本公开的实施例涉及一种像素界定结构及其制备方法、显示基板、喷墨打印方法。
背景技术：
有机发光显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，因此成为一种重要的显示技术。
有机发光显示装置的有机功能层例如可以采用喷墨打印的方式形成，而利用喷墨打印法形成有机功能层需要预先在衬底基板上制作像素界定结构，以限定有机功能材料精确的喷入指定的像素区域内。
技术实现要素：
本公开至少一实施例提供一种像素界定结构，包括设置在衬底基板上的像素界定层，其中，所述像素界定层包括至少沿第一方向周期排列的多个像素界定组；每个所述像素界定组包括第二像素界定单元，所述第二像素界定单元位于所述像素界定组在所述第一方向上的一侧或两侧边缘位置；所述第二像素界定单元在所述第一方向上的横截面中，朝向所述第二像素界定单元的开口的至少一个侧边为内倾侧边。
例如，本公开至少一实施例提供的像素界定结构中，所述第二像素界定单元在所述第一方向上的横截面中，朝向所述第二像素界定单元开口的侧边都为内倾侧边。
例如，本公开至少一实施例提供的像素界定结构中，，所述第二像素界定单元在垂直于所述第一方向上的横截面中，朝向所述第二像素界定单元开口的侧边都为内倾侧边。
例如，本公开至少一实施例提供的像素界定结构中，所述内倾侧边为直线或弧形。
例如，本公开至少一实施例提供的像素界定结构中，所述第二像素界定单元包括依次层叠在所述衬底基板上的第二层第二像素界定单元和第一层第二像素界定单元；其中，所述第一层第二像素界定单元在所述第一方向上的横截面为倒梯形。
例如，本公开至少一实施例提供的像素界定结构还包括第一像素界定单元，所述第一像素界定单元包括依次层叠在所述衬底基板上的第二层第一像素界定单元和第一层第一像素界定单元；其中，所述第一层第一像素界定单元在所述第一方向上的横截面为正梯形。
例如，本公开至少一实施例提供的像素界定结构中，所述第一层第二像素界定单元的材料为疏液材料；所述第二层第二像素界定单元的材料为亲液材料。
例如，本公开至少一实施例提供的像素界定结构中，所述第一层第二像素界定单元的厚度大于所述第二层第二像素界定单元的厚度。
例如，本公开至少一实施例提供的像素界定结构中，在每个所述像素界定组中，所述第二像素界定单元的数量为1-5个。
本公开至少一实施例提供一种利用上述任一像素界定结构进行喷墨打印的方法，包括：以所述像素界定组为单位在所述像素界定结构内逐组进行喷墨打印。
例如，本公开至少一实施例提供的喷墨打印方法中，沿与所述第一方向垂直的方向进行逐组喷墨打印。
本公开至少一实施例提供一种显示基板，包括上述任一所述的像素界定结构，还包括有机功能层；其中，所述有机功能层设置在所述像素界定结构的第二像素界定单元形成的开口内。
例如，本公开至少一实施例提供的显示基板中，所述有机功能层包括发光层、电子注入层、空穴注入层、电子传输层和空穴传输层中的一种或几种。
本公开至少一实施例提供一种像素界定结构的制备方法，包括：在衬底基板上形成至少沿第一方向周期排列的多个像素界定组；其中，每个所述像素界定组包括第二像素界定单元，所述第二像素界定单元形成于所述像素界定组在所述第一方向上的一侧或两侧边缘位置；所述第二像素界定单元在所述第一方向上的横截面中，朝向所述第二像素界定单元的开口的至少一个侧边形成为内倾侧边。
例如，本公开至少一实施例提供的像素界定结构的制备方法中，形成所述第二像素界定单元包括在所述衬底基板上依次形成第二层第二像素界定单元和第一层第二像素界定单元；其中，所述第一层第二像素界定单元在所述第一方向上的横截面形成为倒梯形。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。
图1a和图1b为本公开一实施例提供的像素界定结构的平面示意图；
图2a和图2b为图1a中像素界定结构的沿a-a线的两种截面示意图；
图3a和图3b为本公开一实施例提供的像素界定结构中正梯形和倒梯形的示意图；
图4为图1a中像素界定结构的沿a-a线的再一种截面示意图；
