基板、显示装置、配向膜的制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种基板、显示装置、配向膜的制造方法，属于显示【技术领域】，解决了由于液晶显示器的不同位置的馈通性不同，导致液晶显示器存在残像的技术问题。该基板包括衬底基板，以及形成于所述衬底基板上的配向膜，所述配向膜在横向方向上的厚度，从两端至中间逐渐变薄，和/或，所述配向膜在纵向方向上的厚度，从一端至另一端逐渐变薄。本发明可用于液晶电视、液晶显示器、手机、平板电脑等显示装置。
【专利说明】基板、显示装置、配向膜的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及显示【技术领域】，具体地说，涉及一种基板、显示装置、配向膜的制造方 法。
【背景技术】
[0002] 随着显示技术的发展，液晶显示器已经成为最为常见的平板基板。
[0003] 在各种显示模式的液晶显示器中，或轻或重都存在残像的问题，也就是在长时间 显示一静止图像，再改变显示的图像时，会残留之前的图像的残影。造成残像的一个主要原 因是液晶显示器的不同位置的馈通性（feed through)不同，也就是液晶显示器的不同位置 对驱动信号产生的压降不同。
[0004] 以双向驱动的液晶显示器为例，栅极驱动信号从液晶面板两端输入，栅极驱动信 号在栅线上传输的过程中会因为栅线的电阻发生延迟，所以在横向方向上，液晶面板两端 的馈通性就会比中间高。而数据信号都是从液晶面板的一端输入，数据信号在数据线上传 输过程中会因为数据线的电阻发生延迟，所以在纵向方向上，靠近数据信号输入端处的馈 通性就会比远离数据信号输入端处的馈通性高。由于液晶显示器的不同位置的馈通性不 同，导致液晶显示器存在残像的技术问题。
【发明内容】
[0005] 本发明的目的在于提供一种基板、显示装置、配向膜的制造方法，以解决由于液晶 显示器的不同位置的馈通性不同，导致液晶显示器存在残像的技术问题。
[0006] 本发明提供一种基板，包括衬底基板，以及形成于所述衬底基板上的配向膜，所述 配向膜在横向方向上的厚度，从两端至中间逐渐变薄，和/或，所述配向膜在纵向方向上的 厚度，从一端至另一端逐渐变薄。
[0007] 可选的，所述基板为阵列基板，所述基板上还包括位于所述衬底基板与所述配向 膜之间的薄膜晶体管和像素电极。
[0008] 或者，所述基板为彩膜基板，所述基板上还包括位于所述衬底基板与所述配向膜 之间的色阻层和公共电极。
[0009] 本发明还提供一种显示装置，包括上述的阵列基板和/或上述的彩膜基板。
[0010] 本发明还提供一种配向膜的制造方法，包括：利用喷涂板在衬底基板上喷涂聚酰 亚胺（PI)，
[0011] 在利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI的过程中，所述喷涂板沿横向移动，且所述喷 涂板从所述衬底基板的一端向中间移动时的移动速度逐渐变快，所述喷涂板从所述衬底基 板的中间向另一端移动时的移动速度逐渐变慢；
[0012] 和/或，所述喷涂板上沿纵向设置有若干个喷头，从所述喷涂板的一端至另一端， 各所述喷头的喷涂压力逐渐变小。
[0013] 本发明还提供另一种配向膜的制造方法，包括：利用喷涂板在衬底基板上喷涂 PI,
[0014] 在利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI的过程中，所述喷涂板沿纵向移动，且所述喷 涂板从所述衬底基板的一端向另一端移动时的移动速度逐渐变慢；
[0015] 和/或，所述喷涂板上沿横向设置有若干个喷头，从所述喷涂板的两端至中间，各 所述喷头的喷涂压力逐渐变小。
[0016] 本发明还提供另一种基板，包括衬底基板，以及形成于所述衬底基板上的配向膜， 所述配向膜在横向方向上和/或在纵向方向上的厚度，从一端至另一端逐渐变薄。
[0017] 可选的，所述基板为阵列基板，所述基板上还包括位于所述衬底基板与所述配向 膜之间的薄膜晶体管和像素电极。
[0018] 或者，所述基板为彩膜基板，所述基板上还包括位于所述衬底基板与所述配向膜 之间的色阻层和公共电极。
[0019] 本发明还提供一种显示装置，包括上述的阵列基板，和/或上述的彩膜基板。
[0020] 本发明还提供另一种配向膜的制造方法，包括：利用喷涂板在衬底基板上喷涂 PI，
