙烯酰基的多官能粘合剂(商品名“HIC-GL”、共荣社化学株式会社制造)95质量份、光聚合 引发剂(汽巴精化株式会社制造、IRGA⑶RE 907) 2质量份、以及异丙醇2000质量份混合， 制备低折射率层用涂液(L-4)。
[制造例13、硬涂层用涂液(HC-Al)的制备]
将二季戊四醇六丙烯酸酯95质量份、平均粒径为0. 5 μ m的丙烯酸树脂微粒(折 射率1.495) 5质量份、甲乙酮100质量份、光聚合引发剂(商品名“IRGA⑶RE 184”、汽巴日 本株式会社制造)4质量份混合，制备硬涂层用涂液(HC-Al)。
[制造例14、硬涂层用涂液(HC-A2)的制备]
将二季戊四醇六丙烯酸酯97质量份、平均粒径为1. 5 μ m的丙烯酸树脂微粒(折 射率1.495) 3质量份、甲乙酮100质量份、光聚合引发剂(商品名“IRGA⑶RE 184”、汽巴日 本株式会社制造)4质量份混合，制备硬涂层用涂液(HC-A2)。
(实施例1-1)
利用辊涂机，在厚度为125 μ m的PET膜上涂布制造例1的硬涂层用涂液(HC-I)， 使干燥固化后的膜厚达到4 μ m,利用120W高压汞灯照射400mJ的紫外线，进行固化，从而制 备硬涂处理PET膜。
利用辊涂机，在该硬涂处理PET膜上涂布高折射率层用涂液H-1，使干燥后的膜厚 达到60nm，然后，利用120W高压汞灯照射400mJ的紫外线，进行固化，从而形成高折射率 层。利用辊涂机，在高折射率层上涂布低折射率层用涂液L-1，使干燥后的膜厚达到20nm， 然后，利用120W高压汞灯照射400mJ的紫外线，进行固化，从而形成低折射率层，制备色调 校正膜。
利用辊涂机，在该色调校正膜的背面涂布制造例1的硬涂层用涂液(HC-I)，使干 燥固化后的膜厚达到4 μ m,利用120W高压汞灯照射400mJ的紫外线，进行固化，从而制备在 两面上层积了硬涂层的色调校正膜。
将在两面上层积了硬涂层的色调校正膜于100°C下进行1小时的预备干燥之后， 使用铟鍚=10 1(质量比)的ITO靶进行溅射，在低折射率层上形成实际膜厚为30nm 的作为透明导电层的ITO层，于150°C下实施30分钟退火处理，制作透明导电性膜。采用上 述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过率(％)以及雾度值 (%)，将测定结果示于表1。
(实施例1-2)
使用高折射率层用涂液H-2，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透明 导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过率 (%)以及雾度值(％)，将测定结果示于表1。
(实施例1-3)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为65nm，将低折射率层的干燥固化后的膜厚 设为25nm，将ITO层的膜厚设为25nm，除此之外，采用与实施例1_1相同的方式，制作透明 导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b *、全光线透过率 (%)以及雾度值(％)，将测定结果示于表1。
(实施例1-4)
将低折射率层的干燥固化后的膜厚设为15nm，除此之外，采用与实施例1_1相同 的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过率(％)以及雾度值(％)，将测定结果示于表1。
(实施例1-5)
将低折射率层的干燥固化后的膜厚设为45nm，将ITO层的膜厚设为25nm，除此之 外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电 性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过率(％ )以及雾度值(％ )，将测定结果示于表 1。
(实施例1-6)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为65nm，使用低折射率层用涂液L-2，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，将ITO层的膜厚设为25nm，除此之外，采用与实施 例1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色 的色调(b * )、全光线透过率(％ )以及雾度值(％ )，将测定结果示于表1。
(实施例1-7)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为65nm，使用低折射率层用涂液L-3，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，将ITO层的膜厚设为25nm，除此之外，采用与实施 例1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色 的色调(b * )、全光线透过率(％ )以及雾度值(％ )，将测定结果示于表2。
(实施例1-8)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为45nm，使用低折射率层用涂液L-3，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，将ITO层的膜厚设为25nm，除此之外，采用与实施 例1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色 的色调(b * )、全光线透过率(％ )以及雾度值(％ )，将测定结果示于表2。
(实施例1-9)11
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为90nm，使用低折射率层用涂液L-3，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为25nm，将ITO层的膜厚设为20nm，除此之外，采用与实施 例1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色 的色调(b * )、全光线透过率(％ )以及雾度值(％ )，将测定结果示于表2。
(实施例1-10)
使用高折射率层用涂液H-3，将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为65nm，使用 低折射率层用涂液L-3，将低折射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，将ITO层的膜厚设为 25nm，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到 的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过率(％ )以及雾度值(％ )，将测定 结果示于表2。
(实施例1-11)
使用高折射率层用涂液H-4，将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为65nm，使用 低折射率层用涂液L-3，将低折射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，将ITO层的膜厚设为 20nm，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到 的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过率(％ )以及雾度值(％ )，将测定 结果示于表2。
(实施例1-12)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为65nm，使用低折射率层用涂液L-3，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，将ITO层的溅射后的退火处理于150°C下进行60 分钟，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到 的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过率(％ )以及雾度值(％ )，将测定 结果示于表2。
