一种基板处理方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种基板处理方法。
【背景技术】
[0002]随着科学技术的迅速发展，在诸如手机、掌上电脑、车载导航仪、笔记本电脑等电子产品上广泛地应用了触摸屏。
[0003]现有的电容触摸屏主导生产技术有两种，一种是大片玻璃路线，其工艺是:大片玻璃一次强化一超声波清洗一印制图案一超声波清洗一镀ΙΤ0膜一清洗一涂胶一光刻一去胶清洗一切割成小片一CNC成型一二次强化一FPC贴合一检测一检验包装；另一种生产技术是小片玻璃路线，其工艺是:大片玻璃一次强化一切割成小片一CNC成型一二次强化一超声波清洗一印制图案一超声波清洗一镀ΙΤ0膜一清洗一光刻一去胶清洗一镀制防指纹膜一FPC贴合一检测一检验包装。
[0004]然而，上述路线中的玻璃在整个过程中，由于CNC (Computer NumbericalControl，计算机数据控制)工艺之后，玻璃相关部位的压应力已去除或减小，会产生崩边、崩角现象，因而均要经过二次强化，以再次提高玻璃强度。因此，不利于生产工艺的简化及效率的提闻。
【发明内容】
[0005]有鉴于此，本发明提供一种有利于简化生产工艺、提高生产效率的基板处理方法。
[0006]本发明提供的所述基板处理方法，其至少包括以下步骤:提供至少一基板，所述基板至少具有一加工部位；对所述基板的加工部位进行数控加工处理,对所述基板的加工部位进行数控加工处理，所述数控加工处理至少包括对所述加工部位喷射一种冷却液以进行冷却处理的步骤，所述冷却液中至少含有第二碱离子，所述第二碱离子的离子半径大于所述第一碱离子的半径。
[0007]本发明提供的所述基板处理方法中，所述第二碱离子的浓度大于所述基板中第一碱离子的浓度。
[0008]本发明提供的所述基板处理方法中，所述第一碱离子为钠离子，所述第二碱离子为钾离子。
[0009]本发明提供的所述基板处理方法中，所述冷却液中还含有一种蚀刻剂。
[0010]本发明提供的所述基板处理方法中，蚀刻剂为氢氟酸。
[0011]本发明提供的所述基板处理方法中，所述数控加工处理包括对所述加工部位进行开孔、倒边或倒角。
[0012]本发明提供的所述基板处理方法中，所述基板处理方法还包括在对所述基板的加工部位进行数控加工处理之后在所述基板上制作一功能层的步骤。
[0013]发明提供的所述基板处理方法中，所述基板处理方法还包括在对所述基板的加工部位进行数控加工处理之前在所述基板上制作一功能层的步骤。
[0014]本发明提供的所述基板处理方法中，所述功能层为触控电极层或者显示层。
[0015]本发明提供的所述基板处理方法中，所述基板处理方法还包括在对所述基板的加工部位进行数控加工处理过程之前，对所述基板进行一次强化的步骤。
[0016]本发明提供的所述基板处理方法中，所述冷却液中还含有催化剂。
[0017]本发明的基板处理方法过程中，由于制作所述基板的材料中含有第一碱离子，在所述冷却液中添加有第二碱离子，所述第二碱离子的离子半径大于所述第一碱离子的离子半径，因而在进行所述数控加工处理的同时，所述第一碱离子和第二碱离子进行了离子交换，即对所述基板进行了强化，因此简化了现有技术中在数控加工处理过程后还需要对所述基板进行强化的步骤。即，本发明提供的基板处理方法有利于简化生产工艺和提高生产效率。
【附图说明】
[0018]下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中:
[0019]图1为本发明提供的一较佳实施方式的基板处理方法的流程示意图；
[0020]图2为本发明提供的另一较佳实施方式的基板处理方法的流程示意图。
【具体实施方式】
[0021]为说明本发明提供的基板处理方法，以下结合说明书附图及文字说明进行详细阐述。
[0022]请参考图1，为本发明提供的一较佳实施方式的基板处理方法的流程示意图。所述基板处理方法至少包括以下步骤:
[0023]步骤S01:提供至少一基板，所述基板至少具有一加工部位，制成所述基板的材料中至少含有第一碱离子；
[0024]所述加工部位一般为所述基板的边缘、边角或者预定需要开孔的位置。所述基板为玻璃或者其他材料，所述第一碱离子为钠离子(Na+)。
[0025]步骤S02:对所述基板的加工部位进行数控加工处理，所述数控加工处理至少包括对所述加工部位喷射一种冷却液以进行冷却处理的步骤，所述冷却液中至少含有第二碱离子，所述第二碱离子的离子半径大于所述第一碱离子的离子半径。
[0026]本实施方式中，所述第二碱离子为K+，所述冷却液中含有ΚΝ03或者K2C03。所述第二碱离子的浓度大于所述第一碱离子的浓度。优选的，所述第二碱离子浓度大于或等于99%。由于在所述冷却液中添加有所述第二碱性离子，使得所述第二碱性离子与所述第一碱性离子进行离子交换，因此在所述数控加工处理过程中即完成了基板的强化。
[0027]所述冷却液中还可以添加有蚀刻剂，添加有所述蚀刻剂的冷却液为酸液，在所述冷却液中加蚀刻剂，一方面有利于加强数控加工处理速率，另一方面有利于将所述数控加工处理过程中压应力释放的部分基板材质去掉，因而进一步加强了所述基板的强度。
[0028]所述酸液可以为氢氟酸(HF)，由于制成所述基板的主要材料为二氧化硅(Si02)，其与所述氢氟酸的反应化学式为:
[0029]Si02+4HF = SiF4 ? +2Η20
[0030]所述冷却处理的时间依所述基板的尺寸而定，所述数控加工处理(CNC)是指对玻璃进行开孔、倒边、倒角等工艺，从而赋予玻璃特定的外形。所述冷却处理过程中须用冷却液持续冲洗，以使所述加工部位温度降低，减少因温度升高而造成基板崩裂、涨缩等问题，且可将磨出的基板粉屑冲走，减少基板表面刮伤的几率。又由于在数控加工处理过程中会产生很高的温度，因此，有利于加快所述离子交换速率以及上述氢氟酸与二氧化硅，即加快了基板强化速率。
[0031]由于所述氢氟酸有强腐蚀性，因此所述数控加工处理过程在密闭空间进行，以防止所述酸液飞溅对人员或者其他设备造成损伤。
[0032]所述冷却液中还可含有催化剂，例如三氧化二铝(A1203)，其有利于所述第二碱离子与第一碱离子的离子交换速度，即有利于所述基板的强化速度。
[0033]步骤S03:在所述基板上制作一功能层。
[0034]本实施方式中，所述功能层为触控电极层，所述基板至少具有一第一表面，所述触控电极制作在所述第一表面上，所述基板用以制作触控面板，所述