半导体装置封装及其制造方法与流程

文档序号:19146516发布日期:2019-11-15 23:35阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种连接结构,其包括:

中间导电层,其包含第一表面和与所述第一表面相对的第二表面,所述中间导电层具有第一热膨胀系数(cte);

第一导电层,其与所述中间导电层的所述第一表面接触,所述第一导电层具有第二cte;

第二导电层,其与所述中间导电层的所述第二表面接触,

其中所述第一导电层和所述第二导电层由相同材料形成;以及

其中所述第一cte和所述第二cte中的一者为负,且另一者为正。

2.根据权利要求1所述的连接结构,其中所述第一导电层和所述中间导电层中的一者包含含有碳原子的6元环。

3.根据权利要求1所述的连接结构,其中所述第一导电层和所述中间导电层中的一者包含石墨烯。

4.根据权利要求1所述的连接结构,其中所述第一导电层的厚度等于所述第二导电层的厚度。

5.根据权利要求4所述的连接结构,其中

其中tg是所述第一导电层的厚度,tc是所述中间导电层的厚度,ctec是所述第一cte,且cteg是所述第二cte;以及

所述第二cte为负。

6.根据权利要求4所述的连接结构,其中

所述第二cte为负;以及

所述第一导电层的厚度与所述中间导电层的厚度的比率在从约1.75到8的范围内。

7.根据权利要求4所述的连接结构,其中

其中tg是所述第一导电层的厚度,tc是所述中间导电层的厚度,cteg是所述第一cte,且ctec是所述第二cte;以及

所述第一cte为负。

8.根据权利要求4所述的连接结构,其中

所述第一cte为负;以及

所述第一导电层的厚度与所述中间导电层的厚度的比率在从约0.43到2的范围内。

9.根据权利要求1所述的连接结构,其中所述中间导电层、所述第一导电层和所述第二导电层界定迹线。

10.根据权利要求1所述的连接结构,其中所述中间导电层、所述第一导电层和所述第二导电层界定导电通孔。

11.一种连接结构,其包括:

中间导电层,其包含第一表面和与所述第一表面相对的第二表面;

第一导电层,其与所述中间导电层的所述第一表面接触;

第二导电层,其与所述中间导电层的所述第二表面接触,

其中所述第一导电层和所述第二导电层由相同材料形成,且所述第一导电层和所述中间导电层中的一者包含含有碳原子的6元环。

12.根据权利要求11所述的连接结构,其中所述第一导电层和所述中间导电层中的一者包含由多个6元环建构的基本平面。

13.根据权利要求11所述的连接结构,其中所述第一导电层和所述中间导电层中的一者具有负cte。

14.根据权利要求13所述的连接结构,其中所述第一导电层的厚度等于所述第二导电层的厚度。

15.根据权利要求14所述的连接结构,其中

所述第一导电层具有负cte;以及

所述第一导电层的厚度与所述中间导电层的厚度的比率在从约1.75到8的范围内。

16.根据权利要求14所述的连接结构,其中

所述中间导电层具有负;以及

所述第一导电层的厚度与所述中间导电层的厚度的比率在从约0.43到2的范围内。

17.根据权利要求13所述的连接结构,其中所述第一导电层和所述中间导电层中的一者包含石墨烯。

18.根据权利要求13所述的连接结构,其中所述中间导电层、所述第一导电层和所述第二导电层界定迹线。

19.根据权利要求13所述的连接结构,其中所述中间导电层、所述第一导电层和所述第二导电层界定导电通孔。

20.根据权利要求11所述的连接结构,其中所述第一导电层的所述cte小于所述中间导电层的所述cte。


技术总结
半导体装置封装及其制造方法。本发明提供一种连接结构。所述连接结构包含中间导电层、第一导电层和第二导电层。所述中间导电层包含第一表面和与第一表面相对的第二表面。所述中间导电层具有第一热膨胀系数。所述第一导电层与所述中间导电层的第一表面接触。所述第一导电层具有第二CTE。所述第二导电层与所述中间导电层的第二表面接触。所述第一导电层和所述第二导电层由相同材料形成。所述第一CTE和所述第二CTE中的一者为负,且另一者为正。

技术研发人员:吕文隆;方仁广
受保护的技术使用者:日月光半导体制造股份有限公司
技术研发日:2018.12.13
技术公布日:2019.11.15
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