98] 与实施例1的清洗工序同样进行，对过滤材料3上的聚合物颗粒的滤饼进行清洗， 在过滤材料3上得到清洗后的聚合物颗粒。需要说明的是，本实施例的清洗工序中使用的作 为清洗液的水的重量G2为30.0kg(聚合工序中得到的聚合物颗粒的37.5倍的重量），是大于 上述聚合工序中使用的每种表面活性剂通过上述计算式(4)算出的清洗液的重量的下限值 D 的量的总量 27.9kg({8(g)今 1.2(g/100ml) X2000} + {8(g)今 l.l(g/100ml) X2000} = 13333+14545 = 27878(g))的重量。此外，在本实施例的清洗工序中，从开始使清洗液通过过 滤材料3到24.0kg (清洗工序中使用的作为清洗液的水的重量G2的0.8倍的重量)的清洗液 通过过滤材料3为止所花的时间T2 (min)为633.2分钟。
[0399] (4)后处理工序
[0400] 用真空干燥机使通过清洗工序得到的清洗后的聚合物颗粒干燥，使用气流分级机 (Nisshin Engineering Inc.制造的 "TURBO 化ASSIFIER(TC-15)")进行分级，得到目标聚 合物颗粒。
[0401 ]〔比较例1:聚合物颗粒的比较制造例）
[0402] (1)聚合工序
[0403] 与实施例1的聚合工序同样进行，作为粗产物得到聚合物颗粒的浆料下称为浆 料(1))。
[0404] (2)固液分离工序
[0405] 将耐压容器2的内部加压至O.lOMPa，在滤液的量达到2.24kg(聚合工序中使用的 水的重量的70 % ) W上且耐压容器2的内压达到0.08MPa(加压时的压力的80 % ) W下时，结 束该固液分离工序，除此之外与实施例1的固液分离工序同样进行，将作为水性介质的水从 聚合物颗粒的浆料(1)中去除。另外，本实施例的固液分离工序中得到的滤液(介质）的总重 量Gi为2.49kg，从开始使粗产物P中含有的介质(水)通过过滤材料3到结束使前述介质通过 过滤材料3为止的时间Τι为82.5分钟。
[0406] (3)清洗工序
[0407] 将作为清洗工序中使用的清洗液的水的重量G2设为4.0kg (聚合工序中得到的聚 合物颗粒的5倍的重量），将耐压容器2的内部加压至O.lOMPa，进行清洗至耐压容器2的内压 变为O.OSMPa(加压时的压力的80%) W下而未确认滤液的导电率变为清洗前的水的导电率 的2.0倍W下(具体而言为15ySW下），除此之外与实施例1的清洗工序同样进行，对过滤材 料3上的聚合物颗粒的滤饼进行清洗，在过滤材料3上得到清洗后的聚合物颗粒。需要说明 的是，在本实施例的清洗工序中，从开始使清洗液通过过滤材料3到3.化g(清洗工序中使用 的作为清洗液的水的重量G2的0.8倍的重量）的清洗液通过过滤材料3为止所花的时间T2 (min)为 74.1 分钟。
[040引〔比较例2:聚合物颗粒的比较制造例）
[0409] (1)聚合工序
[0410] 与实施例1的聚合工序同样进行，作为粗产物得到聚合物颗粒的浆料下称为浆 料(1))。
[0411] (2)固液分离工序
[0412] 将耐压容器2的内部加压至0.25MPa，在滤液的量达到2.24kg(聚合工序中使用的 水的重量的70 % ) W上且耐压容器2的内压达到0.20MPa(加压时的压力的80 % ) W下时，结 束该固液分离工序，除此之外与实施例1的固液分离工序同样进行，将作为水性介质的水从 聚合物颗粒的浆料(1)中去除。另外，本实施例的固液分离工序中得到的滤液(介质）的总重 量Gi为2.45kg，从开始使粗产物P中含有的介质(水)通过过滤材料3到结束使前述介质通过 过滤材料3为止的时间Τι为19.5分钟。
[041引 （3)清洗工序
