技术总结
本发明提供了一种存储器装置及其制造方法，其中，该存储器装置包括：一基底；多条位线，沿一第一方向平行延伸于该基底上；一第一隔离结构及一第二隔离结构，沿一第二方向延伸于该基底及该些位线上；多个底接触结构，沿该第二方向设置于该些位线之间，使该第一隔离结构以及该第二隔离结构于该第一方向设置于该些底接触结构的两侧；以及多个顶接触结构，设置于该些底接触结构上，且各该顶接触结构具有一肩部抵靠于该第一隔离结构的顶表面。
技术研发人员：邱威鸣;赵元宏
受保护的技术使用者：华邦电子股份有限公司
文档号码：201510240687
技术研发日：2015.05.13
技术公布日：2017.01.04