印刷电路板及其制造方法
【专利摘要】公开了一种印刷电路板。该印刷电路板包括：包括玻璃纤维的芯绝缘层；在芯绝缘层的上部或下部上的第一绝缘层，该第一绝缘层包括电路图案凹槽；填充第一绝缘层的电路图案凹槽的第一电路图案；覆盖第一电路图案的第二绝缘层，第二绝缘层包括在第二绝缘层的顶表面处的电路图案凹槽；以及填充第二绝缘层的电路图案凹槽的第二图案，其中，第一绝缘层包括分布在树脂材料中的填充物。因此，可以通过如下方式来简单地形成微型埋入式图案：通过经由镀覆方案填充基板的凹槽来形成电路图案的同时通过化学机械蚀刻来去除绝缘层上的镀覆层。此外，可以通过在将由包括填充物的树脂形成的绝缘层接合在芯绝缘层上之后在绝缘层中形成埋入式图案来形成埋入式图案同时通过芯绝缘层的玻璃纤维来维持刚度。如上所述，通过单独形成用于芯绝缘层上的埋入式图案的不具有玻璃纤维的薄绝缘层，PCB的总厚度可以薄薄地形成同时维持刚度。
【专利说明】印刷电路板及其制造方法
【技术领域】
[0001]本公开涉及一种印刷电路板及其制造方法。
【背景技术】
[0002]印刷电路板(PCB)是通过使用导电材料如铜(Cu)在电绝缘基板上印刷电路线图案而形成的，并且指的是在其上安装电子部件之前的板。换言之，PCB指的是这样的电路板:其中电子部件的安装位置是确定的，并且连接电子部件的电路图案固定地印刷在平板上，以使电子器件紧密安装在平板上。
[0003]在根据相关领域的PCB的情况下，根据电路的设计，电路图案形成为多层构造。在这种情况下，通过蚀刻薄铜层或者在绝缘层上镀覆薄铜层，电路图案可以从绝缘层向上突起。
[0004]因此，在该绝缘层上形成有其他绝缘层以覆盖从该绝缘层突起的电路图案，并且其他电路图案从其他绝缘层突起，使得PCB的总厚度增加并且存在对形成微型电路的限制。
[0005]另一方面，近年来，为了电子部件的高性能和小型化的目的，已使用了具有减小的厚度和平坦化的表面的埋入式图案基板。
[0006]图1是示出了典型的埋入式图案PCBlO的图。
[0007]如图1所示，埋入式图案PCBlO包括在绝缘基板I的表面中的埋入式图案凹槽2和通过经由镀覆工艺填充埋入式图案凹槽2而形成的电路图案3。
[0008]具有埋入式电路图案3的PCBlO因基电路图案和接触部的结构而可以相对于绝缘构件具有非常强的粘合强度，并且基电路图案和接触部的间距可以均匀和精密地形成。
[0009]然而，当埋入式电路图案3通过镀覆方案形成时，在具有图案凹槽2的区域与不具有图案凹槽2的区域之间出现镀覆变异，使得在镀覆处理之后不能均匀地进行蚀刻处理。因此，如图1所示，电路图案3的预定区域可能没有被蚀刻，使得电路图案3可能与相邻电路图案短路。此外，电路图案3的其他区域可能被过蚀刻，使得在信号传输中可能出现错误。
【发明内容】
[0010]技术问题
[0011]实施例提供了一种具有埋入式电路图案的印刷电路板。
[0012]实施例提供了一种用于制造埋入式电路图案的新方法。
[0013]问题的解决方案
[0014]根据实施例，提供了一种印刷电路板，其包括:包括玻璃纤维的芯绝缘层；在芯绝缘层的上部或下部上的第一绝缘层，该第一绝缘层包括电路图案凹槽；填充第一绝缘层的电路图案凹槽的第一电路图案；覆盖第一电路图案的第二绝缘层，第二绝缘层包括在第二绝缘层的顶表面处的电路图案凹槽；以及填充第二绝缘层的电路图案凹槽的第二图案，其中第一绝缘层包括分布在树脂材料中的填充物。
[0015]根据实施例，提供了一种用于制造印刷电路板的方法，该方法包括:在包括玻璃纤维的芯绝缘层的上部或下部处形成不具有玻璃纤维的第一绝缘层；在第一绝缘层中形成第一电路图案凹槽；通过镀覆方案形成镀覆层以填充第一电路图案凹槽并且覆盖第一绝缘层的顶表面；通过经由化学机械蚀刻去除镀覆层直到露出第一绝缘层为止来形成第一电路图案；形成第二绝缘层以覆盖第一埋入式图案；以及形成第二电路图案以填充第二绝缘层。