图5为图1a中像素界定结构的沿a-a线的另一种截面示意图；
图6为图1a中像素界定结构的沿b-b线的一种截面示意图；
图7为图1a中像素界定结构的沿c-c线的一种截面示意图；
图8为本公开一实施例提供的喷墨打印方法的示意图；
图9为本公开一实施例提供的显示基板的示意图；
图10a和图10b为本公开一实施例提供的像素界定结构在制备过程中的截面示意图；
图11a和图11b为本公开一实施例提供的像素界定结构在制备过程中的另一截面示意图；
图12为本公开一实施例提供的显示基板在制备过程中的截面示意图。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
通常，显示基板的像素界定结构具有多个开口，利用喷墨打印法在这些开口中进行喷墨打印时，若一次将所有的开口均喷墨打印完成则需要数量较多的喷嘴，由于不同的喷嘴之间存在体积差异，在喷墨打印前需要对各喷嘴进行体积校准，从而使各个喷嘴喷墨打印出的墨水体积基本一致。但是，在喷嘴数量较多的情况下，对每个喷嘴进行校对耗费时间较长，并且浪费材料。例如，可以采用少量喷嘴进行多次喷墨打印的方式完成对较大面积的像素界定结构的喷墨打印。此时，利用少量喷嘴对数量较多的像素界定结构的开口进行喷墨打印的过程中，进行一次喷墨打印可以打印的开口数量与喷嘴的数量相同，先喷墨打印在开口中的墨水首先进行干燥，并且在一次喷墨打印中，由于环境气氛的不同，喷墨打印在不同位置的开口中的墨水干燥速度不一致。通常，喷墨打印在边缘开口中的墨水的干燥速度较快，而喷墨打印在内部开口中的墨水的干燥速度较慢，这使得喷墨打印在不同位置开口中的墨水干燥后产生的形态不均匀(俗称swathmura)。例如，在利用喷墨打印法在像素界定结构中打印有机材料以形成有机功能层时，不同位置的开口中形成的有机功能层形态(例如厚度)不均匀，这由此会导致显示基板在工作时的显示亮度不均匀，严重影响显示基板的显示效果。
本公开至少一实施例提供一种像素界定结构，包括：设置在衬底基板上的像素界定层，其中，像素界定层包括至少沿第一方向周期排列的多个像素界定组；每个像素界定组包括第二像素界定单元，第二像素界定单元位于像素界定组在第一方向上的一侧或两侧边缘位置；第二像素界定单元在第一方向上的横截面中，朝向第二像素界定单元的开口的至少一个侧边为内倾侧边。
本公开至少一实施例提供一种利用上述像素界定结构进行喷墨打印的方法，该方法包括：以像素界定组为单位在像素界定结构内逐组进行喷墨打印。
本公开至少一实施例提供的一种显示基板，该显示基板包括上述像素界定结构以及有机功能层；有机功能层设置在像素界定结构的第二像素界定单元形成的开口内。
本公开至少一实施例提供一种像素界定结构的制造方法，包括：在衬底基板上形成至少沿第一方向周期排列的多个像素界定组；其中，每个像素界定组包括第二像素界定单元，第二像素界定单元形成于像素界定组在第一方向上的一侧或两侧边缘位置；第二像素界定单元在第一方向上的横截面中，朝向第二像素界定单元的开口的至少一个侧边形成为内倾侧边。
下面通过几个具体的实施例对本公开的像素界定结构及其制备方法、喷墨打印方法、显示基板进行说明。
实施例一
本实施例提供一种像素界定结构，该像素界定结构可以用于形成例如有机发光二极管(oled)显示面板的阵列基板。图1a为本实施例提供的一种像素界定结构的平面示意图，图2a为图1a中的像素界定结构沿a-a线的一种截面示意图。如图1a所示，该像素界定结构包括设置在衬底基板100上的像素界定层。该像素界定层包括至少沿第一方向(例如图中的水平方向)周期排列的多个像素界定组10，每个像素界定组10包括第二像素界定单元102，第二像素界定单元102位于像素界定组10在第一方向上的一侧或两侧边缘位置。每个像素界定单元具有开口(例如图中的实线框部分)，通过所述像素界定层限定出多个阵列排布的开口，每相邻的两个像素界定单元的开口通过像素界定层中的条状部分间隔开，该条状部分则由所述相邻的两个像素界定单元共享，或者说该条状部分的中线将该条状部分划分为分属所述相邻的两个像素界定单元的两部分。使用该像素界定结构进行喷墨打印时，需要将墨水喷墨打印在每个像素界定单元的开口中。
