一种树脂基板镀膜夹具的制作方法

本发明涉及镀膜夹具技术领域，尤其涉及一种树脂基板镀膜夹具。

背景技术：

在使用真空镀膜机在待镀膜基板表面镀制膜层时，需要使用夹具对待镀膜基板进行夹持。对于强度较高的滤光片基板，在其表面镀膜后通常不需要考虑膜层对基板形态的影响，膜层在成形过程中所产生的应力一般不足以使基板发生弯曲现象。但对于厚度只有0.1mm、强度较低的树脂基板，在基板上形成膜层的过程中，在膜层应力的作用下，易使基板发生弯曲变形现象。这是因为，在对基板进行镀膜时，通常是单面顺次进行镀膜。基板单面形成膜层的过程中，如果基板处于自由的状态下，膜层在成形过程中所产生的应力会轻易使基板发生弯曲变形，在镀层数较多的膜系时，基板与镀膜夹具之间的间隙不断加大，造成镀膜后基板边缘产生较粗的金属边，降低镀膜良品率。

因此，如何提供一种夹具以提高镀膜良品率成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。

技术实现要素：

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种树脂基板镀膜夹具，以解决现有技术中的问题。

作为本发明的第一个方面，提供一种树脂基板镀膜夹具，其中，所述树脂基板镀膜夹具包括：包括夹具底板和夹具盖板，所述夹具底板和所述夹具盖板均为四个边框围成的方框式结构，且所述四个边框围成的方形通孔的面积与树脂基板的镀膜面积相匹配，所述夹具底板的四个角均设置有第一圆孔，所述夹具盖板的四个角均设置有第二圆孔，所述第一圆孔和所述第二圆孔内均设置有磁铁，所述夹具底板和所述夹具盖板的边框均设置二阶斜面，所述二阶斜面包括内边缘和外边缘，所述内边缘为位于方形通孔内的边缘，所述外边缘为所述夹具底板和所述夹具盖板的上端面，所述内边缘上形成有内斜面，所述内斜面的倾斜角度为10~15°，所述夹具底板和所述夹具盖板能够配合将待镀膜的树脂基板夹持，并将待镀膜的树脂基板的待镀膜区域露出在所述方形通孔区域内。

优选地，所述外边缘上形成有外斜面。

优选地，所述四个边框围成的方框式的四个角均为倒角。

优选地，所述外斜面和所述内斜面在四个倒角位置处均为弧形斜面。

优选地，所述夹具底板和所述夹具盖板的四个角均设置有夹具拖，所述夹具拖能够将所述树脂基板镀膜夹具固定在镀膜伞架上。

优选地，所述方形通孔的深度小于0.2mm。

优选地，所述树脂基板镀膜夹具还包括玻璃盖板，所述玻璃盖板能够固定在所述夹具盖板或夹具底板上，以在所述夹具底板和所述夹具盖板夹持所述镀膜的树脂基板进行一侧表面镀膜时封闭住另一侧表面对应的所述方形通孔。

优选地，所述夹具底板的方框式结构的内侧面设置有l型凹槽，所述l型凹槽能够承载所述树脂基板的边缘。

优选地，所述夹具盖板的方框式结构的内侧面设置有l型凸起，所述l型凸起与所述l型凹槽匹配，所述l型凸起能够插入到所述l型凹槽内。

优选地，所述l型凸起的高度小于所述l型凹槽的深度。

本发明提供的树脂基板镀膜夹具，夹具底板和夹具盖板设有斜面，斜面的倾斜角度为10~15°，使得树脂基板上需要镀膜的部分能够镀膜充分，避免了边缘较粗金属边的产生，提高了镀膜良品率。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1为本发明提供的树脂基板镀膜夹具的结构示意图。

图2为本发明提供的夹具底板的主视图。

图3为本发明提供的夹具底板的侧视图。

图4为本发明提供的夹具底板的后视图。

图5为本发明提供的夹具盖板的主视图。

图6为本发明提供的夹具盖板的侧视图。

图7为本发明提供的夹具盖板的后视图。

图8为本发明提供的树脂基板的倒边示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

作为本发明的一个方面，提供一种树脂基板镀膜夹具，其中，如图1所示，所述树脂基板镀膜夹具包括：包括夹具底板10和夹具盖板20，所述夹具底板10和所述夹具盖板20均为四个边框围成的方框式结构，且所述四个边框围成的方形通孔30的面积与树脂基板的镀膜面积相匹配，所述夹具底板10的四个角均设置有第一圆孔11，所述夹具盖板20的四个角均设置有第二圆孔21，所述第一圆孔11和所述第二圆孔21内均设置有磁铁，所述夹具底板10和所述夹具盖板20的边框均设置二阶斜面40，所述二阶斜面40包括内边缘41和外边缘42，所述内边缘41为位于方形通孔30内的边缘，所述外边缘42为所述夹具底板10和所述夹具盖板20的上端面，所述内边缘41上形成有内斜面，所述内斜面的倾斜角度为10~15°，所述夹具底板10和所述夹具盖板20能够配合将待镀膜的树脂基板夹持，并将待镀膜的树脂基板的待镀膜区域露出在所述方形通孔30区域内。