[0016]发明的有益效果
[0017]根据实施例，可以通过以下方式来简单地形成微型埋入式图案:在通过经由镀覆方案填充基板的凹槽来形成电路图案的同时通过化学机械蚀刻去除绝缘层上的镀覆层。
[0018]此外，蚀刻可以进行直到通过化学机械蚀刻露出绝缘层且不会造成相邻电路图案之间的短路为止。
[0019]此外，可以通过在将由包括填充物的树脂形成的绝缘层接合在芯绝缘层上之后在绝缘层中形成埋入式图案来形成埋入式图案同时通过芯绝缘层的玻璃纤维来维持刚度。
[0020]如上所述，通过单独形成用于芯绝缘层上的埋入式图案的不具有玻璃纤维的薄绝缘层，PCB的总厚度可以薄薄地形成同时维持刚度。
[0021]此外，由于不包括玻璃纤维，所以在形成用于埋入式图案的凹槽时可应用激光沟槽结构使得PCB可以容易地制造。
【专利附图】
【附图说明】
[0022]图1是示出了根据相关领域的PCB的截面图。
[0023]图2是示出了根据实施例的PCB的截面图。
[0024]图3至图12是示出了用于制造图2的PCB的方法的截面图。
[0025]图13是示出了根据另一实施例的PCB的截面图。
[0026]图14至图25是示出了用于制造图13的PCB的方法的截面图。
【具体实施方式】
[0027]下文中，将参照附图详细地描述实施例，使得本领域技术人员可以容易地利用本实施例。然而，实施例可以具有各种修改并且可以不限于所示实施例。
[0028]在下面的描述中，当预定部件包括预定元件时，该预定部件并非排除其他元件，而是如果存在具体的相反描述，则还可以包括其他元件。
[0029]为了方便或清楚的目的，可以放大、省略或示意性描绘附图中所示的每个层的厚度和尺寸。此外，元件的尺寸不完全反映实际的尺寸。遍及附图，相同的附图标记将被分配给相同的元件。
[0030]在实施例的描述中，应理解的是，当层、膜或板被称为在另一层、另一膜、另一区域或另一板之上或之下时，其可以直接地或间接地在其他层、膜、区域、板之上，或者也可以存在一个或更多个中间层。已参照附图描述层的这样的位置。
[0031]实施例提供了一种具有埋入式电路图案的PCB，不具有玻璃纤维的薄绝缘层附接至该埋入式电路图案以形成接合在包括玻璃纤维的芯绝缘层上的埋入式图案。
[0032]下文中，将参照图2至图12来描述根据本实施例的PCB。
[0033]图2是示出了根据本实施例的PCB的截面图。
[0034]参照图2，根据本实施例的PCB100包括:芯绝缘层110 ;形成在芯绝缘层110的上部或下部处的第一电路图案125、第二电路图案135和第三电路图案145 ;以及填充第一电路图案125、第二电路图案135和第三电路图案145的第一绝缘层120、第二绝缘层130和第三绝缘层140。
[0035]芯绝缘层100是充满玻璃纤维IlOa的基板。在芯绝缘层110中，玻璃纤维IlOa可以充满在树脂材料I 1b如环氧基绝缘树脂中，并且填充物110可以分布在树脂材料I 1b中。
[0036]填充物IlOc可以通过使用AlO3或S12形成为球形或条形。
[0037]芯绝缘层110可以具有在90m至I1m的范围内的厚度，并且优选地，厚度可以为10m0
[0038]芯绝缘层110可以包括形成为穿过芯绝缘层110的过孔111。
[0039]如图2所示，过孔111基于中心区域彼此对称，但本实施例不限于此。
[0040]可以通过填充过孔111来形成导电通孔126。导电通孔126可以包括金属材料如包括铝(Al)、铜(Cu)、银(Ag)、钼(Pt)、镍(Ni)和钯(Pd)中至少之一的合金。
[0041]芯绝缘层110在其上或其下形成有用作基电路图案的多个第一电路图案120。
