一种多芯片整合封装方法与流程

文档序号:13074319阅读:1798来源:国知局

本发明涉及一种芯片封装领域,尤其涉及一种多芯片整合封装方法。



背景技术:

目前,市场对封装产品功能多样化及单颗芯片功能要求越来越高,想要实现客户此类要求,需要设计公司对原片进行重新设计,使得单颗芯片具备多种功能,不仅设计成本较高,从设计到试产周期太长,且还需要不断优化,不能满足高速发展变化的时长需求。鉴于以上缺陷,实有必要设计一种多芯片整合封装方法。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种多芯片整合封装方法,能将多颗功能芯片进行整合封装,且生产周期短,成本低。

为解决上述技术问题,本发明的技术方案是:一种多芯片整合封装方法,该方法包括以下步骤:

1)芯片布置:根据多块功能芯片按功能及尺寸,确定芯片布置方式,所述的芯片布置方式为水平方向水平布置、竖直方向堆叠布置中的一种或多种组合;

2)装片固化:根据步骤1)选定的芯片布置方式,将各功能芯片依次进行装片,直到所有功能芯片装完后送入烘箱内进行烘烤固化,所述烘箱烘干温度为173℃-175℃,烘干时间为2.5h;

3)布线:将步骤2)装片固化后的功能芯片放置于键合加热平台上端,对功能芯片进行自动植球,植球后使用劈刀进行反向切球,将所植的点焊球顶面做出一个反向切面平台,使用键合丝将该反向切面平台依次互联,将各功能芯片导通,当连接两反向切面平台的键合丝长度大于2000微米而小于3000微米时,在键合丝的中心处设置多折点结构;当连接两反向切面平台的键合丝长度大于3000微米而小于6000微米时,在键合丝的1/3处、2/3处设置多折点结构,用于避免漂移及塌线,所述的键合丝材质为纯铜,直径为20-25微米;

4)塑封:将步骤3)完成布线的功能芯片放置于模具内,使用塑封料进行塑封制得半成品,并在180℃-182℃条件下保持90s,以消除半成品内部应力;

5)电镀:将步骤4)制得的半成品引脚进行电镀纯锡;

6)切筋成型:使用剪切机将经步骤5)电镀后的半成品按规定尺寸切开制得成品;

7)包装:使用自动测试机对步骤6)制得的成品进行电性检测后进行自动包装即可。

本发明进一步的改进如下:

进一步的,所述步骤3)中键合加热平台加热温度为230℃-235℃。

本发明有益效果:该方法能将不同功能芯片进行组合并封装于单颗芯片内,短时间最大效果满足不同市场客户需求,缩减了设计环节,增加了单颗芯片集成化能力,且缩短生产周期,降低设计成本费用。

附图说明

图1示出本发明主视图

具体实施方式

实施例1

如图1所示,一种多芯片整合封装方法,该方法包括以下步骤:

1)芯片布置:根据多块功能芯片按功能及尺寸,确定芯片布置方式,所述的芯片布置方式为水平方向水平布置、竖直方向堆叠布置中的一种或多种组合;

2)装片固化:根据步骤1)选定的芯片布置方式,将各功能芯片依次进行装片,直到所有功能芯片装完后送入烘箱内进行烘烤固化,所述烘箱烘干温度为175℃,烘干时间为2.5h;

3)布线:将步骤2)装片固化后的功能芯片放置于键合加热平台上端,对功能芯片进行自动植球,植球后使用劈刀进行反向切球,将所植的点焊球顶面做出一个反向切面平台,使用键合丝将该反向切面平台依次互联,将各功能芯片导通,当连接两反向切面平台的键合丝长度大于2000微米而小于3000微米时,在键合丝的中心处设置多折点结构;当连接两反向切面平台的键合丝长度大于3000微米而小于6000微米时,在键合丝的1/3处、2/3处设置多折点结构,用于避免漂移及塌线,所述的键合丝材质为纯铜,直径为25微米;