[0414] 使用8.0kg(聚合工序中得到的聚合物颗粒的10倍的重量）W上作为清洗液的水， 将耐压容器2的内部加压至0.20MPa，进行清洗至滤液的导电率变为清洗前的水的导电率的 2.0倍W下且耐压容器2的内压变为0.16MPa(加压时的压力的80%) W下，除此之外与实施 例1的清洗工序同样进行，对过滤材料3上的聚合物颗粒的滤饼进行清洗，在过滤材料3上得 到清洗后的聚合物颗粒。需要说明的是，本实施例的清洗工序中使用的作为清洗液的水的 重量G2为12.0kg(聚合工序中得到的聚合物颗粒的15倍的重量），是大于上述聚合工序中使 用的每种表面活性剂通过上述计算式(4)算出的清洗液的重量的下限值D的总量10.7kg(8 (g)今1.5(g/100ml) X 2000 = 10667(g))的重量。此外，在本实施例的清洗工序中，从开始使 清洗液通过过滤材料3到9.化g(清洗工序中使用的作为清洗液的水的重量G2的0.8倍的重 量)的清洗液通过过滤材料3为止所花的时间T2(min)为80.2分钟。
[0415] 关于实施例1~10和比较例1~2,表1示出聚合工序中得到的聚合物颗粒的浆料的 编号(浆料No.)、构成该浆料中所含的聚合物的单体混合物的组成(聚合物组成）、固液分离 工序中的X值(每单位时间通过过滤材料的介质的量化g/min))的测定结果、清洗工序中的Y 值(每单位时间通过过滤材料的清洗液的量化g/min))的测定结果、清洗工序中使用的清洗 液(水)的量化g)、所得的聚合物颗粒的体积平均粒径(μπι)和粒径的变异系数(CV值（％))的 测定结果、所得的聚合物颗粒中所含的（聚合工序中使用的）表面活性剂的化合物名、所得 的聚合物颗粒中的表面活性剂的含量(ppm)的测定结果、所得的聚合物颗粒的利用T0F- SIMS的测定结果(来源于表面活性剂的负离子的离子强度相对于正离子的总离子强度和负 离子的总离子强度的总和的比（离子强度比））、所得的聚合物颗粒的凝胶率（％ )的测定结 果、W及聚合物颗粒的分散稳定化时间的测定结果(制备分散液后，直至粘度值的变化率变 为超过-1 %~小于1%为止的经过时间T)。此外，表2示出实施例1~10和比较例1~2的聚合 物颗粒的利用T0F-SIMS的测定结果的详细内容，具体而言为:通过T0F-SIMS检测到的正离 子的碎片的离子强度的总和(正离子的总离子强度）、通过T0F-SIMS检测到的负离子的碎片 的离子强度的总和（负离子的总离子强度）、通过T0F-SIMS检测到的来源于表面活性剂的负 离子中显示最高离子强度的负离子(评价离子种类）、该负离子(评价离子种类）的离子强 度、W及负离子(评价离子种类)的离子强度相对于正离子的总离子强度和负离子的总离子 强度的总和的比（即离子强度比）。
[0416] [表 1]
[0417]
[041 引[表 2]
[0419]
[0420] 实施例1~10和比较例1~2的固液分离工序和清洗工序中使用的加压过滤器1 (参 照图1)的过滤材料3(滤布)与过滤物（即粗产物P)的界面的面积A为0.0104(m2)。因此，在实 施例1~10和比较例1~2中，上述条件式（1)所示的X值(每单位时间通过过滤材料的介质的 量化g/min))的上限值为0.0572kg/min。此外，上述条件式(2)所示的Y值(每单位时间通过 过滤材料的清洗液的量化g/min))的上限值为0.0884kg/min。
[0421] 由表1所示的结果可知，对于固液分离工序中的X值和清洗工序中的Y值分别为上 述上限值W下、且清洗中使用的清洗液(水)的量为8.OkgW上(聚合物颗粒的重量的10倍W 上)的实施例1~10中得到的聚合物颗粒，与清洗中使用的清洗液(水)的量小于8.0kg(小于 聚合物颗粒的重量的10倍)的比较例1中得到的聚合物颗粒W及固液分离工序中的X值和清 洗工序中的Y值大于上述上限值的比较例2中得到的聚合物颗粒相比，离子强度比小，聚合 物颗粒的表面的表面活性剂的量少。即，确认到:根据本发明的制造方法，通过固液分离工 序和清洗工序，能够减少聚合工序中使用的表面活性剂在聚合物颗粒表面的附着量。
[0422] 此外，表面活性剂的含量在超过化pm~小于50ppm的范围内的实施例1~10的聚合 物颗粒与表面活性剂的含量为156ppm的比较例1的聚合物颗粒相比，分散在分散介质中制 成分散液时，直至该分散液的粘度值稳定为止的时间（即，直至粘度值的变化率变为超过- 1 %~小于1 %为止的时间）短。即，确认到:表面活性剂的含量在超过化pm~小于50ppm的范 围内的实施例1~10的聚合物颗粒与表面活性剂的含量为156ppm的比较例1的聚合物颗粒 相比，直至均匀地分散于分散介质为止的时间短。