[0021] 在利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI的过程中，所述喷涂板沿横向或纵向移动，且 所述喷涂板从所述衬底基板的一端向另一端移动时的移动速度逐渐变慢；
[0022] 和/或，所述喷涂板上沿纵向或横向设置有若干个喷头，从所述喷涂板的一端至 另一端，各所述喷头的喷涂压力逐渐变小。
[0023] 本发明带来了以下有益效果：本方面提供的技术方案，在双向驱动的液晶显示器 中，基板上的配向膜在横向方向上的厚度，从两端至中间逐渐变薄，所以由该基板制成的液 晶面板中，液晶层的厚度会从两端至中间逐渐变厚。液晶层的厚度越厚，则公共电极与像素 电极之间形成的等效电容的介电常数就越小，所以液晶面板中的等效电容从两端至中间逐 渐变小。而馈通性与等效电容成反比，所以液晶面板的馈通性从两端至中间逐渐变大，以补 偿由于栅线的电阻造成的横向方向上的馈通性从两端至中间逐渐变小的现象，从而使液晶 显示器不同位置的馈通性更为平均，解决了液晶显示器存在残像的技术问题。
[0024] 在单向驱动的液晶显示器中，基板上的配向膜在横向方向上的厚度，从一端至另 一端逐渐变薄，所以由该基板制成的液晶面板中，可以将配向膜较厚的一端对应于栅极输 入的一端，使液晶层的厚度从靠近栅极输入的一端至远离栅极输入的一端逐渐变厚，等效 电容的介电常数逐渐变小，等效电容逐渐变小，使液晶面板的馈通性从靠近栅极输入的一 端至远离栅极输入的一端逐渐变大，以补偿由于栅线的电阻造成的馈通性从靠近栅极输入 的一端至远离栅极输入的一端逐渐变小的现象，从而使液晶显示器不同位置的馈通性更为 平均，解决了液晶显示器存在残像的技术问题。
[0025] 另一方面，基板上的配向膜在纵向方向上的厚度，从一端至另一端逐渐变薄，所以 由该基板制成的液晶面板中，可以将配向膜较厚的一端对应于数据输入的一端，使液晶层 的厚度从靠近数据输入的一端至远离数据输入的一端逐渐变厚，等效电容的介电常数逐渐 变小，等效电容逐渐变小，使液晶面板的馈通性从靠近数据输入的一端至远离数据输入的 一端逐渐变大，以补偿由于数据线的电阻造成的馈通性从靠近数据输入的一端至远离数据 输入的一端逐渐变小的现象，从而使液晶显示器不同位置的馈通性更为平均，解决了液晶 显示器存在残像的技术问题。
[0026] 本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变 得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利 要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
【专利附图】
【附图说明】
[0027] 为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要的 附图做简单的介绍：
[0028] 图1是本发明实施例一提供的基板的横向剖面示意图；
[0029] 图2是本发明实施例一提供的基板的纵向剖面示意图；
[0030] 图3是本发明实施例一提供的显示装置的横向剖面示意图；
[0031] 图4是本发明实施例一提供的显示装置的纵向剖面示意图。
【具体实施方式】
[0032] 以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式，借此对本发明如何应用 技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明 的是，只要不构成冲突，本发明中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合， 所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。
[0033] 实施例一:
[0034] 本发明实施例提供的基板可以是阵列基板，也可以是彩膜基板。如图1所示，本实 施例以阵列基板为例进行说明，该阵列基板包括衬底基板1，以及形成于衬底基板1上的配 向膜2,还包括位于衬底基板1与配向膜2之间的薄膜晶体管（图中未示出）和像素电极3 等。如果该基板以彩膜基板的方式实现，则衬底基板与配向膜之间应当为色阻层和公共电 极等。
