真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统的制作方法
【专利摘要】一种真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统，包括：一真空室，内具有输送器并设输送器速度控制器，将玻璃放置于输送器上，于玻璃上端的金属靶材可于电流控制器作用下将金属镀于玻璃表面上；一玻璃，置放于输送器上；一输送器，上放置玻璃，可由输送速度控制器控制玻璃的输送速度；一输送速度控制器，可控制输送器输送玻璃的速度；一金属靶材，在电流控制器输出的电流作用下其金属可借真空磁控溅射原理镀于玻璃表面；一电流控制器，可依设定输出特定电流。本实用新型金属膜层的厚度可由电流控制器调整电流大小及输送速度控制器控制速度来设定膜层的厚度借此即可于玻璃表面形成所设定不同膜厚的图案。
【专利说明】真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统，主要包含真空室、玻 璃、输送器、输送速度控制器、金属靶材及电流控制器，本实用新型是真空室中具有输送器 并设输送器速度控制器，将玻璃放置于输送器上，于玻璃上端的金属祀材可于电流控制器 作用下将金属镀于玻璃表面上，其金属膜层的厚度可由电流控制器调整电流大小及输送速 度控制器控制速度来设定膜层的厚度借此即可于玻璃表面形成所设定不同膜厚的图案。
【背景技术】
[0002] 目前的磁控溅射镀膜在于金属镀膜厚度并无可程式化的厚度形成方法，即借由电 流强度及玻璃输送速度来控制金属镀膜的厚度及图案的形成。 实用新型内容
[0003] 本实用新型所要解决的主要技术问题在于，克服现有技术存在的上述缺陷，而提 供一种真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统，主要包含真空室、玻璃、输送器、输送速度控 制器、金属靶材及电流控制器，本实用新型是真空室中具有输送器并设输送器速度控制器， 将玻璃放置于输送器上，于玻璃上端的金属祀材可于电流控制器作用下将金属镀于玻璃表 面上，其金属膜层的厚度可由电流控制器调整电流大小及输送速度控制器控制速度来设定 膜层的厚度借此即可于玻璃表面形成所设定不同膜厚的图案。
[0004] 本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0005] -种真空磁控溉射金属膜层厚度控制系统，包括：一真空室，内具有输送器并设输 送器速度控制器，将玻璃放置于输送器上，于玻璃上端的金属祀材可于电流控制器作用下 将金属镀于玻璃表面上，金属膜层的厚度可由电流控制器调整电流大小及输送速度控制器 控制速度来设定金属膜层的厚度；一玻璃，置放于输送器上；一输送器，上放置玻璃，可由 输送速度控制器控制玻璃的输送速度；一输送速度控制器，可控制输送器输送玻璃的速度； 一金属靶材，在电流控制器输出的电流作用下其金属可借真空磁控溅射原理镀于玻璃表 面；一电流控制器，可依设定输出特定电流。
[0006] 前述的真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统，其中输送速度控制器可为连接电脑 进行程式化控制。
[0007] 前述的真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统，其中电流控制器可为连接电脑进行 程式化控制。
[0008] 本实用新型的有益效果是，主要包含真空室、玻璃、输送器、输送速度控制器、金属 靶材及电流控制器，本实用新型是真空室中具有输送器并设输送器速度控制器，将玻璃放 置于输送器上，于玻璃上端的金属祀材可于电流控制器作用下将金属镀于玻璃表面上，其 金属膜层的厚度可由电流控制器调整电流大小及输送速度控制器控制速度来设定膜层的 厚度借此即可于玻璃表面形成所设定不同膜厚的图案。
【专利附图】
【附图说明】
[0009] 下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
[0010] 图1是真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统的立体图。
[0011] 图中标号说明：
[0012] 1真空室
[0013] 2 玻璃
[0014] 3输送器
[0015] 4输送速度控制器
[0016] 5金属革巴材
[0017] 6电流控制器
[0018] 7金属膜层
【具体实施方式】
[0019] 请参阅图1 一种真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统，主要包含真空室1、玻璃2、 输送器3、输送速度控制器4、金属祀材5及电流控制器6,本实用新型是真空室1中具有输 送器3及输送速度控制器4,将玻璃2放置于输送器3上，于玻璃2上端的金属祀材5可于 电流控制器6作用下将金属镀于玻璃2表面上，其金属膜层7的厚度可由电流控制器6调 整电流大小及输送速度控制器4控制速度来设定金属膜层7的厚度借此即可于玻璃2表面 形成所设定不同膜厚的图案。
[0020] 以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上 的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与 修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
[0021] 综上所述，本实用新型在结构设计、使用实用性及成本效益上，完全符合产业发展 所需，且所揭示的结构亦是具有前所未有的创新构造，具有新颖性、创造性、实用性，符合有 关新型专利要件的规定，故依法提起申请。
【权利要求】
1. 一种真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统，其特征在于，包括： 一真空室，内具有输送器并设输送器速度控制器，将玻璃放置于输送器上，于玻璃上端 的金属靶材可于电流控制器作用下将金属镀于玻璃表面上，金属膜层的厚度可由电流控制 器调整电流大小及输送速度控制器控制速度来设定金属膜层的厚度； 一玻璃，置放于输送器上； 一输送器，上放置玻璃，可由输送速度控制器控制玻璃的输送速度； 一输送速度控制器，可控制输送器输送玻璃的速度； 一金属靶材，在电流控制器输出的电流作用下其金属可借真空磁控溅射原理镀于玻璃 表面； 一电流控制器，可依设定输出特定电流。
【文档编号】C03C17/09GK203878060SQ201320844544
【公开日】2014年10月15日 申请日期:2013年12月19日 优先权日:2013年12月19日
【发明者】林孟君 申请人:华泰(桐乡)玻璃明镜有限公司