技术总结
真空镀膜基片清洗方法,将基片固定在夹具上，往超声波机中加入洗涤剂溶液，加热到60℃左右，将基体放入超声波机里清洗10分钟后，用高压氮气将基体吹干，最后放到烘干器中烘10分钟，待基体完全干燥后装进真空室工架上，关闭真空室，开启真空系统抽气，当真空室本底真空度低于0.001帕斯卡时，通入氩气，使真空度维持在0.1帕斯卡至0.9帕斯卡，开启离子溅射电源，对工架上的基片进行溅射清洗。通过离子溅射，可以将超声清洗不完全的附着在基片表面的污渍，残余气体等去除，并且可以活化基片表面，提高薄膜与具体的结合力。
技术研发人员：马远周
受保护的技术使用者：马远周
文档号码：201510355273
技术研发日：2015.06.25
技术公布日：2017.01.11