对最终产物的扫描电镜SEM表征如图1所示，可以看出氧化石墨烯烃过透明质 酸修饰过后依然保持其片层结构，即修饰仅发生在表面，并不改变石墨烯本身的结构。
[0037] 实施例2
[0038] (1)将49. 8mg GO加入IOmL蒸馏水中，超声分散至均勾。然后在磁力搅拌条件下加 入31. 7mg EDC · HCl和15. 8mg NHS，进行搅拌活化反应3h。另将63. 4mg CMC配制成5mg/ mL水溶液，在磁力搅拌条件下，逐滴加入上述已活化GO分散液中，在室温状态下搅拌反应 24h。最后将反应液转移至透析袋（MW= 100, 000)中，用透析法将未反应的杂质及副产物 除去，先用PBS缓冲液透析3次，每次2L，再用超纯水透析6次。最后对样品进行冷冻干燥 处理后获得G0-CMC，密封保存于4°C冰箱待用。
[0039] (2)将 327. Img HA(MW = 6, 800)溶于 30mL 蒸馏水中，加入 9. 2mg EDC · HCl 和 4. 4mg NHS，进行搅拌活化3h，另将51. 2mg GO-CMC配制成5mg/mL水溶液，在磁力搅拌条件 下，逐滴加入活化后的HA水溶液中，室温条件下搅拌反应24h。最后将反应液转移至透析袋 (MW = 8, 000-14, 000)中，用透析法将未反应的杂质及副产物除去，先用PBS缓冲液透析3 次，每次2L，再用超纯水透析6次。最后对样品进行冷冻干燥处理后获得GO-CMC-HA，密封 保存于4°C冰箱。
[0040] (3)对各步产物GO-CMC、GO-CMC-HA及CMC、HA测试的1H-NMR图谱如图2所示，GO 在所示范围内没有明显的特征峰，经CMC修饰后，图（c)中化学位移为δ = 4. 5~5. Oppm 处出现的是CMC上的氨基质子峰。进一步经HA修饰后，图（d)中出现了与HA相关的葡糖 醛酸及N-乙酰氨基葡糖的的质子峰。这些结果表明HA与GO-CMC成功连接在一起。
[0041] 实施例3
[0042] (1)将80. 3mg GO加入15mL蒸馏水中，超声分散至均勾。然后在磁力搅拌条件下 加入51. 2mg EDC · HCl和25. 8mg NHS，进行搅拌活化反应3h。另将90mg CMC配制成5mg/ mL水溶液，在磁力搅拌条件下，逐滴加入上述已活化GO分散液中，在室温状态下搅拌反应 24h。最后将反应液转移至透析袋（MW= 100, 000)中，用透析法将未反应的杂质及副产物 除去，先用PBS缓冲液透析3次，每次2L，再用超纯水透析6次。最后对样品进行冷冻干燥 处理后获得G0-CMC，密封保存于4°C冰箱待用。
[0043] (2)将 401. 3mg HA(MW = 6, 800)溶于 40mL 蒸馏水中，加入 11. 3mg EDC · HCl 和 5. 4mg NHS，进行搅拌活化3h，另将81. 2mg GO-CMC配制成5mg/mL水溶液，在磁力搅拌条件 下，逐滴加入活化后的HA水溶液中，室温条件下搅拌反应24h。最后将反应液转移至透析袋 (MW = 8, 000-14, 000)中，用透析法将未反应的杂质及副产物除去，先用PBS缓冲液透析3 次，每次2L，再用超纯水透析6次。最后对样品进行冷冻干燥处理后获得G0-CMC-HA，密封 保存于4°C冰箱。
[0044] (3)对各步产物GO、GO-CMC、GO-CMC-HA测试的热失重分析TGA图谱如图3所示， 选取900°C为计算温度，修饰在石墨烯表面的CMC约为12. 5%，HA约为5. 6%。
[0045] 实施例4
[0046] (1)将21. 2mg GO加入IOmL蒸馏水中，超声分散至均勾。然后在磁力搅拌条件下 加入16. 2mg EDC .HCl和8. 3mg NHS，进行搅拌活化反应3h。另将30. 8mg CMC配制成5mg/ mL水溶液，在磁力搅拌条件下，逐滴加入上述已活化GO分散液中，在室温状态下搅拌反应 24h。最后将反应液转移至透析袋（MW= 100, 000)中，用透析法将未反应的杂质及副产物 除去，先用PBS缓冲液透析3次，每次2L，再用超纯水透析6次。最后对样品进行冷冻干燥 处理后获得G0-CMC，密封保存于4°C冰箱待用。
