1.一种基于原子团簇束流的针对有机体的纳米加工方法，其特征是利用团簇束流对于蒸气压高的有机物进行真空内的纳米加工，实现纳米颗粒到达有机物表面并进行功能化生长；原子团簇离子达到1.5×108amu m/s的动量；指蒸气压在室温条件下为0.1-100Pa的固体材料。
2.根据权利要求1所述的基于原子团簇束流的针对有机体的纳米加工方法，其特征是有机物原子团簇束流的产生装置有串联的I室、II室和III室；通过I室、II室之间或/与II室、III室之间喷嘴张开角度的实现原子团簇束流等速度生长，喷嘴角度张开的角度为5到35度。
3.根据权利要求1所述的基于原子团簇束流的针对有机体的纳米加工方法，其特征是有机物原子团簇束流在II室和III室辅以直流的离子光学加速。
4.据权利要求1所述的基于原子团簇束流的针对有机体的纳米加工方法，其特征是束流室III室输出与待加工有机体室应由直径小于5mm的小孔连接。
5.据权利要求1所述的基于原子团簇束流的针对有机体的纳米加工方法，其特征是束流室III室输出至待加工有机体室，在低真空中飞行的距离应尽可能小，束流室III室输出至加工工作的距离0.8-1.5cm。
6.基于原子团簇束流的针对有机体的纳米加工设备即团簇束流源室，其特征是团簇束流源室设有串联的I室、II室和III室；通过I室、II室之间或/与II室、III室之间喷嘴角度的实现原子团簇束流等速度生长，喷嘴角度张开的角度为5到35度有机物原子团簇束流的产生在I室、II室和III室；I室中设有蒸发或离子轰击靶源装置，用于产生材料分子蒸气，I室中还设有通入高流量的低温惰性气体流向I室出口及II室进口的方向；产生的纳米团簇颗粒的尺寸和结构通过调节材料分子蒸气供应浓度、低温惰性气体流量和温度，产生的纳米团簇颗粒可以在生长室的III室出口进行收集。
7.根据权利要求6所述的基于原子团簇束流的针对有机体的纳米加工设备，其特征是有机物原子团簇束流在II室和III室辅以直流的离子光学加速。
8.据权利要求6所述的基于原子团簇束流的针对有机体的纳米加工设备，其特征是束流室III室输出与待加工有机体室应由直径小于5mm的小孔连接。
9.据权利要求6所述的基于原子团簇束流的针对有机体的纳米加工设备，其特征是束流室III室输出至待加工有机体室，在低真空中飞行的距离为1cm左右即束流室III室输出至加工工作的距离0.8-1.5cm。