有机电致发光显示基板及制备方法、显示面板、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明属于显示技术领域，具体涉及一种有机电致发光显示基板及制备方法、显示面板、显示装置。
【背景技术】
[0002]有机电致发光显示(Organic Light-Emitting D1de，缩写0LED)相对于液晶显示具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。
[0003]有机电致发光器件薄膜制备方法主要有真空蒸镀和溶液法两种制程，其中:真空蒸镀适用于有机小分子，其成膜均匀好、技术相对成熟、但是设备投资大、材料利用率低、大尺寸产品掩膜板对位精度低。溶液法的制程包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等，适用于聚合物材料和可溶性小分子，其特点设备成本低，在大规模、大尺寸生产上优势突出。
[0004]其中，喷墨打印制备OLED显示器件，其工艺过程是可溶性的OLED功能层材料通过喷墨打印机按照一定的体积喷墨到对应的子像素区域内，然后、干燥形成有机电致发光层。由于喷墨打印机的喷墨喷头的规格较少，喷墨头对墨液粘度、表面张力的要求不同、以及墨液本身特性、墨液成膜工艺的需求不同，加之显示面板设计决定的子像素大小等等因素，使得在喷墨打印过程中常常出现喷墨打印η滴时有机薄膜厚度小于器件所需厚度，喷墨打印η+1滴，有机薄膜厚度大于器件所需厚度，喷墨体积无法与显示器件结构所需要的厚度匹配。
【发明内容】
[0005]本发明的目的是解决现有技术有机电致发光显示基板、显示面板、显示装置中无法实现形成有机电致发光层的墨液的体积与实际的有机电致发光层的厚度相匹配的问题。
[0006]解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种有机电致发光显示基板，包括设置在衬底上的用于限定子像素区域的像素界定层，所述像素界定层包括与子像素对应的容纳区和位于所述容纳区外周侧的凹槽。
[0007]优选的，所述容纳区的体积等于用于形成所述子像素的墨液的体积。
[0008]优选的，所述凹槽的体积小于用于形成所述子像素的喷墨打印机的一滴墨液的体积。
[0009]优选的，所述凹槽包括靠近所述容纳区的第一肩部和远离所述容纳区的第二肩部，其中，第一肩部的高度低于远离所述容纳区一侧的第二肩部的高度。
[0010]优选的，所述第二肩部是采用疏水材料制备的。
[0011]优选的，所述第一肩部是采用疏水材料或亲水材料制备的。
[0012]优选的，所述疏水材料包括氟化聚酰亚胺树脂；所述亲水材料包括聚酰亚胺树脂、Si02、SiNx。
[0013]本发明的另一个目的还包括提供一种有机电致发光显示面板，包括上述的有机电致发光显示基板。
[0014]本发明的另一个目的还包括提供一种有机电致发光显示装置，包括上述的有机电致发光显示面板。
[0015]本发明的另一个目的还包括提供一种上述有机电致发光显示基板的制备方法，包括以下步骤:
[0016]在衬底上通过构图工艺形成交替排列的容纳区和待填充区图形，其中，所述容纳区和所述待填充区之间形成第一肩部；
[0017]在所述待填充区上通过构图工艺形成凹槽图形；
[0018]或者，在衬底上通过一次构图工艺形成容纳区和凹槽的图形。
[0019]优选的，所述在所述待填充区上通过构图工艺形成凹槽图形包括:在所述待填充区上涂覆疏水性材料膜，通过曝光、显影获得凹槽的图形。
[0020]优选的，所述疏水性材料膜的厚度大于等于所述待填充区的高度。
[0021]优选的，所述在衬底上通过一次构图工艺形成容纳区和凹槽的图形包括:在衬底上涂覆疏水性材料膜；通过构图工艺一次形成容纳区和凹槽的图形。
[0022]本发明的有机电致发光显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，由于在有机电致发光显示基板设置了与子像素对应的容纳区和位于所述容纳区外周侧的凹槽，这样在喷墨打印时形成有机电致发光层的墨液存放在容纳区，而多余的墨液则进入到所述容纳区外周侧的凹槽中，这样能够保证多余的墨液与形成有机电致发光层的墨液进行分隔，有利于实现形成有机电致发光层的墨液的体积与实际的有机电致发光层的厚度相匹配。
【附图说明】
[0023]图1为本发明实施例1和实施例4中一次构图工艺形成容纳区和凹槽的图形后有机电致发光显示基板的结构示意图。
[0024]图2为本发明实施例4中形成容纳区和待填充区的图形后的有机电致发光显示基板的结构示意图。
[0025]图3为本发明实施例4中涂覆氟化聚酰亚胺树脂层后的有机电致发光显示基板的结构示意图。
[0026]图4为本发明实施例4中形成凹槽的图形后的有机电致发光显示基板的结构示意图。
[0027]其中:
[0028]1.衬底；2.第一肩部；3.容纳区；4.待填充区；5.第二肩部；6.凹槽；7.氟化聚酰亚胺树脂层。
【具体实施方式】
[0029]为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本发明作进一步详细描述。
[0030]实施例1
[0031]如图1所示，本实施例提供一种有机电致发光显示基板，包括设置在衬底I上的用于限定子像素区域的像素界定层，所述像素界定层包括与子像素对应的容纳区3和位于所述容纳区3外周侧的凹槽6。
[0032]本实施例提供的有机电致发光显示基板由于设置了与子像素对应的容纳区3和位于所述容纳区3外周侧的凹槽6，这样在喷墨打印时形成有机电致发光层的墨液存放在容纳区3，而多余的墨液则进入到所述容纳区3外周侧的凹槽6中，这样能够保证多余的墨液与形成有机电致发光层的墨液进行分隔，有利于实现形成有机电致发光层的墨液的体积与实际的有机电致发光层的厚度相匹配。
[0033]优选的，所述容纳区3的体积等于用于形成所述子像素的墨液的体积。
[0034]应当理解的是，对于特定的喷墨打印机、喷头规格、墨液性质、及子像素大小，可以确定形成特定大小和厚度的子像素所需要的墨液的体积，然后通过构图工艺形成与上述墨液的体积相等的容纳区3。从而在后续干燥过程中，在容纳区3的墨液的体积刚好能形成特定大小和厚度的子像素。从而实现了形成有机电致发光层的墨液的体积与实际的有机电致发光层的厚度相匹配。
[0035]优选的，所述凹槽6的体积小于用于形成所述子像素的喷墨打印机的一滴墨液的体积。
[0036]这样能够使容纳区3的墨液的体积位于η?η+1滴之间，其中多余的墨液(小于I滴墨液的体积)，流入凹槽6中，这样在起到调节容纳区3墨液的体积的前提下，将凹槽6的体积尽量减少降低子像素之间的距离。
[0037]优选的，所述凹槽6包括靠近所述容纳区3的第一肩部2和远离所述容纳区3的第二肩部5，其中，第一肩部2的高度低于远离所述容纳区3 —侧的第二肩部5的高度。
[0038]这样在凹槽6中的墨液不易在制作过程溢流到相邻的子像素区域，导致形成相邻子像素的墨液之间产生污染。
[0039]优选的，所述第二肩部5是采用疏水材料制备的。
[0040]这样能防止形成相邻子像素之间的墨液由于第二肩部5浸润性较好而在第二肩部5上爬升，从而使形成相邻子像素的墨液产生交叉污染。
[0041]优选的，所述第一肩部2是采用疏水材料或亲水材料制备的。
[004