于太阳齿轮40的旋转轴的垂直方向上，从内嗤合齿轮50A的齿面至位于最远处的凹槽55的表面的距离。通过该结构，也能够得到与上述实施方式I大致相同的作用和效果。
[0081 ] 在本实施方式中，基于内啮合齿轮50A设有凹槽55的情形进行了说明，但在仅太阳齿轮设有凹槽而内啮合齿轮未设有凹槽的情况下，以及在太阳齿轮未设有凹槽而仅内啮合齿轮设有凹槽的情况下，也能够得到大致相同的作用和效果。
[0082][实验例]
[0083]参照图15，对与上述各实施方式(第2抛光步骤S18)相关地进行的实验例进行说明。该实验例包括实施例1?3和比较例I?3。无论在哪个例子中，都要准备节圆直径为约423mm、厚度为650 μ m的托架和外径为65mm、厚度为810 μ m的玻璃基板。使用5个托架，各个托架保持20个玻璃基板，从而对共计100个玻璃基板同时进行研磨处理。研磨装置使用了滨井产业株式会社制造的16B型双面研磨机。
[0084]对根据实施例1?3和比较例I?3的制造方法而得到的100个玻璃基板计量收获率。收获率的计量是对洗涤后的玻璃基板计量两主表面上的缺陷，使用SS1- 640 (使用了 He — Ne激光光源的表面检查装置，系统精工会社制造)。
[0085]在实施例1?3和比较例2、3中，使用了具有凹部41的太阳齿轮40和具有凹部51的内啮合齿轮50。将凹部51在相对于太阳齿轮40的旋转轴平行的方向上的宽度尺寸(图12中的TA)设为700 μπι。凹部41在相同方向上的宽度尺寸也设为700 μπι。在比较例I中，使用了不具有凹部41的太阳齿轮40和不具有凹部51的内啮合齿轮50。
[0086]在实施例1?3中可知，由于满足式子0.24 ^ da/DC ^ 1.89和0.24 ^ db/DC^ 1.89，研磨垫不会发生损伤，最终产品的收获率也显示出较高的值。认为这是因为太阳齿轮40设有凹部41，内啮合齿轮50设有凹部51，满足式子0.24 ^ da/DC ^ 1.89和0.24 ^ db/DC ^ 1.89，由此，托架60能够维持沿着相对于太阳齿轮40的旋转轴正交的面方向的姿势，同时实质上几乎无倾斜地自传及公转。
[0087]另一方面，在比较例I中可知，研磨垫发生损伤，最终产品的收获率显示出较低的值。认为这是因为在比较例2中，0.24 > da/DC且0.24 > db/DC，托架60与太阳齿轮40之间的的啮合位置以及托架60与内啮合齿轮50之间的啮合位置向上下方向移动，托架60的外周部分容易弯曲。研磨垫发生损伤，在比较例3中，da/DC > 1.89且db/DC > 1.89，在研磨作业中托架发生碰撞，不能进行合理的研磨步骤。
[0088]因此，可知由上述实施方式中的信息记录介质用玻璃基板的制造方法以及制造装置制造出的信息记录介质用玻璃基板具有更高的表面平滑性。
[0089]以上对基于本发明的各实施方式以及实施例进行了说明，但此次公开的各实施方式以及实施例在所有方面均是示例，并非限定的内容。本发明的技术范围通过权利要求来示出，是指包含与权利要求同等的意思和范围内的所有变更。
[0090]标号说明
[0091]1:磁盘；1G:玻璃基板；11:孔；12:外周端面；13:内周端面；13a、13b:倒角面；14:表主表面；15:背主表面；16:磁性薄膜层；20:上平台；21:上研磨垫；22:上研磨面；30:下平台；31:下研磨垫；32:下研磨面；40:太阳齿轮;41、51:凹部;42、52:齿面；43、53:齿尖;50、50A、50Z:内啮合齿轮；55:凹槽；60:托架；61:保持部；62:啮合齿；68:节圆；100:双面研磨装置、DC:节圆直径；S10:玻璃熔融步骤；S11:成型步骤；S12:第I研磨步骤；S13:取芯步骤；S14:第2研磨步骤；S15:外周/内周研磨步骤；S16:第I抛光步骤；S17:化学强化步骤；S18:第2抛光步骤；S19:最终洗涤步骤；TA:宽度尺寸；TB:厚度尺寸；da、db:凹陷深度。