例如，第二像素界定单元102在第一方向上的横截面中，朝向第二像素界定单元102的开口至少一个侧边，例如图中的侧边102a为内倾侧边，即侧边102a朝向第二像素界定单元102的开口倾斜。例如，侧边102a与对应于第二像素界定单元102的开口处的衬底基板100的表面之间的夹角为锐角，例如图2a中示出的角度ρ；与此对应地，与对应于第二像素界定单元102的开口处的衬底基板100的表面之间的夹角为钝角的侧边为外倾侧边。
例如，在一个示例中，第二像素界定单元102的开口形成为矩形，第二像素界定单元102在第一方向上的横截面中，朝向第二像素界定单元102开口的两个侧边都为内倾侧边。本实施例中，每个像素界定组10例如还包括第一像素界定单元101，第一像素界定单元101至少位于每个像素界定组10的中部位置。例如，第一像素界定单元101和第二像素界定单元102可以具有相同的布局，例如可以具有相同的平面轮廓和相同的开口形状。
例如，在本实施例的一个示例中，如图2a所示，第一像素界定单元101在第一方向上的横截面包括正梯形1012，第二像素界定单元102在第一方向上的横截面包括倒梯形1022，例如，内倾侧边为倒梯形的一条斜边。在另一个示例中，第二像素界定单元102在第一方向上的横截面例如包括平行四边形部分(指平行四边形的一部分，相邻两个平行四边形部分例如可以组成一个完整的平行四边形)以取代上述倒梯形1022，该平行四边形部分同样包括朝向第二像素界定单元的开口倾斜的内倾侧边。
例如，该内倾侧边可以为直线或弧形。例如，在本实施例的其他示例中，如图2b所示，内倾侧边例如也可以具有一定的弧度或弯折，只要其朝向第二像素界定单元102的开口倾斜即可，本实施例对其具体形式不做限定。
例如，图1a中示出了将位于一行的第一像素界定单元101和第二像素界定单元102划分为一个像素界定组10的情况，并且第二像素界定单元102位于像素界定组10在第一方向上的一侧(图中示出的为右侧)，每个像素界定组10包括一个第二像素界定单元102。在另一实施例中，每个像素界定组例如可以包括1-5个第二像素界定单元，例如2个、3个或4个第二像素界定单元等。例如，当每个像素界定组中的第二像素界定单元为多个时，第二像素界定单元可以位于每个像素界定组的一侧，也可以位于每个像素界定组的两侧。
在再一实施例中，如图1b所示，例如也可以将位于多行(图中示出了两行)的第一像素界定单元101和第二像素界定单元102划分为一个像素界定组，此时每个像素界定组10例如包括位于像素界定组10在第一方向上的一侧的一列或多列第二像素界定单元102(图中示出了一列)。
例如，图3a和图3b示出了图2a中正梯形1012和倒梯形1022的示意图。如图3a所示，正梯形包括一个较短的上边和一个较长的底边，该正梯形的一个斜边与底边形成直角，另一个斜边与底边形成锐角，即图3a中示出的角θ1，例如，θ1的大小为30°-60°，例如35°、45°或50°等，本实施例对此不做具体限定。如图3b所示，倒梯形包括一个较长的上边和一个较短的底边，该倒梯形的一个斜边与底边形成直角，另一个斜边与底边形成钝角，即图3b中示出的角θ2，例如，θ2的大小为120°-150°，例如130°、140°或145°等，本实施例对此不做具体限定。
例如，图2a中，相邻两个第一像素界定单元101的正梯形1012可以组成一个完整的正梯形结构，例如等腰正梯形结构；相邻的第一像素界定单元101和第二像素界定单元102的正梯形1012和倒梯形1022可以组成一个完整的四边形结构，例如平行四边形结构。
例如，在本实施例的另一个示例中，如图4所示，与第二像素界定单元102相邻的第一像素界定单元101在邻接第二像素界定单元102的一侧也可以包括倒梯形1022，从而相邻的第一像素界定单元102和第二像素界定单元102的倒梯形1022可以组成一个完整的倒梯形结构，例如等腰倒梯形结构。
