1.真空镀膜基片清洗方法,将基片固定在夹具上，往超声波机中加入洗涤剂溶液，加热到60℃左右，将基体放入超声波机里清洗10分钟后，用高压氮气将基体吹干，最后放到烘干器中烘10分钟，待基体完全干燥后装进真空室工架上，其特征在于，还包括离子溅射清洗，当真空室本底真空度低于0.001帕斯卡时，通入氩气，使真空度维持在0.1帕斯卡至0.9帕斯卡，开启离子溅射电源，对工架上的基片进行溅射清洗。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜基片清洗方法，其特征在于，所述离子溅射包括一体化的负偏压辉光放电溅射，也包括单独的离子源溅射。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜基片清洗方法，其特征在于，所述溅射清洗的时间在10分钟至30分钟之间。