一种带隙可调的层状杂合物薄膜及其制备方法与流程

文档序号:13702969阅读:来源:国知局
技术特征:
1.一种带隙可调的层状杂合物薄膜,其特征在于包括杂合物薄膜材料,所述的杂合物薄膜材料为层状杂合物(C6H5C2H4NH3)2SnxPb1-xI4,其中0.1≤x≤0.9。2.权利要求1所述的带隙可调的层状杂合物薄膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)将碘苯乙胺、碘化亚锡、碘化铅以0.1≤x≤0.9化学计量比混合,用有机溶剂溶解,震荡搅拌5~60min,得到前驱体溶液;2)在惰性气氛环境中将前驱体溶液在基板上旋涂镀膜,然后热处理,得到杂合物薄膜。3.如权利要求2所述的带隙可调的层状杂合物薄膜的制备方法,其特征在于所述有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺或二甲基亚砜或γ-丁内酯或异丙醇和N,N-二甲基甲酰胺的混合溶剂。4.如权利要求2所述的带隙可调的层状杂合物薄膜的制备方法,其特征在于所述的基板为透明导电玻璃、硅片、石英玻璃片、有机柔性基板的任意一种。5.如权利要求2所述的带隙可调的层状杂合物薄膜的制备方法,其特征在于所述旋涂镀膜转速500~8000r/min,旋涂时间10~60s。6.如权利要求2所述的带隙可调的层状杂合物薄膜的制备方法,其特征在于所述热处理过程:50~150℃下热处理10~120min。7.如权利要求2所述的带隙可调的层状杂合物薄膜的制备方法,其特征在于所述惰性气氛环境采用的气体为氮气或者氩气。
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