技术总结
本发明提供一种高一致性的阻变存储器件及其制备方法，属于CMOS超大规模集成电路技术领域。该阻变存储器包括衬底和位于衬底上的下电极‑阻变薄膜‑上电极结构，下电极位于衬底之上，上、下电极之间为阻变薄膜，所述阻变薄膜的局部掺杂金属，所述掺杂区域为器件工作区域的50％—10％。本发明阻变存储器的到底通道更加容易在局域化掺杂的区域形成熔断，从而将导电通道的随机产生与熔断限定在局部掺杂的区域内，有效降低了导电通道的随机性，从而提高阻变存储器的一致性。
技术研发人员：蔡一茂;王宗巍;黄如;康健;方亦陈;喻志臻;杨雪
受保护的技术使用者：北京大学
文档号码：201610809598
技术研发日：2016.09.08
技术公布日：2016.12.14