[042引读施例11:光学薄膜的制造例）
[0424] 向10ml的样品管中添加实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g和甲乙酬0.90g，使用 超声波清洗器(Velvo-Clear Co.，Ltd.制造的"ULTRASONICCLEA 肥 R VS-15(n 揽拌 1 分钟， 使聚合物颗粒分散在甲乙酬中，得到分散液。进一步向该分散液中添加丙締酸类树脂(DIC 株式会社制造的"ACRYDIC(注册商标)A-8ir)2.10g，用上述超声波清洗器揽拌2分钟左右， 得到涂布用树脂组合物。将该涂布用树脂组合物静置12小时后，向涂布用树脂组合物中添 加甲乙酬5.40g，用上述超声波清洗器揽拌1分钟，得到涂布用树脂组合物的稀释液。
[0425] 使用75WI1狭缝的涂布机将所得的涂布用树脂组合物的稀释液涂覆在PET薄膜上。 涂覆后，放入溫度保持在7(TC的干燥机放置1小时，由此得到光学薄膜。
[04%]〔实施例12:光学薄膜的制造例）
[0427] 使用实施例2中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g， 除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0428] 〔实施例13:光学薄膜的制造例）
[0429] 使用实施例3中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g， 除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0430] 〔实施例14:光学薄膜的制造例）
[0431] 使用实施例4中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g， 除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0432] 〔实施例15:光学薄膜的制造例）
[0433] 使用实施例5中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g， 除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0434] 〔实施例16:光学薄膜的制造例）
[0435] 使用实施例6中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15邑， 除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0436] 〔实施例17:光学薄膜的制造例）
[0437] 使用实施例7中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g， 除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0438] 〔实施例18:光学薄膜的制造例）
[0439] 使用实施例8中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g， 除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0440] 〔实施例19:光学薄膜的制造例）
[0441] 使用实施例9中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g， 除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0442] 〔实施例20:光学薄膜的制造例）