例如，第一像素界定单元和第二像素界定单元的材料可以为光刻胶材料，例如可以采用具有疏液性质的材料，例如采用聚酰亚胺(pi)、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)或有机硅等具有疏液性质的负性光刻胶材料，从而第一像素界定单元和第二像素界定单元可以通过曝光工艺和显影工艺形成，由此可以简化制备工艺。相应于该实施例，例如每个像素界定单元的开口暴露的衬底基板部分具有亲液性，例如对其进行亲液性处理。
例如，在本实施例的再一个示例中，如图5所示，第二像素界定单元102包括依次层叠在衬底基板100上的第二层第二像素界定单元1021和第一层第二像素界定单元1022，并且第一层第二像素界定单元1022为倒梯形。
例如，该示例中，第一像素界定单元101包括依次层叠在衬底基板100上的第二层第一像素界定单元1011和第一层第一像素界定单元1012，并且第一层第一像素界定单元1012为正梯形。
例如，该示例中，第一层第一像素界定单元1012和第一层第二像素界定单元1022的材料为疏液材料。该疏液材料例如可以为具有疏液性质的负性光刻胶材料，例如为聚酰亚胺(pi)、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)或有机硅等负性光刻胶材料。例如，第二层第一像素界定单元1011和第二层第二像素界定单元1021的材料为亲液材料(该材料表面易于被喷墨打印的墨水湿润)。该亲液材料例如可以为二氧化硅、氮化硅或氮氧化硅等亲液材料。
该示例中，采用具有亲液性质的材料形成靠近衬底基板一侧的第一层像素界定单元时，该第一层像素界定单元可以使喷墨打印的墨水易于在像素界定单元的开口底部铺展开，使墨水在开口内的分布更加均匀。而采用具有疏液性质的材料形成远离衬底基板一侧的第二层像素界定单元时，该第二层像素界定单元难以被墨水润湿，因此可以增大喷墨打印在开口中的墨水的扩散阻力，从而减缓墨水在开口的侧壁上的攀爬速度，并防止墨水流入相邻的开口中。
例如，该示例中，第一层第二像素界定单元1022的厚度大于第二层第二像素界定单元1021的厚度。例如，第一层第一像素界定单元1012的厚度大于第二层第一像素界定单元1011的厚度。例如，第二层第一像素界定单元1011和第二层第二像素界定单元1021的厚度为50nm-300nm，例如100nm、150nm、200nm或250nm等。例如，第一层第一像素界定单元1012和第一层第二像素界定单元1022的厚度为0.2μm-2μm，例如0.5μm、1μm、1.5μm或1.8μm等。在该厚度设置下，喷墨打印在各个像素界定单元的开口内的墨水铺展更加均匀，并且第二层像素界定单元可以提供有效阻挡，防止墨水流入相邻的开口内。
例如，该示例中，第二层第一像素界定单元和第二层第二像素界定单元的结构可以相同，例如均为正梯形结构，从而使得喷墨打印在各个像素界定单元的开口内的墨水铺展形态基本相同，进而使墨水干燥后的形态基本相同。
本实施例中，第一像素界定单元和第二像素界定单元在垂直于第一方向的截面形状可以相同也可以不同。例如，图6为图1a中的像素界定结构沿b-b线的一种截面示意图，图7为图1a中的像素界定结构沿c-c线的一种截面示意图。例如，如图6所示，第一像素界定单元101在垂直于第一方向的第二方向上的截面例如包括外倾侧边(即背向第一像素界定单元101的开口倾斜的侧边)，例如包括正梯形。如图7所示，第二像素界定单元102在垂直于第一方向的第二方向上的截面例如包括内倾侧边，例如包括倒梯形。例如，第二像素界定单元102在垂直于第一方向上的横截面中，朝向第二像素界定单元102开口的侧边都为内倾侧边。此时，第二像素界定单元102的四条侧边均为内倾侧边。
例如，第二像素界定单元102在第二方向上的截面也可以包括外倾侧边，例如图6所示的正梯形，此时，第一像素界定单元101和第二像素界定单元102在第二方向上的截面形状基本相同。本实施例对第一像素界定单元和第二像素界定单元在第二方向的截面形状不做具体限定。
