专利名称：锍化合物、光致产酸剂及其制备方法
技术领域：
本发明涉及在一个分子中具有产生两个不同的光致产酸剂的两个酸位(acid site)的锍化合物、包含所述锍化合物的光致产酸剂以及制备所述光致产酸剂的方法。更具体地，本发明涉及锍化合物、包含所述锍化合物的光致产酸剂以及制备所述锍化合物的方法，所述锍化合物可解决使用两种不同的光致产酸剂的混合物的问题，具有优异的与抗蚀剂的相容性，并且在用作光致产酸剂时可产生优异的抗蚀图形(resist pattern)。
背景技术：
半导体微加工技术利用光刻工艺，并且在这样的光刻工艺中广泛使用化学增幅 (chemically amplified)的抗蚀剂组合物。这样的化学增幅的抗蚀剂组合物包含光致产酸剂，所述光致产酸剂是在被光线照射时能够产生酸的化合物。当这样的光致产酸剂吸收在半导体图形形成过程中照射的光时，所述光致产酸剂
产生酸。就鎗盐(光致产酸剂的一种)而言，作为光照射的结果，所述鎗盐降解为阳离子形式或自由基形式，并以不同的分子形式存在，并且在阴离子一侧产生酸，从而在光照射后烘烤(baking)娃片时在抗蚀剂薄膜上发生酸的扩散。由于各种特性因素如吸收光的能力、产生酸的效率、所产生酸的扩散能力和阴离子酸的强度，所述光致产酸剂对抗蚀图形特性(如抗蚀剂的分辨率和和线边缘粗糙度 (LER))发挥直接影响。常规的光致产酸剂具有仅能够产生一种酸的分子结构。因此，为了获得高分辨程度，当需要具有诸如高扩散性、低扩散性、高渗透性和低渗透性的所有特性的产酸剂时，混合产酸剂及使用其混合物的过程复杂且麻烦。此外，在使用产酸剂混合物的情况下，所述产酸剂不能在抗蚀剂中均匀混合，从而导致不能获得具有均匀特性的抗蚀图形的问题。作为现有光致产酸剂的实例，韩国专利申请10-2006-00133676公开了由下式表示的化合物
权利要求
1.由下式(1)表示的硫化合物；
2.权利要求I的锍化合物，其中所述阴离子A—和B—各自独立地表示选自磺酸根阴离子、酰亚胺阴离子、甲基化物阴离子、烷基卤阴离子、羧酸根阴离子、碘鎗阴离子和磺酰亚胺阴离子中的任意一种。
3.权利要求I的锍化合物，其中所述阴离子A—和B—各自独立地表示选自由下式(1-1)、(1-2)和(1-3)表示的化合物中的任意一种:
4.权利要求I的锍化合物，其中所述阴离子A_和B_各自独立地表示选自OSO2CF3' OSO2C4F9' OSO2C8F17' N(CF3)2' N(C2F5)2' N(C4F9)2' C(CF3)3' C(C2F5)3' C(C4F9) 和由下式 (1-4)表示的化合物中的任意一种
5.权利要求I的锍化合物，其中所述阴离子A—表示选自OSO2CF3'OsO2CF2CF2CF2CF3IP 由下式(1-5)表示的阴离子基团中的任意一种，且所述阴离子『表示选自OSO2CF3'OsO2CF2CF2CF2CF3IP由下式(1_5)表示的阴离子基团中的任意一种[化学式1-5]。
6.权利要求I的锍化合物，其中R3和R4各自独立地表示选自由下式(2-1)和(2-2)表不的基团中的任意一种[化学式2-2]其中在式(2-1)和式(2-2)中，R21、R22、R24和R25各自独立地表示选自单键、具有1-5个碳原子的亚烷基和具有2-5个碳原子的亚烯基中的任意一种；且R23表不选自-O-和-S-中的任意一种。
7.权利要求I的锍化合物，其中所述供电子基团是选自-o-、-s-、-och2-、-och2o-、-och ,CH2O-, -O (C6H4) O-、-CH2SCH2-和-S (C6H4) S-中的任意一种。
8.权利要求I的锍化合物，其中所述由式(I)表示的锍化合物是选自由下式(3-1)、式 (3-2)和式(3-3)表示的化合物中的任意一种
9.权利要求I的锍化合物，其中所述锍化合物表示选自由下式(4-1)至式(4-6)表示的化合物中的任意一种
10.光致产酸剂，其包含权利要求I至9中任意一项的锍化合物。
11.制备锍化合物的方法，所述方法包括使由下式(10)表示的化合物与由下式(11)表示的化合物反应，并由此产生由下式 (12)表示的化合物的第一步；使所述由式(12)表示的化合物与由下式(13)表示的化合物反应，并由此产生由下式(14)表示的化合物的第二步；和使所述由式(14)表示的化合物与由下式(15)表示的化合物反应，并由此产生由下式(I)表示的化合物的第三步
全文摘要
[化学式1]本发明涉及锍化合物、光致产酸剂及其制备方法。具体而言，本发明提供了由式(1)表示的锍化合物、光致产酸剂以及制备锍化合物的方法。在式1中，X表示供电子基团；R1和R2各自表示烷基、环烷基等；R3和R4各自表示亚芳基或亚杂芳基；R5和R6各自表示烷基、环烷基等；且A-和B-为彼此不同的阴离子。当所述锍化合物用作光致产酸剂时，其可产生均匀且优异的抗蚀图形。
文档编号C07D333/46GK102603587SQ20121000460
公开日2012年7月25日 申请日期2012年1月4日 优先权日2011年1月3日
发明者尹队卿, 徐东辙, 朱炫相, 申大铉 申请人:锦湖石油化学株式会社