[0443] 使用实施例10中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒 〇.15g，除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0444] 〔比较例3:光学薄膜的比较制造例）
[0445] 使用比较例1中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g， 除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0446] 〔比较例4:光学薄膜的比较制造例）
[0447] 使用比较例1中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g， 将涂布用树脂组合物的静置时间由12小时变更为24小时，除此之外与实施例11同样进行， 得到光学薄膜。
[044引〔比较例5:光学薄膜的比较制造例）
[0449] 使用比较例2中得到的聚合物颗粒0.15g代替实施例1中得到的聚合物颗粒0.15g， 除此之外与实施例11同样进行，得到光学薄膜。
[0450] 对于实施例11~20和比较例3~5的光学薄膜，通过W下所示的方法评价光学特 性。
[0451] 〔光学特性的评价方法）
[0452] 将光学薄膜切割成6cmX6cm的正方形状作为试验片。对试验片的涂覆有涂布用树 脂组合物的面的上下左右4个端部和中央部(共5处)各处的雾度，按照JIS K 7136使用日本 电色工业株式会社制造的"NDH-4000"进行测定。接着，使用所测得的5处的雾度（％)的最大 值、最小值和平均值，通过W下计算式算出雾度差（％ )，按照W下评价标准评价其雾度差 (%)。
[0453] <雾度差（％ )的计算式〉
[0454] R= KHzmax-Hzmin)/Hzave) } X 100
[04对 R:雾度差（％)
[0456] 化max: 5处雾度（％ )的最大值
[0457] 血画:5处雾度（％)的最小值 [045引肪《￡:5处雾度（％)的平均值
[0459] <评价标准〉
[0460] ◎:雾度差小于0.5 %
[0461 ] 〇:雾度差为0.5%W上且小于1.0%
[0462] Δ:雾度差为1.0%W上且小于3.0%
[0463] X:雾度差为3.0W上
[0464] 关于实施例11~20和比较例3~5的光学薄膜，表3示出光学薄膜的制造中使用的 聚合物颗粒的实施例编号和表面活性剂含量、涂布用树脂组合物的静置时间、w及光学薄 膜的光学特性的评价结果。
[04 化][表3]
[0466]
[0467] 确认到:对于涂覆含有表面活性剂的含量在超过化pm~小于50ppm的范围内的聚 合物颗粒的涂布用树脂组合物而成的光学薄膜(实施例11~20的光学薄膜），与涂覆含有表 面活性剂的含量为50ppmW上的聚合物颗粒的涂布用树脂组合物而成的光学薄膜(比较例3 ~5)相比，雾度差小、光扩散性的不均少。即，确认到：对于含有表面活性剂的含量在超过 化pm~小于50ppm的范围内的聚合物颗粒的光学薄膜，可获得稳定的光学特性(防眩性和光 扩散性）。
[046引此外，对于表面活性剂的含量为50ppmW上的比较例1的聚合物颗粒，由表1所示的 结果可W确认:通过使静置时间为16小时W上，从而粘度稳定且均匀地分于分散介质(分散 状态稳定化），因此，在比较例4的光学薄膜的制作中，将涂布用树脂组合物的静置时间设定 为24小时，W使聚合物颗粒在涂布用树脂组合物中均匀地分散，但是，如表3所示，对于比较 例4的光学薄膜，雾度差大，未得到稳定的光学特性。
[0469] 与此相对，对于表面活性剂的含量在超过化pm~小于50ppm的范围内的实施例1~ 10和表面活性剂的含量为59ppm的比较例2的聚合物颗粒，由表1所示的结果确认到:在11小 时~13小时运样的短时间内粘度稳定、且均匀地分散于分散介质(分散状态稳定化）。因此， 在使用实施例1~10的聚合物颗粒的实施例11~20的光学薄膜的制作和使用比较例2的聚 合物颗粒的比较例5的光学薄膜的制作中，将涂布用树脂组合物的静置时间设定为12小时， W使聚合物颗粒在涂布用树脂组合物中均匀地分散。
