技术总结
公开了一种基板处理设备。所述设备包括：支撑单元，所述支撑单元支撑基板；和处理液供应单元，所述处理液供应单元将处理液供应到所述基板上；其中，所述处理液供应单元包括：注射单元，所述注射单元将处理液供应到由所述支撑单元所支撑的基板上；罐，所述罐容纳处理液；管线，所述管线连接至所述罐；以及静电去除构件，所述静电去除构件去除处理液中的静电。
技术研发人员：吴来泽;李铉优
受保护的技术使用者：细美事有限公司
文档号码：201610547893
技术研发日：2016.07.12
技术公布日：2017.01.25