[0042]第一电路图案125可以包括具有高电导率和低电阻的材料。例如，第一电路图案125可以包括金属材料如包含铝(Al)、铜(Cu)、银(Ag)、钼(Pt)、镍(Ni)和钯(Pd)中至少之一的合金。
[0043]第一电路图案125可以包括单个层或多个层。当通过镀覆方案形成第一电路图案125时，可以在籽晶层上形成电镀层。
[0044]籽晶层可以包括铜(Cu)、镍(Ni)或其合金。包括铝(Al)、铜(Cu)、银(Ag)、钼(Pt)、镍(Ni)和钯(Pd)中至少之一的合金可以应用于籽晶层上作为电镀层。
[0045]延伸部可以在芯绝缘层110上从导电通孔126开始延伸。延伸部可以形成为高度与第一电路图案125相同。
[0046]芯绝缘层110在其上或其下形成有包围第一电路图案125的第一绝缘层120。
[0047]第一绝缘层120可以包括不具有玻璃纤维的树脂材料，并且填充物可以分布在树脂材料中。第一绝缘层120可以包括味之素(Ajinomoto)增层膜(ABF)，但是实施例不限于此。
[0048]第一绝缘层120插入第一电路图案。第一电路图案125和第一绝缘层120可以具有相同的厚度，并且可以好地满足厚度在1m至20m的范围内。
[0049]第一绝缘层120包括露出第一电路图案125和导电通孔126的延伸部的第一电路图案凹槽121。
[0050]如上所述，由于第一电路图案凹槽121形成在仅第一绝缘层120中而没有延伸到芯绝缘层I1中，所以在形成第一电路图案凹槽121时可以防止由玻璃纤维IlOa引起的误差。
[0051]还可以在第一绝缘层120上形成多个绝缘层130和140。
[0052]如图2所示，绝缘层130和140可以具有双层结构。第二绝缘层130可以形成在第一绝缘层120上，并且第三绝缘层140可以形成在第二绝缘层130上。
[0053]第二绝缘层130和第三绝缘层140可以包括不具有玻璃纤维的绝缘层，特别是具有环氧树脂的树脂材料。
[0054]第二绝缘层130和第三绝缘层140可以包括相同的材料，并且可以比第一绝缘层120 厚。
[0055]第二绝缘层130和第三绝缘层140在其顶表面上形成有第二电路图案凹槽131和第三电路图案凹槽141，并且电路图案分别填充在第二电路图案凹槽131和第三电路图案凹槽141中。
[0056]第二电路图案凹槽131和第三电路图案凹槽141可以具有与第一电路图案凹槽121相同的深度，并且第一绝缘层120未因第二电路图案凹槽131和第三电路图案凹槽141而露出。
[0057]通过分别填充第二电路图案凹槽131和第三电路图案凹槽141来形成第二电路图案135和第三电路图案145。
[0058]第二电路图案135和第三电路图案145可以具有与第一电路图案125相同的厚度，并且可以包括连接至导电通孔126的通孔。
[0059]虽然图2示出了具有基于芯绝缘层110的三个上层和三个下层的总共六层的电路图案，但是本实施例不限于此。
[0060]还可以形成阻焊剂150以覆盖最上面的电路图案145。
[0061]阻焊剂150通过露出最上面的电路图案145的连接至通孔的延伸部而形成焊盘。
[0062]下文中，将参照图3至图12来描述制造图2的PCB100的方法。
[0063]首先，如图3所示，分别在芯绝缘层110之上和之下形成第一绝缘层120。
[0064]芯绝缘层100是充满玻璃纤维IlOa的基板。将玻璃纤维IlOa充满在树脂材料如环氧基绝缘树脂中，并且将填充物110分布在树脂材料IlOb中，使得可以形成芯绝缘层110。
[0065]第一绝缘层120可以包括其中未充满玻璃纤维的树脂材料。
[0066]芯绝缘层110可以具有在90m至IlOm的范围内的厚度，并且第一绝缘层120的厚度可以为10m。
