本发明属于屏蔽材料制备技术领域，具体涉及一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法。
背景技术：
在过去的二十几年里，由电器设备的干扰而产生的问题即所谓的电磁辐射已成为人们普遍关注的一个热点问题，电磁辐射波易使周围的电子电器设备受到干扰，产生误操作、图像障碍或者声音障碍，而且还会造成计算机信息泄漏等严重的社会问题。同时电视机、计算机，手机等常用电器的电磁辐射也会对人体产生危害。而近些年随着各种电器的普及，电子计算机，通讯卫星，高压输电网和一些医用设备等的广泛应用，由此带来的电磁污染越来越严重，为此，人们研究了适用于不同领域的各种电磁屏蔽技术，如铁磁材料，良导体材料，复合材料及其他新型材料。
铝金属具有良好的导电性、导热性、耐腐蚀性、吸引性及耐核辐射性等优良性质，并且具有良好的光电性能等优良性质。其优异的光学性质和电学性质，使得铝薄膜在微电子电路、薄膜电路和光学薄膜中被广泛应用。
镀铝膜层可以满足反射可见光，有效阻隔紫外线和红外线的辐射。材料质轻，耐高温，收缩率小，具有极好的阻燃特性和机械性能、优异的柔性和弹性，满足高温及危险作业场所对防护服面料的应用需求。满足反射可见光，有效阻隔紫外线和红外线的辐射。用于太空服对日光的反射。亦可用于航空航天设备的屏蔽。
屏蔽材料是使绝缘体的表面附着一层导电层，从而达到屏蔽的目的，属于以反射损耗为主的屏蔽材料。他们通常由化学镀、真空蒸发镀膜、磁控溅射、金属熔射以及贴金属箔等方法制得。其中，适宜电镀的塑料品种较少，而且需要特种技术，废水排放量较大，化学镀对身体和环境都有危害；蒸发镀对于复杂形状表面则成膜厚度的均匀性难于控制，金属膜层附着力差，不适应复杂严苛的工作环境；金属熔射法的缺点是镀金属层与塑料之间的粘附力较差, 镀层容易脱落, 需要特殊的熔射装置且有些金属有毒；贴金属箔对于复杂形状则施工操作非常困难；溅射镀膜是在真空容器中将氩离子用高能量冲击到金属上使金属原子逸出，然后在塑料织物等的表面形成金属薄膜。溅射镀也能适用于各种塑料，与蒸发镀相比, 其镀层金属结合力更强，可以镀制所有金属薄膜及复合膜层，产品应用广泛，可以适应复杂的电磁工作环境。
目前通过溅射镀膜制备屏蔽织物是较为优异的做法，但电磁屏蔽材料的发展趋势是厚度向超薄方向发展，最薄可以做到0.003mm，这样的材料对后序的加工工序造成极大困难，贴胶膜容易出现褶皱报废，对分切设备和技术要求极高，且溅射镀膜的均匀性和粘附力很难同时掌握。
技术实现要素：
为弥补现有技术的不足，本发明提供一种成品率高、粘附力强的单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法。
本发明是通过如下技术方案实现的：
一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法，其特殊之处在于：包括以下步骤：
（1）将基材在涂布线上放卷经过无刮痕热熔胶涂布头，单面涂覆一层热熔胶，涂布克重10-20g/m2，涂布速度250-350m/min；
（2）将涂覆有热熔胶的基材放置在真空室内，真空室内抽至负压，然后向真空室内通入氩气，采用磁控溅射镀膜设备溅射铝靶材，溅射区两极之间的电压为300-500V，直流电流为5-8A，溅射时间为1-1.5min；所述磁控溅射镀膜设备的靶源采用矩形平面磁控靶和同轴圆柱形磁控靶结合，构成圆柱形、平面式磁控溅射靶。
进一步的，本发明的单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法，所述基材为厚度0.015-0.02mm的白色涤纶布。
进一步的，本发明的单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法，所述基材涂布克重为15 g/m2，涂布速度为300 m/min。
