的表面起0.1秒后研磨液的接触角优选为75°以下、更优选为70°以下、进一步优选为 65°以下。
[0084] 利用其中将1 μ 1研磨液滴加至研磨用载具的表面起0. 1秒后研磨液的接触角为 75°以下的研磨液与载具的组合对玻璃基板的主平面进行研磨，由此能够在玻璃基板的研 磨中防止研磨垫上产生伤痕，研磨垫的寿命延长，能够提高生产率、降低成本。
[0085] 研磨液对研磨用载具的接触角按如下方式评价。在干燥后的研磨用载具表面上滴 加1 μ 1研磨液，使用接触角测定装置测定滴加研磨液起0. 1秒后的接触角。作为接触角测 定装置，可以使用接触角测定装置（制造商：协和界面科学公司制，型号：PCA_1)。
[0086] 研磨液在25°C的粘度优选为I. 7mPa *s以下、更优选为I. 6mPa *s以下。另外，通 常优选为I. ImPa · s以上、更优选为I. 2mPa · s以上。通过使研磨液的粘度为I. 7mPa · s 以下，在玻璃基板研磨中研磨垫的表面难以产生伤痕，能够延长研磨垫的寿命。另外，低于 I. ImPa · s时，在玻璃与研磨垫之间形成的液膜过薄，摩擦力升高，产生研磨机的振动等，是 不优选的。
[0087] 为了使将1 μ 1研磨液滴加至研磨用载具的表面起0. 1秒后研磨液的接触角优选 为75°以下，具体而言，可以列举选择例如颗粒尺寸小、即便磨粒浓度为5~25质量％也呈 高分散性的研磨液，及疏水性不太强的研磨用载具。
[0088] 实施例
[0089] 下面对本发明的实施例进行具体说明，但本发明不限于此。
[0090] [玻璃基板的制造]
[0091] (工序1)形状赋予工序
[0092] 将以浮法成形的硅酸盐玻璃板加工成在中央部具有圆孔的圆盘形状玻璃基板。对 该圆盘形状玻璃基板的内周侧面和外周侧面进行倒角加工。之后，使用氧化铝磨粒对玻璃 基板的上下面进行磨削，清洗除去磨粒。
[0093] (工序2)端面研磨工序
[0094] 使用研磨刷和氧化铈磨粒对内周侧面和内周倒角部进行研磨，除去内周侧面和内 周倒角部的伤痕，加工成镜面。接着，对于对内周端面进行研磨后的玻璃基板，使用研磨刷 和氧化铈磨粒对外周侧面和外周倒角部进行研磨，除去外周侧面和外周倒角部的伤痕，加 工成镜面。进行了内周端面研磨和外周端面研磨后的玻璃基板通过超声波清洗来清洗除去 磨粒。
[0095] (工序3)主表面研磨工序
[0096] 接着，使用图2的双面研磨装置，对玻璃基板的主平面进行第一次研磨，接着进行 清洗、干燥。之后，对玻璃基板的主平面进行第二次研磨，接着进行清洗、干燥。
[0097] 对清洗后的玻璃基板实施第三次研磨（最终研磨）。作为最终研磨的研磨工具，使 用上述实施修整处理后的软质聚氨醋制研磨垫（层积至〇. 65mm厚，硬度以肖氏D硬度计为 24、以肖氏A硬度计为72)和含有平均初级粒径为20~30nm的胶态二氧化硅的研磨液，使 用16B型双面研磨装置（speedfam公司制：DSM_16B_5PV)对上下主平面进行研磨。研磨时 间按照使总研磨量以上下两个主平面的厚度方向的合计计为1 μπι的方式进行设定。
[0098] 对例1~7中使用的研磨垫进行说明。在例1~7中使用了 3种研磨垫。例1和 2中使用了亲水性高的研磨垫A。例3~5中使用了亲水性比研磨垫A低的研磨垫B。例6 和7中使用了亲水性比研磨垫B还低的研磨垫C。
[0099] 另外，对例1~7中使用的研磨液进行说明。在例1~7中使用了 3种研磨液。例 1、例3和例6中使用了研磨液A。例2、例4和例7中使用了研磨液B。例5中使用了研磨 液C。研磨液对研磨用载具的接触角在使用研磨液C的情形下变大，在使用研磨液B的情 形下变小，认为这取决于研磨液的电解质的浓度的差异。即，研磨液C其研磨液中的电解质 的浓度高，研磨液A的电解质的浓度不及研磨液C高，研磨液B的电解质的浓度比研磨液A 低。
[0100] 将主表面研磨工序中使用的研磨液在25°c的粘度设为I. 6mPa · S、研磨液中的磨 粒（二氧化硅）的含量设为7质量％。用柠檬酸进行调节使得研磨液的pH为4。
[0101] [评价方法]
[0102] (1)研磨液对研磨垫的接触角