[0067]接着，如图4所示，形成穿过芯绝缘层110的过孔111，并且在第一绝缘层120处形成第一电路图案凹槽121。
[0068]可以通过使用CO2激光或YAG激光穿过玻璃纤维IlOa来形成过孔111。在这种情况下，对芯绝缘层I1的上部和下部处进行处理，使得如图4所示形成基于芯绝缘层110的中心部分对称的过孔111。
[0069]也就是说，过孔111可以具有沙漏形状，该形状的宽度从过孔111的中心部分朝顶表面和底表面逐渐增加。
[0070]然而，当过孔11形成在芯绝缘层110的一个表面处时，过孔111的宽度从一个表面向另一表面逐渐减小或者具有相同的形状。
[0071]之后，在第一绝缘层120处形成第一电路图案凹槽121。可以通过使用准分子激光去除第一绝缘层120来形成第一电路图案凹槽121。在这种情况下，可以在过孔111的顶表面处形成延伸部。
[0072]接着，如图5所示，形成镀覆层128以覆盖过孔111和第一电路图案凹槽121。
[0073]首先，通过进行表面污物去除处理来去除第一绝缘层120的表面上的污物。
[0074]详细地，在使第一绝缘层120的表面凸起之后，通过使用高锰酸来去除凸起的第一绝缘层120，并且进行湿法蚀刻处理以中和第一绝缘层120，从而去除污物。
[0075]可以通过表面污物去除处理来在第一绝缘层120的表面上提供粗糙结构。
[0076]可以通过化学镀覆方案在第一绝缘层120上形成籽晶层。
[0077]化学镀覆方案可以按照以下顺序进行:脱脂工艺、软蚀刻工艺、预催化剂工艺、催化剂处理工艺、加速剂工艺、化学镀覆工艺和抗氧化处理工艺。此外，籽晶层可以通过使用等离子体溅射金属粒子来形成。
[0078]籽晶层包括包含Cu、N1、Pd或Cr的合金。
[0079]接着，使用籽晶层作为籽晶来进行关于导电材料的电镀处理，从而形成镀覆层128。
[0080]镀覆层128可以通过进行电镀处理同时根据镀覆面积控制电流来形成。
[0081]镀覆层128可以包含具有高电导率的Cu。
[0082]接着，如图6所示，进行化学机械蚀刻以去除第一绝缘层120上的镀覆层128。
[0083]换言之，在将PCB100放置在研磨机的板上之后，在pH9或以上的碱性环境下对过镀覆的镀覆层128进行研磨。优选地，通过使用其中添加氨作为主要成分和添加少量的过氧化物的研磨液来对过镀覆的镀覆层128进行研磨。
[0084]研磨机在板上旋转以引入对过镀覆的镀覆层128和研磨液的物理蚀刻。
[0085]因此，如图6所示，通过化学机械蚀刻对镀覆层128进行蚀刻直到露出第一绝缘层120为止，以去除保留在第一绝缘层120上的镀覆层128，从而研磨结束。
[0086]板的直径可以为1200mm或更小。此外，板可以设置有热导线以使热传递到PCBlOO0因此，可以同时蚀刻具有510 410或更大的尺寸的PCB100，使得可以去除具有大的面积的镀覆层128。
[0087]之后，如图7所示，在第一绝缘层120上形成第二绝缘层130以覆盖第一电路图案125。
[0088]第二绝缘层130可以包括环氧树脂，但不包括单独的玻璃纤维。第二绝缘层130可以比芯绝缘层110薄而比第一绝缘层120厚。
[0089]通过照射准分子激光在第二绝缘层130上来形成第二电路图案凹槽131。
[0090]当形成第二电路图案凹槽131时，由于第二绝缘层130不具有玻璃纤维，所以露出通孔126的延伸部的过孔可以与第二电路图案凹槽131同时形成。
[0091]之后，如图8所示，通过进行镀覆处理来形成镀覆层138。
[0092]形成镀覆层138的处理与形成第一电路图案125的镀覆层128的处理相同。
[0093]接着，通过进行化学机械蚀刻来形成图9的第二电路图案135。
[0094]接着，如图10和图11所示，形成第三绝缘层140和第三电路图案145。
