一种oled阵列基板及其制作方法、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种OLED阵列基板及其制作方法、显示装置。
【背景技术】
[0002]OLED(Organic Light-Emitting D1de，有机发光二极管)显示器已经广泛应用于显示技术领域。OLED显示器的基本结构包括阳极、发光层和阴极，其中，发光层采用有机电致发光材料形成。
[0003]OLED实现彩色显示一般通过两种方式实现:一种是采用白光有机发光材料结合彩色滤光片实现彩色显示。由于部分光被彩色滤光片吸收，这种方法实现彩色显示降低了显示亮度。
[0004]另一种是采用高精细金属掩模板(FMM)蒸镀不同基色的有机发光材料形成各像素。而金属掩膜板蒸镀形成的像素的面积与显示分辨率有关，分辨率越高，像素的密度越大，像素的面积就越小。以5英寸全高清画面(FHD，Full High Definit1n)的显示屏为例，显示分辨率为1080 X 1920，则基板上的像素密度约为440 PPI，以包括红、绿、蓝三种颜色的亚像素来说，每个亚像素约为19.22um X 57.65um。
[0005]而通常考虑到蓝色发光效率低的因素，一个像素中会增大蓝色亚像素面积，减小红、绿亚像素面积。则受限于FMM蒸镀工艺的限制，在蓝色子像素的面积大于红色和绿色子像素的面积情况下，通过FMM工艺进一步减小红色和绿色亚像素面积的加工难度极大，成本也非常高，则通过FMM蒸镀工艺减小亚像素的面积，提高显示分辨率几乎是不可能。
【发明内容】
[0006]本发明的实施例提供一种OLED阵列基板及其制作方法、显示装置，解决了采用金属掩膜板蒸镀不同基色的有机发光材料实现彩色显示带来的显示装置分辨率低的问题。
[0007]为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案:
[0008]一方面，本发明实施例提供了一种OLED阵列基板，包括多个像素单元，所述像素单元至少包括第一亚像素、第二亚像素和第三亚像素，还包括:衬底基板、形成在所述衬底基板上的像素电极以及形成在所述像素电极上至少两种显示不同颜色的有机发光材料层，其中，所述第一亚像素包括第一像素电极、第二亚像素包括第二像素电极和第三亚像素包括第三像素电极，第一颜色的有机发光材料层覆盖所述像素单元中相邻的第一像素电极和第二像素电极，第二颜色的有机发光材料层覆盖所述像素单元中相邻的第二像素电极和第三像素电极。
[0009]另一方面，本发明实施例提供了一种OLED阵列基板的制作方法，所述阵列基板包括多个像素单元，所述像素单元至少包括第一亚像素、第二亚像素和第三亚像素，所述制作方法包括:
[0010]在衬底上形成像素电极，其中，所述第一亚像素包括第一像素电极、第二亚像素包括第二像素电极和第三亚像素包括第三像素电极；
[0011]形成第一颜色的机发光材料层，其中，所述第一颜色的机发光材料层覆盖所述像素单元中相邻的第一像素电极和第二像素电极；
[0012]形成第二有机发光材料层，其中，所述第二有机发光材料层覆盖所述像素单元中相邻的第二像素电极和第三像素电极。
[0013]再一方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的任一所述的OLED阵列基板。
[0014]本发明的实施例提供一种OLED阵列基板及其制作方法、显示装置，其中，阵列基板包括多个像素单元，像素单元至少包括第一亚像素、第二亚像素和第三亚像素，第一亚像素包括第一电极、第二亚像素包括第二电极、第三亚像素包括第三电极，第一颜色的有机发光材料层覆盖像素单元中相邻的第一像素电极和第二像素电极，第二颜色的有机发光材料层覆盖像素单元中相邻的第二像素电极和第三像素电极。即第一像素电极的上面仅覆盖有第一颜色的有机发光材料层，第三像素电极的上面仅覆盖有第二颜色的有机发光材料层，而第二像素电极的上面覆盖有第一颜色的有机发光材料层和第二颜色的有机发光材料层。则第二亚像素显示的颜色为第一颜色和第二颜色混合后的颜色。由于第一颜色的有机发光材料层和第二颜色的有机发光材料层均覆盖了两个相邻的像素电极，则第一颜色的有机发光材料层和第二颜色的有机发光材料层在通过FMM蒸镀工艺沉积时，有机发光材料层对应覆盖两个像素电极，掩膜板上的镂空区域面积较大，因此，可以通过减小像素电极的面积，即减小一个亚像素的面积，制作高分辨率的显示面板。
【附图说明】
[0015]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为现有的一种像素单元示意图；
[0017]图2为图1所示像素单元的k_k'向示意图；
[0018]图3为本发明实施例提供的一种像素单元示意图；
[0019]图4为图3所示像素单元的k-k'向示意图；
[0020]图5为本发明实施例提供的另一种像素单元示意图；
[0021]图6为图5所示像素单元的k-k'向示意图；
[0022]图7为本发明实施例提供的另一种像素单元示意图；
[0023]图8为本发明实施例提供的一种OLED阵列基板制作方法示意图；
[0024]图9为本发明实施例提供的另一种OLED阵列基板制作方法示意图。
[0025]附图标记:
[0026]10-像素单元;11-玻璃基板；12-TFT阵列；13-像素电极；131-第一像素电极；132-第二像素电极；133_第三像素电极；134_第四像素电极；14_有机发光材料层；141_红色有机发光材料层；142_绿色有机发光材料层；143_蓝色有机发光材料层。
【具体实施方式】
[0027]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0028]为了更容易的理解本发明实施例提供的技术方案，首选结合【附图说明】现有的OLED阵列基板的结构。
[0029]具体的，如图1、图2所示，以像素单元包括四个亚像素为例，四个亚像素分别显示红(R)、绿(G)、蓝⑶、黄⑴四种颜色。如图2所示，OLED阵列基板包括:玻璃基板11以及形成在玻璃基板11上的TFT阵列12和像素电极13。红色有机发光材料层141覆盖第一像素电极131进而形成红色亚像素、黄色有机发光材料层142覆盖第二像素电极132进而形成黄色亚像素、绿色有机发光材料层143覆盖第三像素电极133进而形成绿色亚像素、蓝色有机发光材料层144覆盖第一像素电极134进而形成蓝色亚像素。即现有技术中，一种颜色的有机发光材料层覆盖像素单元中的一个像素电极，进而形成一个亚像素。但由于采用FMM蒸镀形成有机发光材料层时，有机发光材料层的蒸镀精度低，导致一个亚像素的面积较大，显示面板的分辨率较低。
[0030]本发明实施例提供了一种OLED阵列基板，包括多个像素单元，像素单元至少包括第一亚像素、第二亚像素和第三亚像素，如图3、图4所示，包括:衬底基板11、形成在衬底基板11上的TFT阵列12以及像素电极13、形成