作为优选方案，本发明的单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法，步骤（2）中真空室内抽至负压为（1-10）×10-3Pa，通入氩气后的工作真空为（1-2）×10-1Pa。
进一步的，本发明的单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法，镀膜前后的收卷和放卷部位安装了可在镀膜机外实现转角控制的分段展平辊。
进一步的，本发明的单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法，所述镀膜前后的收卷和放卷侧安装有张力传感器和控制器。
进一步的，本发明的单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法，镀膜时采用冷辊对基材进行依附降温冷却和恒速控制。
本发明的有益效果是：
（1）本发明选择涂布热熔胶，比现有的贴胶技术生产效率高，膜层具有良好的一致性，粘结强度均一，胶膜可以做到更薄。省却离型纸/膜，降低成本；涂布的胶膜耐温、耐洗涤、耐腐蚀、耐老化、阻燃等：可根据客户需要进行研发改性；胶膜常温为固态，不粘手，方便运输及仓储。
（2）本发明溅射镀膜时把矩形平面磁控靶的结构原理应用到圆柱形磁控溅射靶中，设计的磁控溅射靶称为圆柱形、平面式磁控溅射靶．它兼有平面矩形靶和同轴圆柱靶两者的优点，即镀膜的均匀性好，和靶材利用率较高。
（3）本发明采用冷辊作为基材镀膜时的依附降温冷却和恒速控制，运行速度平稳，镀膜均匀，材料不易变形。
（4）按照本发明的方法制备的屏蔽材料，表面电阻横纵向均匀，几乎没有金属层脱落的缺陷。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例1
一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法，包括以下步骤：
（1）选择厚度0.015mm的白色涤纶布做为基材，将基材在涂布线上放卷经过无刮痕热熔胶涂布头，单面涂覆一层热熔胶，膜层均匀细腻，极高的涂布精度和完美的胶面效果，涂布机械速度可以达到300 m/min，涂布精度15g/m2；
（2）将涂覆有热熔胶的基材放置在真空室内，真空室内采用快速可靠的组合式高真空抽气系统，抽至负压为1×10-3Pa，具有抽气速度快、排气量大、真空度高的优良性能，然后向真空室内通入氩气，保持工作真空1×10-1Pa，采用磁控溅射镀膜设备溅射铝靶材，本实施例的磁控溅射镀膜设备把矩形平面磁控靶的结构原理应用到圆柱形磁控溅射靶中，设计的磁控溅射靶称为圆柱形、平面式磁控溅射靶，它兼有平面矩形靶和同轴圆柱靶两者的优点，即镀膜的均匀性好，和靶材利用率较高，溅射区两极之间的电压为300V，直流电流为5A，溅射时间为1min，两极间产生放电，使氩气形成正离子Ar+作为电子载体，由阳极向阴极的靶表面飞行。由于靶表面的垂直磁场作用，使电子成摆线高速旋转加速，并与阴极上金属靶碰撞，靶材在碰撞能量的作用下，使靶表面的金属原子或分子，溅涂附着在织物表面上。
本实施例在镀膜时采用主动放卷及冷辊恒速控制的三电机系统，运行速度平稳，镀膜均匀，材料不易变形，在收卷及放卷侧加有张力传感及控制，中间用过轴导向。冷辊工作温度为-15℃，防止材料高温变形及热熔胶变质失去粘接效果。
本实施例溅射的膜层结构：以镍、铬或者其合金中的一种作为底层金属，铜或者其合金作为导电层，铝金属膜层做为表面功能层。实现材料表面的金属沉积。设备有在线测量装置，对工艺参数可以适时调整。
本实施例基体材料卷绕系统的收卷和放卷部位均配备了可以在机外直接实现转角控制的分段展平辊，在进行真空卷绕镀膜过程中可根据实际所需要的展平效果实施即时调控。