[0095]可以通过重复形成第二绝缘层130和第二电路图案135的工艺来进行形成第三绝缘层140和第三电路图案145的工艺。
[0096]之后，如图12所示，通过形成露出最上层的连接至通孔126的延伸部并且覆盖第三电路图案145的阻焊剂150而制成该PCB。
[0097]最上层的通过阻焊剂150露出的延伸部可以用作焊盘。
[0098]如上所述，由于形成有电路图案的绝缘层不具有玻璃纤维，同时确保了包括厚芯绝缘层110的PCB100的刚度，所以简化了电路图案凹槽的形成，使得可以降低制造成本和时间。
[0099]此外，PCB100可以通过薄地形成绝缘层而小型化。
[0100]下文中，将参照图13至图25来描述另一实施例。
[0101]参照图13，根据本实施例的PCB100A包括:芯绝缘层110 ;第一电路图案125、第二电路图案135和第三电路图案145 ;以及形成在芯绝缘层110的上部或下部处的第一绝缘层120、第二绝缘层130和第三绝缘层140。
[0102]芯绝缘层100是充满玻璃纤维IlOa的基板。在芯绝缘层110中，玻璃纤维IlOa可以充满在树脂材料I 1b如环氧基绝缘树脂中，并且填充物110可以分布在树脂材料I 1b中。
[0103]填充物IlOc可以通过使用AlO3或S12而形成为球形或条形。
[0104]芯绝缘层110可以具有在90m至IlOm的范围内的厚度，并且优选地，厚度可以为10m0
[0105]芯绝缘层110可以包括形成为穿过芯绝缘层110的过孔111。
[0106]如图2所示，过孔111基于中心区域彼此对称，但本实施例不限于此。
[0107]可以通过填充过孔111来形成导电通孔126。导电通孔126可以包括金属材料如包括铝(Al)、铜(Cu)、银(Ag)、钼(Pt)、镍(Ni)和钯(Pd)中至少之一的合金。
[0108]芯绝缘层110在其上或其下形成有用作基电路图案的多个第一电路图案120。
[0109]第一电路图案125可以包括具有高电导率和低电阻的材料。例如，第一电路图案125可以包括金属材料如包含铝(Al)、铜(Cu)、银(Ag)、钼(Pt)、镍(Ni)和钯(Pd)中至少之一的合金。
[0110]第一电路图案125可以包括单个层或多个层。当通过镀覆方案形成第一电路图案125时，可以在籽晶层上形成电镀层。
[0111]籽晶层可以包括铜(Cu)、镍(Ni)或其合金。合金包括可应用在籽晶层上作为电镀层的铝(Al)、铜(Cu)、银(Ag)、钼(Pt)、镍(Ni)和钯(Pd)中至少之一。
[0112]延伸部可以从芯绝缘层110上的导电通孔126延伸。延伸部可以形成为高度与第一电路图案125相同。
[0113]芯绝缘层110在其上或其下形成有包围第一电路图案125的第一绝缘层120。
[0114]第一绝缘层120可以包括不具有玻璃纤维的树脂材料，并且填充物可以分布在树脂材料中。第一绝缘层120可以包括味之素(Ajinomoto)增层膜(ABF)，但本实施例不限于此。
[0115]第一绝缘层120插入第一电路图案。第一电路图案125和第一绝缘层120可以具有相同的厚度，并且可以好地满足在1m至20m的范围内的厚度。
[0116]第一绝缘层120包括露出第一电路图案125和导电通孔126的延伸部的第一电路图案凹槽121。
[0117]如上所述，由于第一电路图案凹槽121仅形成在第一绝缘层120中而没有延伸到芯绝缘层I1中，所以在形成第一电路图案凹槽121时可以防止由玻璃纤维IlOa引起的误差。
[0118]还可以在第一绝缘层120上形成多个绝缘层130和140。
[0119]如图2所示，绝缘层130和140可以具有双层结构。第二绝缘层130可以形成在第一绝缘层120上，并且第三绝缘层140可以形成在第二绝缘层130上。