[0047] ⑵将 I22· tog HA(MW = 6, 8〇0)溶于 l5mL 蒸馏水中，加入 3. 5mg EDC · HCl 和 I. 7mg NHS，进行搅拌活化3h，另将23. 6mg GO-CMC配制成5mg/mL水溶液，在磁力搅拌条件 下，逐滴加入活化后的HA水溶液中，室温条件下搅拌反应24h。最后将反应液转移至透析袋 (MW = 8, 000-14, 000)中，用透析法将未反应的杂质及副产物除去，先用PBS缓冲液透析3 次，每次2L，再用超纯水透析6次。最后对样品进行冷冻干燥处理后获得G0-CMC-HA，密封 保存于4°C冰箱。
[0048] (3)G0、GO-CMC、GO-CMC-HA的Zeta电位如表1所示。氧化石墨烯呈电负性，说明 其本身具有一定生物相容性，经CMC修饰后，由于CMC表面存在未被取代的氨基，导致电位 略有升高，再经HA修饰后，电位回落，说明修饰成功，且终产物呈电负性，具备一定的生物 相容性。
[0049] 表 1 实施例 4 中 GO、GO-CMC、GO-CMC-HA 的 Zeta 电位
[0050]
【主权项】
1. 一种由羧甲基壳聚糖介导的含透明质酸修饰的氧化石墨烯复合材料的制备方法，包 括： (1) 将氧化石墨烯GO分散在蒸馏水中，超声，在搅拌的条件下加入1-(3-二甲氨基丙 基）-3-乙基碳二亚胺盐酸盐EDC?HCl和N-羟基琥珀酰亚胺NHS，活化3h;其中，GO氧化 石墨烯与EDC?HCl和NHS的质量比为1:0. 5:0. 25~1:1:0. 5 ; (2) 活化结束后加入羧甲基壳聚糖CMC水溶液，搅拌24h，透析，冷冻干燥，得到GO-CMC; 其中，氧化石墨烯与羧甲基壳聚糖的质量比为1:1~1:2 ; ⑶将透明质酸HA溶解在蒸馏水中，加入EDC?HCl和NHS活化3h;其中，透明质酸与 活化剂EDC?HCl和NHS的摩尔比为1:1:0. 8 ; (4)将步骤⑵中得到的GO-CMC溶于蒸馏水中，逐滴加入到步骤（3)中活化的透明质 酸中，搅拌反应24h，透析，冷冻干燥，得到含透明质酸的氧化石墨烯复合材料GO-CMC-HA; 其中，GO-CMC与HA的质量比为1:5~1:10。2. 根据权利要求1所述的一种由羧甲基壳聚糖介导的含透明质酸修饰的氧化石墨烯 复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤（1)中活化时间为3h。3. 根据权利要求1所述的一种由羧甲基壳聚糖介导的含透明质酸修饰的氧化石墨烯 复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤（2)中搅拌的时间为24h。4. 根据权利要求1所述的一种由羧甲基壳聚糖介导的含透明质酸修饰的氧化石墨烯 复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤（3)中活化的时间为3h。5. 根据权利要求1所述的一种由羧甲基壳聚糖介导的含透明质酸修饰的氧化石墨烯 复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤（4)中的搅拌时间为24h。6. 根据权利要求1所述的一种由羧甲基壳聚糖介导的含透明质酸修饰的氧化石墨烯 复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤（2)和步骤（4)中的透析为采用透析袋，先在 pH为7-8的缓冲液中透析，然后在蒸馏水中透析。
【专利摘要】本发明涉及一种由羧甲基壳聚糖介导的含透明质酸修饰的氧化石墨烯复合材料的制备方法，包括：(1)将氧化石墨烯GO和羧甲基壳聚糖CMC在蒸馏水中通过活化剂1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺盐酸盐EDC·HCl和N-羟基琥珀酰亚胺NHS的作用产生化学键合，透析冻干，合成GO-CMC；(2)将透明质酸溶解在蒸馏水中，加入活化剂EDC·HCl和NHS活化；(3)将上述GO-CMC配制成水溶液逐滴加入活化过的透明质酸HA中，搅拌，透析冻干，即得GO-CMC-HA。本发明的制备过程简单，实验条件为常温常压，易于操作。本发明制备得到的氧化石墨烯复合材料用药物的载体，具有很好的使用价值。
【IPC分类】A61K47/36, A61K47/04, C01B31/04
【公开号】CN104922675
【申请号】CN201510270469
【发明人】朱利民, 杨卉卉, 陶磊, 肖瑞秋
【申请人】东华大学
【公开日】2015年9月23日
【申请日】2015年5月25日