技术总结
本发明提供了一种设有反馈去夹持系统的等离子体处理装置，包括一等离子体处理腔室，及放置在所述等离子体处理腔室内的静电夹盘，所述静电夹盘用于支撑基片，所述带反馈去夹持系统升举装置；与所述升举装置的末端相连的气缸；驱动气缸运行的气体输送线路以及反馈控制线路。所述反馈控制线路中的压力检测表可以准确的测量在基片与静电夹盘去夹持的过程中气缸前端的气压值，并将该气压值在控制器内与安全压力值进行比较，当压力检测表测得的气缸前端压力不同于安全压力值时，控制器控制减压阀调制输出到安全压力值，保障基片在与静电夹盘去夹持时的安全。
技术研发人员：吴磊;林哲全
受保护的技术使用者：中微半导体设备（上海）有限公司
文档号码：201510910239
技术研发日：2015.12.10
技术公布日：2017.06.20