1.一种设有反馈去夹持系统的等离子体处理装置，包括一等离子体处理腔室，及放置在所述等离子体处理腔室内的静电夹盘，所述静电夹盘用于支撑基片，其特征在于，所述反馈去夹持系统包括：升举装置，用于支撑基片；
气缸，与所述升举装置的末端相连，用于驱动所述升举装置的上升和下降；
气体输送线路，包括气源，与所述气源相连接的减压阀及与所述减压阀并行连接的一控制阀，所述减压阀和所述控制阀的输出端连接所述气缸；
反馈控制线路，包括一设置在所述气缸前端的压力检测表，一与所述压力检测表相连的控制器，所述控制器输送反馈信号至所述减压阀。
2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述减压阀后端设置一止逆阀，用于防止所述控制阀中流出的气体与所述减压阀相遇。
3.如权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述压力检测表设置于所述止逆阀与所述气缸之间。
4.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述气源与所述减压阀之间设置一开关阀。
5.如权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述开关阀在所述升举装置去夹持过程中始终保持工作状态。
6.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述减压阀与所述止逆阀之间设置一安全阀。
7.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述控制阀在所述升举装置去夹持的过程中保持断开。
8.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述气源内的压力大于所述气缸驱动所述升举装置的压力。
9.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述气源内的压力大于等于50PSI。
10.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述气源压力为80PSI。
11.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述气体输送线路及所述反馈控制线路设置在所述等离子体处理腔室外部。
12.一种实现基片与静电夹盘去夹持的方法，所述方法在上述任一权项所述的等离子体处理装置内进行，其特征在于：所述方法包括下列步骤：
断开所述气体输送线路的控制阀；
实验获得所述升举装置平稳举起基片的安全压力值；
调节所述减压阀的输出至安全压力值；
用所述压力检测表测量气缸前端的气压并将结果输送到所述控制器，所述测量气压在所述控制器内与安全压力值进行比较，若两者数值不同，所述控制器控制所述减压阀调制输出与安全压力值相同气压的气体。
13.如权利要求12所述的方法，其特征在于：在所述气源输出端设置一开关阀，在所述在所述减压阀与所述止逆阀之间设置一安全阀，当所述压力检测表测量的气缸前端的气压大于所述安全压力值时，所述控制器控制所述减压阀降低输出气压并再次测量气缸前端的气压，如果再次测得的气缸前端气压仍然大于安全压力值，断开所述安全阀。
14.如权利要求13所述的方法，其特征在于：断开所述安全阀后再次测量所述气缸前端的气压，如果测得的气压仍然大于所述安全压力值，断开所述开关阀。
15.如权利要求12所述的方法，其特征在于：当实现基片与静电夹盘的去夹持过程后，闭合所述控制阀，将所述气源内的气压输送到所述气缸内，使得所述升举装置将所述基片抬升到适合机械手移出的位置。