本实施例提供的像素界定结构具多个像素界定组，并且位于每个像素界定组边缘位置的第二像素界定单元在第一方向的截面上具有内倾侧边，例如具有倒梯形，该内倾侧边(例如倒梯形)可以减缓喷墨打印于每个像素界定组边缘位置的墨水的干燥速度，进而使得每个像素界定组的各个像素界定单元中的墨水的干燥速度基本一致，使得墨水在干燥后的形态更加均匀，例如墨水的成膜厚度等更加均匀。
实施例二
本实施例提供一种利用上述实施例提供的像素界定结构进行喷墨打印的方法，该方法可以用于形成例如oled显示面板的阵列基板，该方法包括：以像素界定组为单位在像素界定结构内逐组进行喷墨打印。
例如，可以沿与第一方向垂直的方向进行逐组喷墨打印。例如，如图8所示，沿与第一方向垂直的第二方向进行逐组喷墨打印。例如，首先喷墨打印第一像素界定组10，然后依次喷墨打印第二像素界定组20、第三像素界定组30、第四像素界定组40，将第一列像素界定组喷墨打印完成后，喷墨打印第二列像素界定组，例如依次喷墨打印第五像素界定组50、第六像素界定组60、第七像素界定组70和第八像素界定组80等。
该喷墨打印方法采用对所述像素界定结构进行逐组喷墨打印的方式，由于位于各像素界定组边缘的第二像素界定单元在第一方向上的截面包括内倾侧边，例如包括倒梯形结构，该内倾侧边可以降低喷墨打印于边缘开口中墨水的干燥速度，从而使喷墨打印于像素界定组中各像素界定单元的墨水的干燥速度基本一致，进而使墨水在干燥后的形态更加均匀。
实施例三
本公开至少一实施例提供一种显示基板，如图9所示，该显示基板包括上述任一像素界定结构，还包括有机功能层103。有机功能层103设置在像素界定结构的第一像素界定单元101和第二像素界定单元102形成的开口内。
例如，有机功能层103可以包括发光层、电子注入层、空穴注入层、电子传输层和空穴传输层中的一种或几种。
本实施例中，显示基板的有机功能层例如可以通过在像素界定结构的第一像素界定单元和第二像素界定单元的开口内喷墨打印有机材料而形成。该像素界定结构可以使得喷墨打印形成的有机功能层的形态更加均匀，例如使得有机功能层的厚度及表面形貌等更加均匀，从而可以提高显示基板的显示均匀性，使得该显示基板具有更好的显示效果。
本实施例中，显示基板当然还可以包括像素驱动电路、阳极层、阴极层、绝缘层等其他功能结构，本实施例不再赘述。
实施例四
本实施例提供一种像素界定结构的制备方法，包括：在衬底基板上形成至少沿第一方向周期排列的多个像素界定组；每个像素界定组包括第二像素界定单元，第二像素界定单元形成于像素界定组在第一方向上的一侧或两侧边缘位置；例如，所形成的第二像素界定单元在第一方向上的横截面中，朝向第二像素界定单元的开口的至少一个侧边形成为内倾侧边，即该侧边朝向第二像素界定单元的开口倾斜。
本实施例中，每个像素界定组10中例如还形成第一像素界定单元101，第一像素界定单元101至少形成于每个像素界定组10的中部位置。例如，第一像素界定单元101和第二像素界定单元102可以具有相同的布局，例如可以具有相同的平面轮廓和相同的开口形状。
例如，在本实施例的一个示例中，第一像素界定单元在第一方向上的横截面包括正梯形，第二像素界定单元在第一方向上的横截面包括倒梯形，例如，内倾侧边为倒梯形部分的一条斜边。
例如，该像素界定结构的制备方法包括步骤s101-步骤s102。
步骤s101：在衬底基板上涂覆像素界定结构材料。
本实施例中，如图10a所示，首先在衬底基板100上涂覆像素界定结构材料1020。像素界定结构材料例如可以为具有疏液性质的材料。该材料例如可以为具有疏液性质的负性光刻胶材料，例如为聚酰亚胺(pi)、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)或有机硅等负性光刻胶材料。
本实施例中，形成像素界定结构所采用的具有疏液性质的材料难以被墨水润湿，因此用于形成像素界定结构时可以增大喷墨打印在之后将要形成的像素开口中的墨水的扩散阻力，从而减缓墨水在像素开口的侧壁上的攀爬速度，并防止墨水流入相邻的像素开口中。
步骤s102：进行构图工艺以形成第一像素界定单元和第二像素界定单元。