【主权项】
1.一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法， 该制造方法具有对玻璃基板的表面进行研磨的研磨步骤，其中， 所述研磨步骤包括以下步骤: 将玻璃基板和托架配置在太阳齿轮与内啮合齿轮之间； 在使所述托架的外周与所述太阳齿轮和所述内啮合齿轮这两者的齿面啮合的状态下，使用所述太阳齿轮和所述内啮合齿轮使所述托架旋转，使所述玻璃基板相对于研磨垫的研磨面滑动接触，对所述玻璃基板的表面进行研磨， 所述太阳齿轮的全部齿面和/或所述内啮合齿轮的全部齿面包括凹部，所述凹部具有从齿尖起向相对于所述托架的旋转轴正交的方向凹陷的形状，当所述托架旋转时，所述托架的所述外周与所述凹部啮合， 设所述托架的节圆直径为DC(单位:m)、在相对于所述旋转轴正交的方向上的所述凹部的从所述齿尖算起的凹陷深度为d (单位:mm)，则0.24 ^ d/DC ^ 1.89的关系成立。
2.根据权利要求1所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中， 设在相对于所述旋转轴平行的方向上的所述凹部的宽度尺寸为TA、在相对于所述旋转轴平行的方向上的所述玻璃基板的厚度尺寸为TB，则TA < TB的关系成立。
3.根据权利要求1或2所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其中， 所述凹部沿着圆周方向呈环状地形成连续的一个凹槽。
4.一种信息记录介质用玻璃基板， 所述信息记录介质用玻璃基板是使用权利要求1至3中的任意一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法制造出来的。
5.一种信息记录介质用玻璃基板的制造装置，该制造装置具有: 研磨垫；以及 太阳齿轮与内嗤合齿轮，在它们之间配置有玻璃基板和托架， 所述太阳齿轮和所述内啮合齿轮在使所述托架的外周与它们两者的齿面啮合的状态下使所述托架旋转，由此，使所述玻璃基板相对于所述研磨垫的研磨面滑动接触，对所述玻璃基板的表面进行研磨， 所述太阳齿轮的全部齿面和/或所述内啮合齿轮的全部齿面包括凹部，所述凹部具有从齿尖起向相对于所述托架的旋转轴正交的方向凹陷的形状，当所述托架旋转时，所述托架的所述外周与所述凹部啮合， 设所述托架的节圆直径为DC(单位:m)、在相对于所述旋转轴正交的方向上的所述凹部的从所述齿尖算起的凹陷深度为d (单位:mm)，则0.24 ^ d/DC ^ 1.89的关系成立。
【专利摘要】研磨步骤包括以下步骤：将玻璃基板和托架配置在太阳齿轮(40)与内啮合齿轮(50)之间；在使托架的外周与齿面(42、52)啮合的状态下，使托架旋转，对玻璃基板的表面进行研磨。全部的齿面(42)和/或全部的齿面(52)包括具有从齿尖凹陷的形状的凹部(41、51)，当托架旋转时，托架的外周与凹部(41、51)啮合。设托架的节圆直径为DC(单位：m)、凹部(41、51)的从齿尖算起的凹陷深度为d(单位：mm)，则0.24≦d/DC≦1.89的关系成立。
【IPC分类】C03C19-00, B24B37-08, B24B37-28, G11B5-84
【公开号】CN104812531
【申请号】CN201380061151
【发明人】小松隆史
【申请人】Hoya株式会社
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2013年12月24日
【公告号】WO2014103985A1