[0120]第二绝缘层130和第三绝缘层140分别包括玻璃纤维130a和140a。在第二绝缘层130和第三绝缘层140中，玻璃纤维130a和140a可以分别地充满在树脂材料130b和140b中，并且填充物130c和140c可以分别分布在树脂材料130b和140b中。
[0121]第二绝缘层130和第三绝缘层140可以比芯绝缘层110薄并且比第一绝缘层120厚。
[0122]在第二绝缘层130和第三绝缘层140上形成有第二电路图案135和第三电路图案145，并且分别地设置有包围第二电路图案135和第三电路图案145的第一图案绝缘层133和第二图案绝缘层143。
[0123]第一图案绝缘层133和第二图案绝缘层143可以包括与第一绝缘层120中一样的不具有玻璃纤维的树脂材料，并且填充物可以分布在树脂材料中。第一图案绝缘层133和第二图案绝缘层143可以包括味之素(Ajinomoto)增层膜(ABF)，但本实施例不限于此。
[0124]第一图案绝缘层133和第二图案绝缘层143在其顶表面上形成有第二电路图案凹槽131和第三电路图案凹槽141，并且在第二电路图案凹槽131和第三电路图案凹槽141中分别地填充电路图案。
[0125]第二电路图案凹槽131和第三电路图案凹槽141可以具有与第一电路图案凹槽121相同的深度，并且第二绝缘层130和第三绝缘层140未因第二电路图案凹槽131和第三电路图案凹槽141而露出。
[0126]通过分别填充第二电路图案凹槽131和第三电路图案凹槽141来形成第二电路图案135和第三电路图案145。
[0127]第二电路图案135和第三电路图案145可以具有与第一电路图案125相同的厚度，并且可以包括连接至导电通孔126的通孔。
[0128]虽然图13示出了具有基于芯绝缘层110的三个上层和三个下层的总共六个层的电路图案，但本实施例不限于此。
[0129]还可以形成阻焊剂150以覆盖最上面的电路图案145。
[0130]阻焊剂150通过露出最上面的电路图案145的连接至通孔的延伸部而形成焊盘。
[0131]下文中，将参照图14至图25来描述制造图13的PCB100A的方法。
[0132]首先，如图14所示，分别在芯绝缘层110之上和之下形成第一绝缘层120。
[0133]芯绝缘层100是充满玻璃纤维IlOa的基板。将玻璃纤维IlOa充满在树脂材料如环氧基绝缘树脂中，并且将填充物110分布在树脂材料IlOb中，使得可以形成芯绝缘层110。
[0134]第一绝缘层120可以包括其中未充满玻璃纤维的树脂材料。
[0135]芯绝缘层110可以具有在90m至IlOm的范围内的厚度，并且第一绝缘层120的厚度可以为10m。
[0136]接着，形成穿过芯绝缘层110的过孔111，并且在第一绝缘层120处形成第一电路图案凹槽121。
[0137]可以通过使用CO2激光或YAG激光穿过玻璃纤维IlOa来形成过孔111。在这种情况下，对芯绝缘层I1的上部和下部进行处理，以形成如图4所示的基于芯绝缘层110的中心部分对称的过孔111。
[0138]也就是说，过孔111可以具有沙漏形状，该形状的宽度从过孔111的中心部分朝顶表面和底表面逐渐增加。
[0139]然而，当过孔111形成在芯绝缘层110的一个表面处时，过孔111的宽度从一个表面向另一表面逐渐减小或者具有相同的形状。
[0140]之后，在第一绝缘层120处形成第一电路图案凹槽121。可以通过使用准分子激光去除第一绝缘层120来形成第一电路图案凹槽121。在这种情况下，可以在过孔111的顶表面处形成延伸部。
[0141]接着，如图15所示，形成镀覆层128以覆盖过孔111和第一电路图案凹槽121。
[0142]首先，通过进行表面污物去除处理来去除第一绝缘层120的表面上的污物。
