所述阵列基板的显示区形成第一无机膜层，本发明对此并不做限定，具体视情况而定。
[0066]在上述任一实施例的基础上，在本发明的一个实施例中，在所述凸起结构围成的显示区内，所述第一无机膜层背离所述阵列基板一侧表面形成有机膜层，所述有机膜层的厚度大于所述凸起结构的高度包括:
[0067]根据所述凸起结构的高度计算所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积；
[0068]根据所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积，设置所述待形成有机膜层所需墨滴的实际体积，所述待形成有机膜层所需墨滴的实际体积大于所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积，以使得后续形成的有机膜层的厚度大于所述凸起结构的高度；
[0069]根据所述待形成有机膜层所需墨滴的实际体积，在所述凸起结构围成的显示区内，所述第一无机膜层背离所述阵列基板一侧表面形成有机膜层。
[0070]可选的，在上述实施例的基础上，在本发明的一个实施例中，所述根据所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积，设置所述待形成有机膜层所需墨滴的实际体积，所述待形成有机膜层所需墨滴的实际体积大于所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积包括:
[0071]根据所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积以及所述待形成有机膜层形成时所用制作设备的参数，计算所述待形成有机膜层所需墨滴的理想数量和每个墨滴的理想体积；
[0072]根据所述待形成有机膜层所需墨滴的理想数量和每个墨滴的理想体积，设置所述待形成有机膜层所需墨滴的实际数量和每个墨滴的实际体积，使得所述待形成有机膜层所需墨滴的实际体积大于所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积。
[0073]具体的，在上述实施例的基础上，在本发明的一个实施例中，所述待形成有机膜层所需墨滴的实际数量等于所述待形成有机膜层所需墨滴的理想数量，每个墨滴的实际体积大于每个墨滴的理想体积，以使得所述待形成有机膜层所需墨滴的实际体积大于所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积;在本发明的另一个实施例中，每个墨滴的实际体积等于每个墨滴的理想体积，所述待形成有机膜层所需墨滴的实际数量大于所述待形成有机膜层所需墨滴的理想数量，以使得所述待形成有机膜层所需墨滴的实际体积大于所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积;在本发明的又一个实施例中，所述待形成有机膜层所需墨滴的实际数量大于所述待形成有机膜层所需墨滴的理想数量，每个墨滴的实际体积大于每个墨滴的理想体积，以使得所述待形成有机膜层所需墨滴的实际体积大于所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积。本发明对此并不做限定，只要保证所述待形成有机膜层所需墨滴的实际体积大于所述待形成有机膜层所需墨滴的理想体积即可。
[0074]在上述任一实施例的基础上，在本发明的一个实施例中，如图9所示，所述阵列基板的封装方法还包括:S6:在所述有机膜层背离所述阵列基板一侧形成第二无机膜层。
[0075]本发明实施例所提供的阵列基板的封装结构和封装方法中，所述有机膜层的厚度大于所述凸起结构的高度，从而避免所述有机膜层无法完全覆盖所述显示区的现象，且所述凸起结构的表面对所述有机膜层的形成溶液具有排斥性，从而在所述有机膜层的厚度大于所述凸起结构的高度时，避免所述有机膜层的形成溶液溢过所述凸起结构，蔓延至所述凸起结构背离所述显示区一侧的现象。