(实施例1-13)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为65nm，使用低折射率层用涂液L-3，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为25nm，将ITO层的膜厚设为25nm，将ITO层的溅射后的 退火处理于100°C下进行60分钟，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透明导电 性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过率(％) 以及雾度值(％)，将测定结果示于表2。
(实施例1-14)
使用高折射率用涂液H-4，将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为55nm，将低折 射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，将ITO层的膜厚设为20nm，除此之外，采用与实施例 1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的 色调(b * )、全光线透过率(％)以及雾度值(％)，将测定结果示于表2。
(比较例1-1)
使用高折射率层用涂液H-5，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透明 导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过率 (%)以及雾度值(％)，将测定结果示于表3。
(比较例1-2)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为65nm，使用低折射率层用涂液L-3，将低12折射率层的干燥固化后的膜厚设为60nm，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透 明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过 率(％)以及雾度值(％)，将测定结果示于表3。
(比较例1-3)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为65nm，使用低折射率层用涂液L-3，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为5nm，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透 明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过 率(％)以及雾度值(％)，将测定结果示于表3。
(比较例1-4)
使用高折射率层用涂液H-6，将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为65nm，使用 低折射率层用涂液L-3，将低折射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，将ITO层的膜厚设为 20nm，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到 的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过率(％ )以及雾度值(％ )，将测定 结果示于表3。
(比较例1-5)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为lOOnm，使用低折射率层用涂液L_3，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透 明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过 率(％)以及雾度值(％)，将测定结果示于表3。
(比较例1-6)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为20nm，使用低折射率层用涂液L-3，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透 明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过 率(％)以及雾度值(％)，将测定结果示于表3。
(比较例1-7)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为20nm，使用低折射率层用涂液L-3，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为25nm，将ITO的膜厚设为70nm，除此之外，采用与实施例 1-1相同的方式，制作透明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的 色调(b * )、全光线透过率(％)以及雾度值(％)，将测定结果示于表3。
(比较例1-8)
将高折射率层的干燥固化后的膜厚设为70nm，使用低折射率层用涂液L-4，将低 折射率层的干燥固化后的膜厚设为30nm，除此之外，采用与实施例1-1相同的方式，制作透 明导电性膜。采用上述方法，对得到的透明导电性膜测定透过色的色调(b * )、全光线透过 率(％)以及雾度值(％)，将测定结果示于表3。
表权利要求
1.一种透明导电性膜，具备在聚酯膜的第1主面上依次层积的高折射率层、低折射率 层以及锡掺杂氧化铟层，其特征在于，所述高折射率层由金属氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂形成，在波长400nm时的所 述高折射率层的折射率为1. 63 1. 86，所述高折射率层的膜厚为40 90nm，波长400nm时的所述低折射率层的折射率为1. 33 1. 53，所述低折射率层的膜厚为 10 50nm，波长400nm时的所述锡掺杂氧化铟层的折射率为1. 85 2. 35，所述锡掺杂氧化铟层的 膜厚为5 50nm。
2.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，在所述聚酯膜和所述高折射率层之间还具备膜厚为1. 0 10. 0 μ m的硬涂层。
3.根据权利要求1或2所述的透明导电性膜，其中，还具备形成于所述聚酯膜的第2主面上的功能层。
4.根据权利要求3所述的透明导电性膜，其中，所述功能层是硬涂层、防眩层、指纹亲合层或自我修复层。
5.根据权利要求4所述的透明导电性膜，其中，所述功能层是滑性硬涂层，所述滑性硬涂层的膜厚为1. 0 10.0 μ m，所述滑性硬涂层 中含有0. 5 30质量％的透光性微粒，所述透光性微粒的平均粒径相对于所述滑性硬涂层 的膜厚的比率为10 60%。
6.根据权利要求4所述的透明导电性膜，其中，所述功能层是硬涂层或防眩层，所述透明导电性膜还具备层积在该功能层上的抗反射
全文摘要
透明导电性膜具备在聚酯膜的第1主面上依次层积的高折射率层、低折射率层以及锡掺杂氧化铟层(ITO层)。高折射率层由金属氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂形成。波长400nm时的高折射率层的折射率为1.63～1.86。高折射率层的膜厚为40～90nm。波长400nm时的低折射率层的折射率为1.33～1.53。低折射率层的膜厚为10～50nm。波长400nm时的ITO层的折射率为1.85～2.35。ITO层的膜厚为5～50nm。
文档编号H01B5/14GK102034565SQ201010503538
公开日2011年4月27日 申请日期2010年9月30日 优先权日2009年10月6日
发明者加藤祐子, 森田祐诚, 野岛孝之 申请人:日油株式会社