（3）镀膜后的织物进行耐洗牢度测试：测试参照GB /T 392121997《纺织品耐洗色牢度试验方法》,样品大小规格为10 cm×10cm，水温为40℃，皂片加入量5g/L，浴比为1∶50，洗涤时间30min。将20颗钢珠与织物同时洗涤，洗涤后取出，用蒸馏水冲洗两次，然后烘干。织物在皂洗前后铝膜基本无脱落。镀铝织物在40℃皂液中与多颗钢珠一起转动洗涤，受到皂液及钢珠的共同破坏,织物能经受该苛刻的条件说明铝膜与织物的结合牢度是很好的。
实施例2
一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法，包括以下步骤：
（1）选择厚度0.02mm的白色涤纶布做为基材，将基材在涂布线上放卷经过无刮痕热熔胶涂布头，单面涂覆一层热熔胶，膜层均匀细腻，极高的涂布精度和完美的胶面效果，涂布机械速度可以达到250 m/min，涂布精度10g/m2；
（2）将涂覆有热熔胶的基材放置在真空室内，真空室内采用快速可靠的组合式高真空抽气系统，抽至负压为10×10-3Pa，具有抽气速度快、排气量大、真空度高的优良性能，然后向真空室内通入氩气，保持工作真空2×10-1Pa，采用磁控溅射镀膜设备溅射铝靶材，本实施例的磁控溅射镀膜设备把矩形平面磁控靶的结构原理应用到圆柱形磁控溅射靶中，设计的磁控溅射靶称为圆柱形、平面式磁控溅射靶，它兼有平面矩形靶和同轴圆柱靶两者的优点，即镀膜的均匀性好，和靶材利用率较高，溅射区两极之间的电压为300V，直流电流为5A，溅射时间为1.2min，两极间产生放电，使氩气形成正离子Ar+作为电子载体，由阳极向阴极的靶表面飞行。由于靶表面的垂直磁场作用，使电子成摆线高速旋转加速，并与阴极上金属靶碰撞，靶材在碰撞能量的作用下，使靶表面的金属原子或分子，溅涂附着在织物表面上。
（3）镀膜后的织物进行耐洗牢度测试：测试参照GB /T 392121997《纺织品耐洗色牢度试验方法》,样品大小规格为10 cm×10cm，水温为40℃，皂片加入量5g/L，浴比为1∶50，洗涤时间30min。将20颗钢珠与织物同时洗涤，洗涤后取出，用蒸馏水冲洗两次，然后烘干。织物在皂洗前后铝膜基本无脱落。
实施例3
一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法，包括以下步骤：
（1）选择厚度0.02mm的白色涤纶布做为基材，将基材在涂布线上放卷经过无刮痕热熔胶涂布头，单面涂覆一层热熔胶，膜层均匀细腻，极高的涂布精度和完美的胶面效果，涂布机械速度可以达到350 m/min，涂布精度20g/m2；
（2）将涂覆有热熔胶的基材放置在真空室内，真空室内采用快速可靠的组合式高真空抽气系统，抽至负压为5×10-3Pa，具有抽气速度快、排气量大、真空度高的优良性能，然后向真空室内通入氩气，保持工作真空1.5×10-1Pa，采用磁控溅射镀膜设备溅射铝靶材，本实施例的磁控溅射镀膜设备把矩形平面磁控靶的结构原理应用到圆柱形磁控溅射靶中，设计的磁控溅射靶称为圆柱形、平面式磁控溅射靶，它兼有平面矩形靶和同轴圆柱靶两者的优点，即镀膜的均匀性好，和靶材利用率较高，溅射区两极之间的电压为300V，直流电流为5A，溅射时间为1.5min，两极间产生放电，使氩气形成正离子Ar+作为电子载体，由阳极向阴极的靶表面飞行。由于靶表面的垂直磁场作用，使电子成摆线高速旋转加速，并与阴极上金属靶碰撞，靶材在碰撞能量的作用下，使靶表面的金属原子或分子，溅涂附着在织物表面上。
（3）镀膜后的织物进行耐洗牢度测试：测试参照GB /T 392121997《纺织品耐洗色牢度试验方法》,样品大小规格为10 cm×10cm，水温为40℃，皂片加入量5g/L，浴比为1∶50，洗涤时间30min。将20颗钢珠与织物同时洗涤，洗涤后取出，用蒸馏水冲洗两次，然后烘干。织物在皂洗前后铝膜基本无脱落。