[0035] 本实施例提供的阵列基板应用于双向驱动的液晶显示器中，该阵列基板中的配向 膜2在横向方向上的厚度，从两端至中间逐渐变薄，所以由该阵列基板制成的液晶面板中， 液晶层的厚度会从两端至中间逐渐变厚。液晶层的厚度越厚，则公共电极与像素电极3之 间形成的等效电容的介电常数就越小，所以液晶面板中的等效电容从两端至中间逐渐变 小。而馈通性Feedthrough = (Vgh_Vgl)Cgs/(Clc+Cst+Cgs)，其中 Vgh和 Vgl 分别为栅极输 入信号的高电平输入和低电平输入，Cgs为寄生电容，Clc为等效电容，Cst为存储电容。由 此可知，馈通性与等效电容Clc成反比，所以液晶面板的馈通性从两端至中间逐渐变大，这 样就能够补偿由于栅线的电阻造成的横向方向上的馈通性从两端至中间逐渐变小的现象， 从而使液晶显示器不同位置的馈通性更为平均，解决了液晶显示器存在残像的技术问题。
[0036] 另一方面，如图2所示，本发明实施例提供的阵列基板中，配向膜2在纵向方向 上的厚度，从一端至另一端逐渐变薄，所以由该阵列基板制成的液晶面板中，可以将配向 膜2较厚的一端对应于数据输入的一端，使液晶层的厚度从靠近数据输入的一端至远离数 据输入的一端逐渐变厚，等效电容的介电常数逐渐变小，等效电容逐渐变小。根据馈通性 Feedthrough = (Vgh-Vgl)Cgs/(Clc+Cst+Cgs)可知，馈通性与等效电容Clc成反比，所以液 晶面板的馈通性从靠近数据输入的一端至远离数据输入的一端逐渐变大，这样就能够补偿 由于数据线的电阻造成的馈通性从靠近数据输入的一端至远离数据输入的一端逐渐变小 的现象，从而使液晶显示器不同位置的馈通性更为平均，解决了液晶显示器存在残像的技 术问题。
[0037] 在其他实施方式中，该阵列基板或彩膜基板中，配向膜的厚度可以只在横向方向 上从两端至中间逐渐变薄，在纵向方向上各处厚度相等；或者配向膜的厚度也可以只在纵 向方向上从一端至另一端逐渐变薄，在横向方向上各处厚度相等。
[0038] 本发明实施例提供的上述阵列基板或彩膜基板中配向膜的制造方法，包括：利用 喷涂板在衬底基板上喷涂聚酰亚胺（PI)。
[0039] 在利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI的过程中，喷涂板沿横向移动，且喷涂板从衬 底基板的一端向中间移动时的移动速度逐渐变快，使喷涂板喷涂在衬底基板上的PI的厚 度从这一端至中间逐渐变薄。喷涂板从衬底基板的中间向另一端移动时的移动速度逐渐变 慢，使喷涂板喷涂在衬底基板上的PI的厚度从中间至另一端逐渐变厚。这样，再对PI进行 后续的加热等步骤之后，即可形成从两端至中间逐渐变薄的配向膜。
[0040] 另一方面，喷涂板上沿纵向设置有若干个喷头，从喷涂板的一端至另一端，各喷头 的喷涂压力逐渐变小，喷涂压力越大，喷头喷涂出的PI就越厚，这样就可以使喷涂板喷涂 在衬底基板上的PI的厚度从一端至另一端逐渐变薄，再对PI进行后续的加热等步骤之后， 即可形成从一端至另一端逐渐变薄的配向膜。
[0041] 在其他实施方式中，如果配向膜的厚度只在横向方向上从两端至中间逐渐变薄， 在纵向方向上各处厚度相等，则在该配向膜的制造过程中只需要控制喷涂板的移动速度， 从衬底基板的一端向中间移动时逐渐变快，从衬底基板的中间向另一端移动时逐渐变慢， 而喷涂板上各喷头的喷涂压力应当相等。如果配向膜的厚度只在纵向方向上从一端至另一 端逐渐变薄，在横向方向上各处厚度相等，则在该配向膜的制造过程中只需要使喷涂板上 各喷头的喷涂压力逐渐变小，而喷涂板的移动速度应当保持恒定。
[0042] 本发明实施例还提供了上述配向膜的另一种制造方法，包括：利用喷涂板在衬底 基板上喷涂PI。
[0043] 在利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI的过程中，喷涂板沿纵向移动，且喷涂板从衬 底基板的一端向另一端移动时的移动速度逐渐变慢，使喷涂板喷涂在衬底基板上的PI的 厚度从一端至另一端逐渐变厚，再对PI进行后续的加热等步骤之后，即可形成从一端至另 一端逐渐变厚的配向膜。
[0044] 另一方面，喷涂板上沿横向设置有若干个喷头，从喷涂板的两端至中间，各喷头的 喷涂压力逐渐变小，使喷涂板喷涂在衬底基板上的PI的厚度从两端至中间逐渐变薄，再对 PI进行后续的加热等步骤之后，即可形成从两端至中间逐渐变薄的配向膜。
[0045] 在其他实施方式中，如果配向膜的厚度只在横向方向上从两端至中间逐渐变薄， 在纵向方向上各处厚度相等，则在该配向膜的制造过程中只需要使喷涂板上各喷头的喷涂 压力从两端至中间逐渐变小，而喷涂板的移动速度应当保持恒定。如果配向膜的厚度只在 纵向方向上从一端至另一端逐渐变薄，在横向方向上各处厚度相等，则在该配向膜的制造 过程中只需要控制喷涂板的移动速度，从衬底基板的一端向另一端移动时逐渐变慢，而喷 涂板上各喷头的喷涂压力应当相等。