本发明提供的树脂基板镀膜夹具，夹具底板和夹具盖板设有斜面，使得树脂基板上需要镀膜的部分能够镀膜充分，避免了边缘较粗金属边的产生，提高了镀膜良品率。

具体地，图2至图4为夹具底板10的结构示意图，图5至图7为夹具盖板20的结构示意图，所述夹具底板10和夹具盖板20均为方形框结构，几何中心均开有与树脂基板所要镀膜面积相匹配的方形通孔30，四个内角上均设有相对应的第一圆孔11和第二圆孔21，磁铁内嵌于第一圆孔11和第二圆孔21内，通过磁铁将夹具底板10和夹具盖板20固定贴合，使夹具夹紧树脂基板。所述方形通孔30的四个角设置为弧形，方形通孔30的面积一般是与树脂基板上所要镀膜的面积相等或略大，需要镀膜的树脂基板被夹具底板10和夹具盖板20夹持在两者之间，树脂基板上需要镀膜的部位位于通孔内，在对树脂基板的一侧表面进行镀膜时，树脂基板的另一侧表面外侧需要覆盖一层玻璃盖板，玻璃盖板固定在夹具盖板20或夹具底板10上，并封闭住相应的方形通孔30。

需要说明的是，为了区分树脂基板的正反面，在所述方形框上的其中一条边上设置有凹槽e。

具体地，所述外边缘42上形成有外斜面。

需要说明的是，夹具底板10和夹具盖板20的上端面的方形通孔30的边缘处设有二阶斜面，该二阶斜面沿夹具底板10和夹具盖板20的上端面的通孔的整个边缘延伸。该二阶斜面外边缘高内边缘低，内边缘位于方形通孔的边缘，外边缘位于夹具底板10和夹具盖板20的上端面的表面上。靠近方形通孔30边缘的斜面的倾斜角度为10~15°。夹具底板10和夹具盖板20的上端面设有斜面，斜面的倾斜角度为10~15°，是为了使得树脂基板上需要镀膜的部分能够镀膜充分，且减少边缘的金属边。

优选地，所述四个边框围成的方框式的四个角均为倒角。

具体地，所述外斜面和所述内斜面在四个倒角位置处均为弧形斜面。

进一步具体地，所述夹具底板和所述夹具盖板的四个角均设置有夹具拖，所述夹具拖能够将所述树脂基板镀膜夹具固定在镀膜伞架上。

优选地，为了进一步减少镀膜的树脂基板边缘的金属边现象，所述方形通孔30的深度小于0.2mm。

可以理解的是，由于镀膜材料蒸发气化，粒子流以各个角度至树脂基板表面。夹具底板10和夹具盖板20的斜面设置以及方形通孔的深度影响粒子流角度，影响边缘粒子流密度，从而影响沉积在树脂基板边缘粒子流密度，在将斜面的倾斜角度设置在10~15°，所述方形通孔30的深度小于0.2mm时，可以降低粒子流角度的影响，从而提高镀膜均匀性，避免树脂基板镀膜边缘金属边的出现。

应当理解的是，为了防止镀膜后，所述树脂基板镀膜夹具放在工作台上时，树脂滤光片碰到工作台，夹具底板10和夹具盖板20的上端面的四条边的边缘，设置有垂直于上端面的限位边。

优选地，所述树脂基板镀膜夹具还包括玻璃盖板，所述玻璃盖板能够固定在所述夹具盖板20或夹具底板10上，以在所述夹具底板10和所述夹具盖板20夹持所述镀膜的树脂基板进行一侧表面镀膜时封闭住另一侧表面对应的所述方形通孔30。

具体地，为了便于树脂基板的快速装配，所述夹具底板10的方框式结构的内侧面设置有l型凹槽，所述l型凹槽能够承载所述树脂基板的边缘。

可以理解的是，夹具底板10的方形通孔30的边缘处设有截断面呈l形的凹槽，该l型凹槽沿夹具底板10的方形通孔的整个边缘延伸。在对树脂基板进行夹紧后，树脂基板的边缘位于l型凹槽内，设有l型凹槽便于树脂基板快速实现与夹具的装配。

需要说明的是，夹具底板10的l型凹槽四个拐角处设置为弧形拐角，弧形拐角可以保证树脂基板的拐角的安全。

具体地，所述夹具盖板20的方框式结构的内侧面设置有l型凸起，所述l型凸起与所述l型凹槽匹配，所述l型凸起能够插入到所述l型凹槽内。

可以理解的是，所述夹具盖板20的方形通孔30的边缘处设有与夹具底板10的l型凹槽相契合的截断面呈l型的凸起，l型凸起沿夹具盖板20的方形通孔30的整个边缘延伸，l型凸起插入到所述l型凹槽内。l型凸起插入到l型凹槽内，用于压紧树脂基板的边缘，从而减小了对夹具盖板20和夹具底板10之间的贴合度要求。

优选地，所述l型凸起的高度小于所述l型凹槽的深度。

可以理解的是，所述l型凸起和所述l型凹槽之间的间隙一般是与树脂基板的厚度相等或略小。

需要说明的是，夹具底板10和夹具盖板20的材质均为钛合金。

还需要说明的是，为了减少镀膜过程中树脂基板的形变造成的卷边，并减少边缘的金属边的产生，在将树脂基板通过树脂基板夹具进行夹持时，如图8所示，在树脂基板的四个角的位置倒三边，如图8中的第一条切割线1、第二条切割线2和第三条切割线3，这样在镀膜时对树脂基板形状的变化影响小，树脂基板能够保持较好的平整度，镀膜的品质得到了保证，提高了镀膜良品率。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。