4)塑封:将步骤3)完成布线的功能芯片放置于模具内,使用塑封料进行塑封制得半成品,并在182℃条件下保持90s,以消除半成品内部应力;

5)电镀:将步骤4)制得的半成品引脚进行电镀纯锡;

6)切筋成型:使用剪切机将经步骤5)电镀后的半成品按规定尺寸切开制得成品;

7)包装:使用自动测试机对步骤6)制得的成品进行电性检测后进行自动包装即可。

本发明所述步骤3)中键合加热平台加热温度为235℃。

实施例2

如图1所示,一种多芯片整合封装方法,该方法包括以下步骤:

1)芯片布置:根据多块功能芯片按功能及尺寸,确定芯片布置方式,所述的芯片布置方式为水平方向水平布置、竖直方向堆叠布置中的一种或多种组合;

2)装片固化:根据步骤1)选定的芯片布置方式,将各功能芯片依次进行装片,直到所有功能芯片装完后送入烘箱内进行烘烤固化,所述烘箱烘干温度为173℃,烘干时间为2.5h;

3)布线:将步骤2)装片固化后的功能芯片放置于键合加热平台上端,对功能芯片进行自动植球,植球后使用劈刀进行反向切球,将所植的点焊球顶面做出一个反向切面平台,使用键合丝将该反向切面平台依次互联,将各功能芯片导通,当连接两反向切面平台的键合丝长度大于2000微米而小于3000微米时,在键合丝的中心处设置多折点结构;当连接两反向切面平台的键合丝长度大于3000微米而小于6000微米时,在键合丝的1/3处、2/3处设置多折点结构,用于避免漂移及塌线,所述的键合丝材质为纯铜,直径为20微米;

4)塑封:将步骤3)完成布线的功能芯片放置于模具内,使用塑封料进行塑封制得半成品,并在180℃条件下保持90s,以消除半成品内部应力;

5)电镀:将步骤4)制得的半成品引脚进行电镀纯锡;

6)切筋成型:使用剪切机将经步骤5)电镀后的半成品按规定尺寸切开制得成品;

7)包装:使用自动测试机对步骤6)制得的成品进行电性检测后进行自动包装即可。

本发明所述步骤3)中键合加热平台加热温度为230℃。

实施例3

如图1所示,一种多芯片整合封装方法,该方法包括以下步骤:

1)芯片布置:根据多块功能芯片按功能及尺寸,确定芯片布置方式,所述的芯片布置方式为水平方向水平布置、竖直方向堆叠布置中的一种或多种组合;

2)装片固化:根据步骤1)选定的芯片布置方式,将各功能芯片依次进行装片,直到所有功能芯片装完后送入烘箱内进行烘烤固化,所述烘箱烘干温度为174℃,烘干时间为2.5h;

3)布线:将步骤2)装片固化后的功能芯片放置于键合加热平台上端,对功能芯片进行自动植球,植球后使用劈刀进行反向切球,将所植的点焊球顶面做出一个反向切面平台,使用键合丝将该反向切面平台依次互联,将各功能芯片导通,当连接两反向切面平台的键合丝长度大于2000微米而小于3000微米时,在键合丝的中心处设置多折点结构;当连接两反向切面平台的键合丝长度大于3000微米而小于6000微米时,在键合丝的1/3处、2/3处设置多折点结构,用于避免漂移及塌线,所述的键合丝材质为纯铜,直径为23微米;

4)塑封:将步骤3)完成布线的功能芯片放置于模具内,使用塑封料进行塑封制得半成品,并在181℃条件下保持90s,以消除半成品内部应力;

5)电镀:将步骤4)制得的半成品引脚进行电镀纯锡;

6)切筋成型:使用剪切机将经步骤5)电镀后的半成品按规定尺寸切开制得成品;

7)包装:使用自动测试机对步骤6)制得的成品进行电性检测后进行自动包装即可。

本发明所述步骤3)中键合加热平台加热温度为233℃。

本发明不局限于上述具体的实施方式,本领域的普通技术人员从上述构思出发,不经过创造性的劳动,所做出的种种变换,均落在本发明的保护范围之内。

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