[0046] 本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述的阵列基板和的彩膜基板。如图 3所示，阵列基板包括衬底基板1、配向膜2,以及位于衬底基板1和配向膜2之间的像素电 极3等，彩膜基板包括衬底基板1、配向膜2,以及位于衬底基板1和配向膜2之间的公共电 极4和色阻层5等。
[0047] 该显示装置中，阵列基板和彩膜基板上的配向膜2在横向方向上的厚度，从两端 至中间逐渐变薄，所以该显示装置中液晶层的厚度从两端至中间逐渐变厚，像素电极3与 公共电极4之间形成的等效电容的介电常数逐渐变小，所以该显示装置中的等效电容从两 端至中间逐渐变小。根据馈通性Feedthrough = (Vgh_Vgl)Cgs/(Clc+Cst+Cgs)可知，馈通 性与等效电容成Clc反比，所以该显示装置的馈通性从两端至中间逐渐变大，这样就能够 补偿由于栅线的电阻造成的横向方向上的馈通性从两端至中间逐渐变小的现象，从而使显 示装置不同位置的馈通性更为平均，解决了显示装置存在残像的技术问题。
[0048] 另一方面，如图4所示，阵列基板和彩膜基板上的配向膜2在纵向方向上的厚度， 从一端至另一端逐渐变薄，所以该显示装置中，可以将配向膜2较厚的一端对应于数据输 入的一端，使液晶层的厚度从靠近数据输入的一端至远离数据输入的一端逐渐变厚，像素 电极3与公共电极4之间形成的等效电容的介电常数逐渐变小，则等效电容从靠近数据输 入的一端至远离数据输入的一端逐渐变小。根据馈通性Feedthrough = (Vgh-Vgl)Cgs/ (Clc+Cst+Cgs)可知，馈通性与等效电容Clc成反比，所以该显示装置的馈通性从靠近数据 输入的一端至远离数据输入的一端逐渐变大，这样就能够补偿由于数据线的电阻造成的馈 通性从靠近数据输入的一端至远离数据输入的一端逐渐变小的现象，从而使显示装置不同 位置的馈通性更为平均，解决了显示装置存在残像的技术问题。
[0049] 在其他实施方式中，该显示装置也可以只采用上述实施例中的阵列基板（或彩膜 基板），而彩膜基板（或阵列基板）中的配向膜的厚度可以是各处相等的，同样能够解决显 示装置存在残像的技术问题。
[0050] 实施例二:
[0051] 本实施例与实施例一基本相同，其不同点在于，本实施例提供的基板应用于单向 驱动的液晶显示器。该基板可以是阵列基板，包括衬底基板、配向膜，以及位于衬底基板与 配向膜之间的薄膜晶体管和像素电极等。该基板也可以是彩膜基板，包括衬底基板、配向 膜，以及位于衬底基板与配向膜之间的色阻层和公共电极等。
[0052] 本发明实施例提供的阵列基板或彩膜基板中，与实施例一相比，不同点在于，配向 膜在横向方向上的厚度，从一端至另一端逐渐变薄。由该阵列基板或彩膜基板制成的单向 驱动的液晶面板中，可以将配向膜较厚的一端对应于栅极输入的一端，使液晶层的厚度从 靠近栅极输入的一端至远离栅极输入的一端逐渐变厚，等效电容的介电常数逐渐变小，等 效电容逐渐变小。根据馈通性Feedthrough = (Vgh-Vgl)Cgs/(Clc+Cst+Cgs)可知，馈通性 与等效电容Clc成反比，所以液晶面板的馈通性从靠近栅极输入的一端至远离栅极输入的 一端逐渐变大，以补偿由于栅线的电阻造成的馈通性从靠近栅极输入的一端至远离栅极输 入的一端逐渐变小的现象，从而使液晶显示器不同位置的馈通性更为平均，解决了液晶显 示器存在残像的技术问题。
[0053] 本发明实施例提供的上述阵列基板或彩膜基板中配向膜的制造方法，包括：利用 喷涂板在衬底基板上喷涂PI。
[0054] 在利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI的过程中，喷涂板沿横向（或纵向）移动，且 喷涂板从衬底基板的一端向另一端移动时的移动速度逐渐变慢，使喷涂板喷涂在衬底基板 上的PI的厚度从一端至另一端逐渐变厚。这样，再对PI进行后续的加热等步骤之后，即可 形成从两端至中间逐渐变薄的配向膜。
[0055] 另一方面，喷涂板上沿纵向（或横向）设置有若干个喷头，从喷涂板的一端至另 一端，各喷头的喷涂压力逐渐变小，使喷涂板喷涂在衬底基板上的PI的厚度从一端至另一 端逐渐变薄，再对PI进行后续的加热等步骤之后，即可形成从两端至中间逐渐变薄的配向 膜。
