聚合物膜和光刻胶胶膜作用后，对光刻胶胶膜有保护作用，不会引起暗腐蚀。
[0015] 本发明的碱性显影液组合物还包含醚改性硅氧烷消泡剂，选自空气化工Surfynol DF_58、Surfynol DF_62、Surfynol DF_66、Surfynol DF_695、Surfynol DF-178的一种或两 种，其中Surfynol DF-62、Surfynol DF-178都是比较好的选择，它是一种醚改性聚硅氧烷 消泡剂，可实现水性体系中即时快速消泡与持续动态消泡的平衡。
[0016] 碱性显影液组合物添加的消泡剂的量为显影组合物0.005 %~1.0 %的重量。当消 泡剂含量小于0.005%时，不能起到很好的消泡效果，在规定工艺时间内无法消泡。如果消 泡剂含量大于1. 〇 %，消泡剂存在过剩，且不能完全溶解，对光致抗蚀剂膜厚损失产生不利， 并且影响设备使用寿命等。
[0017] 本发明所涉及的厚膜光刻胶显影液的制备方法：
[0018] 在反应釜中加入强碱性碱源、显影缓冲剂、炔烃二醇类表面活性剂，醚改性硅氧烷 消泡剂，常温搅拌，测试显影液的显影速度、显影容量，并根据测试值再次加入显影加速剂 以调节显影液的显影速度。
[0019] 与普通的厚膜光刻胶显影液相比，该显影液的显影容量大为增加，使用寿命最多 可延长20%，循环换液周期达6个小时。
[0020] 与普通的厚膜光刻胶显影液相比，该显影液不会引起暗腐蚀，光刻胶⑶Loss小于 0.511111，留膜率大于99%〇
【具体实施方式】
[0021] 下面结合实施例对本发明技术方案作详细说明，但这些实施例并非局限于本发明 的限定范围。
[0022] 使用Cannon曝光机PLA-501F测试显影组合物的显影能力及显影液老化情况。并使 用Fi lmetrics膜厚仪F-40测试显影组合物曝光前后的留膜率，显影容量标准值在6h~6.3h 之间。
[0023] 表一:对比例1~8及实施例9~12的性能测试
[0026]对比例1~3与对比例5~7表明，当强碱性碱源的含量固定时，随着缓冲剂偏硼酸 钠的含量增加，显影速度和显影容量随之下降，同时添加超过3 %以后，显影容量会低于设 计值6. Oh。对比例2~3与实施例8~9以及对比例5~6与实施例10~11表明，添加一定量的 DGME可用以调整显影速度，同时实施例11与实施例12表明DGME加的量越多，显影速度越快。 [0027] 对比例3~6及实施例10~12
[0028] 在以上实验的基础上，将不同含量消泡剂加入到上述的显影液组合物中，取样于 试管中充分振荡，静置观察起泡情况。如下表二所示：
[0029] 表二:对比例3~6及实施例10~12起泡情况
[0032] 对比例2与实施例9、10、12表明，添加一定量的消泡剂后，起泡现象明显减少，添加 量越多，消泡的速度越快，实施例6与实施例12表明，添加一定量的消泡剂后，可明显改善显 影液容易起泡的现象。
[0033] 综上所述，包含强碱性碱源、显影缓冲剂、显影加速剂、炔烃二醇类表面活性剂、醚 改性硅氧烷消泡剂的显影液组合物，使得其显影容量大为增加，使用寿命最多可延长20%， 循环换液周期达6个小时，同时特殊的聚合物表面活性剂对光刻胶胶膜有保护作用，不会引 起暗腐蚀，并且在喷淋法显影过程低起泡，甚至不起泡。
[0034] 本发明尚有多种具体的实施方式，凡采用等同替换或者等效变换而形成的所有技 术方案，均落在本发明要求保护的范围之内。
【主权项】
1. 一种厚膜光刻胶显影液组合物，其特征在于该组合物同时含有KOH或者Na2Si〇3 1 % ~10%，显影缓冲剂偏硼酸钾1 %~4%，显影加速剂0.1 %~2%，炔二醇表面活性剂SF-440 0 · 01 %~0 · 05 %，醚改性硅氧烷消泡剂0 · 005 %~1 %。2. 如权利要求1所述的一种厚膜光刻胶显影液组合物，其特征在于:所述显影缓冲剂偏 硼酸钾含量为1 %~4 %。3. 如权利要求1所述的一种光刻胶显影液组合物，其特征在于：所述显影加速剂为醇 醚、亚砜及吡咯等杂环类水溶性有机溶剂，醇醚类有二甘醇单乙醚、二甘醇单丁醚、二乙二 醇乙醚、二乙二醇甲醚等。亚砜有环丁砜、二甲基亚砜、二苯基亚砜等。吡咯有α-吡咯烷酮、 乙烯基吡咯烷酮、Ν-羟乙基哌嗪等。以上显影液组合物各组分为以上一种或为上述两种物 质任意比例的混合物。4. 如权利要求1所述的一种光刻胶显影液组合物，其特征在于:所述显影加速剂优选为 DGME，含量为1%~4%。5. 如权利要求1所述的一种厚膜光刻胶显影液组合物，其特征在于:所述炔二醇表面活 性剂SF-440质量百分比为1%~10%。6. 如权利要求1所述的一种光刻胶显影液组合物，其特征在于:所述消泡剂选自空气化 工Surfynol DF_58、Surfynol DF_62、Surfynol DF_66、Surfynol DF_695、Surfynol DF-178的一种或两种，其添加量为显影液总量的0.005%~1 %。
【专利摘要】本发明提供一种厚膜光刻胶显影液组合物，该组合物含有组分及重量百分含量为：KOH或者Na2SiO3？1％～10％，显影缓冲剂偏硼酸钾1％～4％，显影加速剂DGME？0.1％～2％，炔二醇表面活性剂SF-440？0.01％～0.05％醚改性硅氧烷消泡剂DF-62？0.005％～1％，本发明提供的显影液组合物，主要用于IC封装工艺中厚膜正性光刻胶的显影，主要是MEMS、厚膜电镀及封装工艺中的大规模显影过程，尤其特别适用于对显影液劣化有严格要求的连续喷淋作业场合，具有显影速度快、显影容量高等特点。
【IPC分类】G03F7/32
【公开号】CN105589303
【申请号】CN201510996583
【发明人】马丽丽, 黄巍, 顾奇
【申请人】苏州瑞红电子化学品有限公司
【公开日】2016年5月18日
【申请日】2015年12月23日