[0143]详细地，在使第一绝缘层120的表面凸起之后，通过使用高锰酸来去除凸起的第一绝缘层120，并且进行湿法蚀刻处理以中和第一绝缘层120，从而去除污物。
[0144]可以通过表面污物去除处理来在第一绝缘层120的表面上提供粗糙结构。
[0145]可以通过化学镀覆方案在第一绝缘层120上形成籽晶层。
[0146]化学镀覆方案可以按照以下顺序进行:脱脂工艺、软蚀刻工艺、预催化剂工艺、催化剂处理工艺、加速剂工艺、化学镀覆工艺和抗氧化处理工艺。此外，籽晶层可以通过使用等离子体溅射金属粒子来形成。
[0147]籽晶层包括包含Cu、N1、Pd或Cr的合金。
[0148]接着，使用籽晶层作为籽晶来进行关于导电材料的电镀处理，从而形成镀覆层128。
[0149]镀覆层128可以通过进行电镀处理同时根据镀覆面积控制电流来形成。
[0150]镀覆层128可以包含具有高电导率的Cu。
[0151]接着，如图16所示，进行化学机械蚀刻以去除第一绝缘层120上的镀覆层128。
[0152]换言之，在将PCB100放置在研磨机的板上之后，在pH 9或以上的碱性环境下对过镀覆的镀覆层128进行研磨。优选地，通过使用其中添加氨作为主要成分和添加少量的过氧化物的研磨液来对过镀覆的镀覆层128进行研磨。
[0153]研磨机在板上旋转以引入对过镀覆的镀覆层128和研磨液的物理蚀刻。
[0154]因此，如图6所示，通过化学机械蚀刻对镀覆层128进行蚀刻直到露出第一绝缘层120为止，以去除保留在第一绝缘层120上的镀覆层128，从而研磨结束。
[0155]板的直径可以为1200mm或更小。此外，板可以设置有热导线以使热传递到PCBlOO0因此，可以同时蚀刻具有510410或更大的尺寸的PCB100，使得可以去除具有大的面积的镀覆层128。
[0156]之后，如图7所示，在第一绝缘层120上形成第二绝缘层130和第一图案绝缘层133以覆盖第一电路图案125。
[0157]第二绝缘层130可以包括玻璃纤维，并且第一图案绝缘层133可以包括环氧树脂，但不包括单独的玻璃纤维。第二绝缘层130可以比芯绝缘层110薄并且比第一绝缘层120厚。
[0158]通过照射准分子激光在图案绝缘层133上来形成图18的第二电路图案凹槽131。
[0159]当形成第二电路图案凹槽131时，由于图案绝缘层133不具有玻璃纤维，所以露出通孔126的延伸部的过孔可以与第二电路图案凹槽131同时形成。
[0160]之后，如图19所示，通过进行镀覆处理来形成镀覆层138。
[0161]形成镀覆层138的工艺与形成第一电路图案125的镀覆层128的工艺相同。
[0162]接着，通过进行化学机械蚀刻来形成图20的第二电路图案135。
[0163]接着，如图21和图24所示，形成第三绝缘层140、第二图案绝缘层143和第三电路图案145。
[0164]可以通过重复形成第二绝缘层130和第二电路图案135的工艺来进行形成第三绝缘层140、第二图案绝缘层143和第三电路图案145的工艺。
[0165]之后，如图25所示，通过形成露出最上层的连接至通孔126的延伸部并且覆盖第三电路图案145的阻焊剂150而制成该PCB。
[0166]最上层的通过阻焊剂150露出的延伸部可以用作焊盘。
[0167]如上所述，由于形成有电路图案的绝缘层不具有玻璃纤维，同时确保了包括厚芯绝缘层110的PCB100的刚度，因此简化了电路图案凹槽的形成，使得可以降低制造成本和时间。
[0168]此外，PCB100可以通过薄地形成绝缘层而小型化。
[0169]虽然已参照其若干示例性实施例来描述实施例，但是应理解的是，本领域技术人员可以设计许多其他修改和实施例，这些修改和实施例将落入本公开的原理的精神和范围内。
【权利要求】