[0103] 对例1~例7中使用的研磨垫，将研磨面进行修整处理，使用纯水进行清洗后，在 室温干燥一天。在干燥后的研磨垫的研磨面上滴加1 μ 1研磨液，通过接触角测定装置（协 和界面科学公司制，型号：PCA-1)测定滴加研磨液起50秒后的接触角。
[0104] (2)研磨液对研磨用载具的接触角
[0105] 在干燥后的研磨用载具的表面滴加 1 μ 1研磨液，通过接触角测定装置（协和界面 科学公司制，型号：PCA_1)测定滴加研磨液起0. 1秒后的接触角。
[0106] (3)研磨垫的寿命
[0107] 在上述工序3的第三次研磨（最终研磨）中，从研磨开始起、直至研磨垫的研磨面 上产生伤痕的时刻或者研磨时玻璃产生破损而在垫上产生伤痕从而停止使用的时刻为止， 测定这期间用研磨垫对玻璃基板的主平面进行研磨的时间的累计，根据下述A~C所示的 基准来评价研磨垫的寿命。
[0108] A :用研磨垫对玻璃基板的主平面进行研磨的时间的累计为1200分钟以上
[0109] B :用研磨垫对玻璃基板的主平面进行研磨的时间的累计为800分钟以上且小于 1200分钟
[0110] C :用研磨垫对玻璃基板的主平面进行研磨的时间的累计小于800分钟
[0111] ⑷研磨液的粘度
[0112] 研磨液的粘度如下测定：使用粘度计（制造商：东机产业公司制，型号：旋转式粘 度计RE80L)以旋转速度IOOrpm对25°C的研磨液进行测定。
[0113] (5)研磨液的pH
[0114] 研磨液的pH如下测定：使用纯正化学公司制pH标准液[邻苯二甲酸盐pH标准液 (pH 4. 01)、中性磷酸盐pH标准液（pH 6. 86)、硼酸盐pH标准液（pH 9. 18)]进行三点校准 后，用纯水清洗PH电极，然后使用pH测定仪器（堀场制作所公司制，型号：D-53S)进行研 磨液的pH测定。
[0115] 结果示于表1中。
[0116] 表 1
[0117]
【主权项】
1. 一种玻璃基板的制造方法，所述玻璃基板的制造方法包括： 研磨工序，所述研磨工序使用研磨垫和研磨液对保持在研磨用载具的保持孔中的玻璃 基板的主平面进行研磨，所述研磨垫具有肖氏D硬度为40以下的发泡树脂的研磨层，所述 研磨液含有初级粒径为3~50nm的二氧化硅作为磨粒；和 清洗工序，所述清洗工序对玻璃基板的表面进行清洗， 所述玻璃基板的制造方法的特征在于， 所述研磨工序中，使用将1 U 1研磨液滴加至研磨垫的研磨面起50秒后研磨液的接触 角为50°以下的研磨垫和研磨液对玻璃基板的主平面进行研磨。
2. 如权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其中，在所述研磨用载具中，将1 y 1研磨 液滴加至研磨用载具的表面起0. 1秒后研磨液的接触角为75°以下。
3. 如权利要求1或2所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述研磨液在25°C的粘度为 1. 7mPa ? s 以下。
4. 如权利要求1~3中任一项所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述研磨液的pH为 1~6,作为磨粒的二氧化娃的含量为5~25质量％。
5. 如权利要求1~4中任一项所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述玻璃基板是在中 央部具有圆孔的磁记录介质用玻璃基板。
【专利摘要】本发明涉及一种玻璃基板的制造方法，所述玻璃基板的制造方法包括：研磨工序，所述研磨工序使用研磨垫和研磨液对保持在研磨用载具的保持孔中的玻璃基板的主平面进行研磨，所述研磨垫具有肖氏D硬度为40以下的发泡树脂的研磨层，所述研磨液含有初级粒径为3～50nm的二氧化硅作为磨粒；和清洗工序，所述清洗工序对玻璃基板的表面进行清洗，所述玻璃基板的制造方法的特征在于，所述研磨工序中，使用将1μl研磨液滴加至研磨垫的研磨面起50秒后研磨液的接触角为50°以下的研磨垫和研磨液对玻璃基板的主平面进行研磨。
【IPC分类】B24B37-00
【公开号】CN104625939
【申请号】CN201410642262
【发明人】宫谷克明, 萧桂瑛
【申请人】旭硝子株式会社
【公开日】2015年5月20日
【申请日】2014年11月11日