例如，该构图工艺包括：对像素界定结构材料层进行曝光与显影工艺。例如，如图10a所示，采用双色调掩膜110对像素界定结构材料层1020，例如负性光刻胶材料层进行曝光工艺，并且进行该曝光工艺时，形成第二像素界定单元所采用的曝光量小于形成第一像素界定单元所采用的曝光量。例如，双色调掩膜110包括完全透光部分111、半透光部分112和完全不透光部分113。例如，该完全透光部分111对应于将要形成的第一像素界定单元的正梯形，半透光部分112对应于将要形成的第二像素界定单元的倒梯形，完全不透光部分113为双色调掩膜110的剩余部分，例如对应于将要形成的各像素界定单元的开口部分。
例如，曝光工艺完成后进行显影工艺，由于本实施例的像素界定结构材料采用的是负性光刻胶材料，因此被曝光的区域中的材料在之后的显影工艺中不被溶解，从而形成如图10b所示的像素界定结构。
例如，本实施例的另一个示例中，形成第二像素界定单元包括在衬底基板上依次形成第二层第二像素界定单元和第一层第二像素界定单元，并且第一层第二像素界定单元形成为倒梯形。
进一步地，例如，该示例中，形成第一像素界定单元包括在衬底基板上依次形成第二层第一像素界定单元和第一层第一像素界定单元，并且第一层第一像素界形成为正梯形。
例如，该示例中，第一层第一像素界定单元和第一层第二像素界定单元采用一次构图工艺形成；第二层第一像素界定单元和第二层第二像素界定单元采用一次构图工艺形成。例如，采用具有疏液性质的负性光刻胶材料形成第一层第一像素界定单元和第一层第二像素界定单元。例如，采用二氧化硅、氮化硅或氮氧化硅等亲液材料形成第二层第一像素界定单元和第二层第二像素界定单元。
例如，该示例中，如图11a所示，可以先在衬底基板上形成第二层像素界定单元1011和1021。例如，第一像素界定单元和第二像素界定单元的第二层素界定单元的结构相同。例如，首先形成一层第二层像素界定单元材料，然后对其进行一次构图工艺，例如涂覆一层光刻胶材料，然后进行曝光、显影、刻蚀等工艺以形成第二层像素界定单元；然后在第二层像素界定单元上形成一层第一层像素界定单元材料，例如，利用双色调掩模进行曝光工艺与显影工艺以形成第一层像素界定单元。例如，进行曝光工艺时，形成第一层第二像素界定单元1022所采用的曝光量小于形成第一层第一像素界定单元1012所采用的曝光量。其具体形成方式可以参见上一示例，此处不再赘述。该示例最终形成如图11b所示的像素界定结构。
利用本实施例提供的制备方法形成的像素界定结构具多个像素界定组，并且位于每个像素界定组边缘位置的第二像素界定单元在第一方向的截面上具有内倾侧边，例如具有倒梯形，该内倾侧边(例如倒梯形)可以减缓喷墨打印于每个像素界定组边缘位置的墨水的干燥速度，进而使得每个像素界定组的各个像素界定单元中的墨水的干燥速度基本一致，使得墨水在干燥后的形态更加均匀，例如墨水的成膜厚度等更加均匀。
实施例五
本实施例提供一种显示基板的制备方法，如图12所示，该显示基板的制备方法包括形成上述任一像素界定结构，并采用上述任一喷墨打印方法在像素界定结构内喷墨打印有机材料以形成有机功能层。
本实施例中，如图12所示，首先形成像素界定结构，然后在该像素界定结构的第一像素界定单元101和第二像素界定单元201的开口内喷墨打印有机材料以形成有机功能层103。有机功能层103例如可以为有机发光层、电子注入层、空穴注入层、电子传输层和空穴传输层中的一种或几种，本实施例对此不做限定。
本实施例提供的显示基板的制备方法可以在各像素界定单元中形成更加均匀的有机功能层，例如形成厚度及表面形貌等更加均匀的有机功能层。因此，利用本实施例提供的方法制备得到的有机发光显示基板具有更好的显示均匀性，进而由此得到的显示装置具有更好的显示效果。
在本公开之中，还有以下几点需要说明：
(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”或者可以存在中间元件。
(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。