[0076]另外，本发明实施例还提供了一种阵列基板的封装结构的另一种结构示意图。请参考图10，图10为本发明实施例所提供的阵列基板的封装结构的一种结构示意图。与上述阵列基板的封装结构相比，本阵列基板的封装结构中除所述凸起结构的结构不同外，其他结构均相同。如图10所示，在本实施例所提供的阵列基板的封装结构包括:阵列基板10，所述阵列基板10的显示区形成有多个有机发光显示单元;位于所述阵列基板10显示区覆盖所述多个有机发光显示单元的第一无机膜层20;位于所述阵列基板10显示区周缘的凸起结构30;位于所述凸起结构30围成的显示区内，背离所述第一无机膜层20—侧的有机膜层40;其中，所述凸起结构30的表面对所述有机膜层40的形成溶液具有排斥性，且所述有机膜层40的厚度大于所述凸起结构30的厚度。其中，所述凸起结构30包括:挡墙结构31和位于所述挡墙结构31表面的无机膜覆盖层32，所述无机膜覆盖层32的表面对所述有机膜层40的形成溶液具有排斥性。可选的，所述无机膜覆盖层32与所述第一无机膜层20同时形成。
[0077]在上述实施例的基础上，在本发明的一个实施例中，如图11所示，所述阵列基板的封装结构还包括:位于所述有机膜层40背离所述第一无机膜层20—侧的第二无机膜层50。
[0078]相应的，本发明实施例还提供了另一种阵列基板的封装方法，应用上述阵列基板的封装结构。本阵列基板的封装方法中除所述凸起结构和第一无机膜层的形成方法不同夕卜，其他结构的形成方法均相同。具体的，在本发明实施例中，所述阵列基板的封装方法包括:S1:提供阵列基板，所述阵列基板表面的显示区形成有多个有机发光显示单元;S2:在所述阵列基板表面显示区形成覆盖所述有机发光显示单元的第一无机膜层;S3:在所述阵列基板显示区周缘形成凸起结构;S4:对所述凸起结构表面进行处理，使得所述凸起结构的表面对于待形成的有机膜层的形成溶液具有排斥性;S5:在所述凸起结构围成的显示区内，所述第一无机膜层背离所述阵列基板一侧表面形成有机膜层，所述有机膜层的厚度大于所述凸起结构的高度;其中，所述有机膜层的形成工艺为喷墨打印工艺。
[0079]需要说明的是，在本发明实施例中，所述凸起结构包括:挡墙结构和位于所述挡墙结构表面的无机膜覆盖层，所述无机膜覆盖层的表面对所述有机膜层的形成溶液具有排斥性，故，在本实施例中，在所述阵列基板显示区周缘形成凸起结构包括:在所述阵列基板显示区周缘形成挡墙结构;在所述挡墙结构表面形成无机膜覆盖层，所述无机膜覆盖层与所述第一无机膜层同时形成;相应的，对所述凸起结构表面进行处理，使得所述凸起结构的表面对于待形成的有机膜层的形成溶液具有排斥性包括:对所述无机膜覆盖层表面进行处理，使得所述无机膜覆盖层的表面对于待形成的有机膜层的形成溶液具有排斥性。
[0080]需要说明的是，在本发明实施例中，本发明实施例所提供的封装方法在具体使用过程中，先在所述阵列基板的显示区周缘形成挡墙结构，再在所述阵列基板的显示区和所述挡墙结构的表面形成无机膜层，其中，位于所述阵列基板的显示区的无机膜层为第一无机膜层，位于所述挡墙结构的表面形成无机膜层为无机膜覆盖层。在本发明的其他实施例中，所述第一无机膜层与所述无机膜覆盖层也可以不同时形成，本发明对此并不做限定，具体视情况而定。
[0081]此外，本发明实施例还提供了一种包括上述任一实施例所提供的阵列基板的封装结构的显示面板。
[0082]综上所述，本发明实施例所提供的阵列基板的封装结构及其封装方法，以及包括该阵列基板封装结构的显示面板中，所述有机膜层的厚度大于所述凸起结构的高度，从而避免所述有机膜层无法完全覆盖所述显示区的现象，且所述凸起结构的表面对所述有机膜层的形成溶液具有排斥性，从而在所述有机膜层的厚度大于所述凸起结构的高度时，避免所述有机膜层的形成溶液溢过所述凸起结构，蔓延至所述凸起结构背离所述显示区一侧的现象。
[0083]本说明书中各个部分采用递进的方式描述，每个部分重点说明的都是与其他部分的不同之处，各个部分之间相同相似部分互相参见即可。
[0084]需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而