1.一种印刷电路板,包括: 芯绝缘层，所述芯绝缘层包括玻璃纤维； 第一绝缘层，所述第一绝缘层在所述芯绝缘层的上部或下部上，所述第一绝缘层包括电路图案凹槽； 第一电路图案，所述第一电路图案填充所述第一绝缘层的所述电路图案凹槽； 第二绝缘层，所述第二绝缘层覆盖所述第一电路图案并且包括在所述第二绝缘层的顶表面处的电路图案凹槽；以及 第二图案，所述第二图案填充所述第二绝缘层的所述电路图案凹槽， 其中，所述第一绝缘层包括分布在树脂材料中的填充物。
2.根据权利要求1所述的印刷电路板，其中，所述第一绝缘层的所述电路图案凹槽形成为穿过所述第一绝缘层。
3.根据权利要求1所述的印刷电路板，其中，所述第一绝缘层比所述芯绝缘层薄。
4.根据权利要求3所述的印刷电路板，其中，所述第一绝缘层的厚度等于所述第一电路图案的厚度。
5.根据权利要求1所述的印刷电路板，还包括形成为穿过所述芯绝缘层的通孔。
6.根据权利要求5所述的印刷电路板，其中，所述通孔具有关于所述芯绝缘层的中心部分对称的截面形状。
7.根据权利要求6所述的印刷电路板，其中，所述通孔的在所述芯绝缘层的中心部分处的面积比所述通孔的在所述芯绝缘层的顶表面和底表面处的面积小。
8.根据权利要求1所述的印刷电路板，其中，所述第二绝缘层包括: 盖绝缘层，所述盖绝缘层覆盖所述第一电路图案并且包括玻璃纤维；以及 图案绝缘层，所述图案绝缘层在所述盖绝缘层上包围所述第二电路图案。
9.根据权利要求8所述的印刷电路板，其中，所述图案绝缘层包括与所述第一绝缘层的材料相同的材料。
10.根据权利要求9所述的印刷电路板，其中，所述第二电路凹槽形成在所述图案绝缘层中。
11.一种用于制造印刷电路板的方法，所述方法包括: 在包括玻璃纤维的芯绝缘层的上部或下部处形成不具有玻璃纤维的第一绝缘层； 在所述第一绝缘层中形成第一电路图案凹槽； 通过镀覆方案形成镀覆层以填充所述第一电路图案凹槽并且覆盖所述第一绝缘层的顶表面； 通过经由化学机械蚀刻去除所述镀覆层直到露出所述第一绝缘层为止来形成第一电路图案； 形成第二绝缘层以覆盖第一埋入式图案；以及 形成第二电路图案以填充所述第二绝缘层。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，形成所述第一电路图案凹槽包括使用激光来形成所述电路图案凹槽。
13.根据权利要求11所述的方法，其中，所述化学机械蚀刻包括通过使用研磨液在pH9或以上的碱性环境下去除所述镀覆层。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述碱性环境通过将氨和过氧化物与所述研磨液混合而形成。
15.根据权利要求11所述的方法，其中，所述第二绝缘层比所述第一绝缘层厚并且比所述芯绝缘层薄。
16.根据权利要求11所述的方法，其中，形成所述第二绝缘层包括: 形成包括玻璃纤维的盖绝缘层以覆盖所述第一电路图案；以及 在所述盖绝缘层上形成不具有玻璃纤维的图案绝缘层。
17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述图案绝缘层包括与所述第一绝缘层的材料相同的材料。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，埋入所述第二电路图案包括: 在所述图案绝缘层处形成电路图案凹槽； 形成镀覆层以填充所述电路图案凹槽；以及 通过经由所述化学机械蚀刻对所述镀覆层进行蚀刻来形成所述第二电路图案。
【文档编号】H05K3/46GK104247584SQ201380020634
【公开日】2014年12月24日 申请日期:2013年3月14日 优先权日:2012年3月14日
【发明者】南明和, 金秉浩, 徐英郁, 徐玄锡, 刘昌佑, 李尚铭 申请人:Lg伊诺特有限公司