[0056] 在其他实施方式中，如果配向膜的厚度只在横向方向上（或纵向方向上）从一端 至另一端逐渐变薄，在纵向方向上（或横向方向上）各处厚度相等，则在该配向膜的制造过 程中只需要控制喷涂板的移动速度，从衬底基板的一端向另一端移动时逐渐变慢，而喷涂 板上各喷头的喷涂压力应当相等；或者只需要使喷涂板上各喷头的喷涂压力从一端至另一 端逐渐变小，而喷涂板的移动速度应当保持恒定。
[0057] 本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本实施例提供的上述阵列基板和彩膜 基板。因为该显示装置具有与上述阵列基板和彩膜基板相同的技术特征，所以也能够达到 相同的技术效果，解决相同的技术问题。
[0058] 虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容只是为了便于理解本发明而采 用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属【技术领域】内的技术人员，在不脱离本 发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式上及细节上作任何的修改与变化， 但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。
【权利要求】
1. 一种基板，包括衬底基板，以及形成于所述衬底基板上的配向膜，其特征在于，所述 配向膜在横向方向上的厚度，从两端至中间逐渐变薄，和/或，所述配向膜在纵向方向上的 厚度，从一端至另一端逐渐变薄。
2. 如权利要求1所述的基板，其特征在于，所述基板为阵列基板，所述基板上还包括位 于所述衬底基板与所述配向膜之间的薄膜晶体管和像素电极。
3. 如权利要求1所述的基板，其特征在于，所述基板为彩膜基板，所述基板上还包括位 于所述衬底基板与所述配向膜之间的色阻层和公共电极。
4. 一种显示装置，其特征在于，包括权利要求2所述的阵列基板，和/或权利要求3所 述的彩膜基板。
5. -种配向膜的制造方法，包括：利用喷涂板在衬底基板上喷涂聚酰亚胺PI，其特征 在于， 在利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI的过程中，所述喷涂板沿横向移动，且所述喷涂板 从所述衬底基板的一端向中间移动时的移动速度逐渐变快，所述喷涂板从所述衬底基板的 中间向另一端移动时的移动速度逐渐变慢； 和/或，所述喷涂板上沿纵向设置有若干个喷头，从所述喷涂板的一端至另一端，各所 述喷头的喷涂压力逐渐变小。
6. -种配向膜的制造方法，包括：利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI，其特征在于， 在利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI的过程中，所述喷涂板沿纵向移动，且所述喷涂板 从所述衬底基板的一端向另一端移动时的移动速度逐渐变慢； 和/或，所述喷涂板上沿横向设置有若干个喷头，从所述喷涂板的两端至中间，各所述 喷头的喷涂压力逐渐变小。
7. -种基板，包括衬底基板，以及形成于所述衬底基板上的配向膜，其特征在于，所述 配向膜在横向方向上和/或在纵向方向上的厚度，从一端至另一端逐渐变薄。
8. 如权利要求7所述的基板，其特征在于，所述基板为阵列基板，所述基板上还包括位 于所述衬底基板与所述配向膜之间的薄膜晶体管和像素电极。
9. 如权利要求7所述的基板，其特征在于，所述基板为彩膜基板，所述基板上还包括位 于所述衬底基板与所述配向膜之间的色阻层和公共电极。
10. -种显示装置，其特征在于，包括权利要求8所述的阵列基板，和/或权利要求9所 述的彩膜基板。
11. 一种配向膜的制造方法，包括：利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI，其特征在于， 在利用喷涂板在衬底基板上喷涂PI的过程中，所述喷涂板沿横向或纵向移动，且所述 喷涂板从所述衬底基板的一端向另一端移动时的移动速度逐渐变慢； 和/或，所述喷涂板上沿纵向或横向设置有若干个喷头，从所述喷涂板的一端至另一 端，各所述喷头的喷涂压力逐渐变小。
【文档编号】G02F1/1337GK104090426SQ201410348811
【公开日】2014年10月8日 申请日期:2014年7月21日 优先权日:2014年7月21日
【发明者】陈彩琴 申请人:深圳市华星光电技术有限公司