[0470] 其结果，如表3所示，对于使用表面活性剂的含量在超过化pm~小于50ppm的范围 内的实施例1~10的聚合物颗粒而制作的实施例11~20的光学薄膜，雾度差小，可得到稳定 的光学特性。另一方面，对于使用表面活性剂的含量为59ppm的比较例2而制作的比较例5的 光学薄膜，与实施例11~20的光学薄膜相比，雾度差大，未获得稳定的光学特性。
[0471] 由此，对于表面活性剂的含量在超过化pm~小于50ppm的范围内的聚合物颗粒，在 将使该聚合物颗粒分散在粘结剂中而得到的涂布用树脂组合物涂覆到薄膜基材上形成涂 膜的过程中，能够将在前述树脂组合物中的分散状态基本维持稳定，可W说是能够对光学 薄膜赋予稳定的光学特性的分散稳定性优异的聚合物颗粒。此外，对于涂覆含有表面活性 剂的含量在超过化pm~小于50ppm的范围内的聚合物颗粒的涂布用树脂组合物而成的光学 薄膜，如上所述，雾度差小，光学特性稳定，可W说质量稳定性优异。
[0472] 本发明可W在不脱离其精神或主要特征的情况下W其他各种各样的形式实施。因 此，上述实施例在各方面均仅仅是例示，不应做限定性解释。本发明的范围通过权利要求给 出，不受说明书正文的任何限制。进而，属于权利要求的等同范围的变形、变更全部落在本 发明的范围内。
[0473] 此外，本申请基于2013年9月30日在日本申请的日本特愿2013-204577请求优先 权。通过提及而将其全部内容并入本申请。
[0474] 附图标记说明 [04巧]1加压过滤器
[0476] 2耐压容器
[0477] 3过滤材料
[0478] R过滤材料与被过滤物的界面(脱液面)的直径 [04巧]P粗产物
[0480] S过滤材料的上侧空间
【主权项】
1. 一种聚合物颗粒，其特征在于，表面活性剂的含量为超过Oppm~小于50ppm。2. 根据权利要求1所述的聚合物颗粒，其特征在于， 通过飞行时间二次离子质谱仪测定的、来源于所述表面活性剂的负离子的离子强度相 对于正离子的总离子强度和负离子的总离子强度的总和的比为0.01 Xl〇_4~2.00 ΧΚΓ4。3. 根据权利要求1或2所述的聚合物颗粒，其特征在于， 所述表面活性剂含有阴离子性表面活性剂和非离子性表面活性剂中的至少一者。4. 根据权利要求1~3中任一项所述的聚合物颗粒，其特征在于， 构成该聚合物颗粒的聚合物为（甲基）丙烯酸类聚合物、苯乙烯类聚合物、以及（甲基） 丙烯酸类-苯乙烯类共聚物中的任意种。5. 根据权利要求1~4中的任一项所述的聚合物颗粒，其特征在于，粒径的变异系数为 15%以下。6. 根据权利要求1~5中的任一项所述的聚合物颗粒，其特征在于，凝胶率为90 %以上。7. 根据权利要求1~6中的任一项所述的聚合物颗粒，其特征在于， 其通过在表面活性剂的存在下使种子颗粒吸收乙烯基类单体进行聚合而得到。8. 根据权利要求1~7中的任一项所述的聚合物颗粒，其特征在于，其用于光学构件。9. 根据权利要求1~8中的任一项所述的聚合物颗粒，其特征在于，其用于防眩构件。10. -种光学薄膜，其特征在于，其是将含有权利要求1~7中的任一项所述的聚合物颗 粒和粘结剂的涂布用树脂组合物涂覆在薄膜基材上而成的。11. 根据权利要求10所述的光学薄膜，其特征在于，其用于防眩。12. -种树脂成型体，其特征在于，其是将含有权利要求1~7中的任一项所述的聚合物 颗粒和透明树脂的成型用树脂组合物成型而成的。13. -种聚合物颗粒的制造方法，其特征在于，包括下述工序： 聚合工序，在液态的介质中、在表面活性剂的存在下使乙烯基类单体聚合，得到含有包 含所述表面活性剂的聚合物颗粒和所述介质的粗产物； 固液分离工序，将所述粗产物投入到过滤器中，一方面使所投入的所述粗产物中含有 的介质通过所述过滤器的过滤材料，另一方面使所述粗产物中含有的聚合物颗粒保持在所 述过滤材料上； 清洗工序，向在所述过滤材料上保持有所述聚合物颗粒的所述过滤器中投入清洗液， 使所述清洗液与所述聚合物颗粒接触，使与所述聚合物颗粒接触过的所述清洗液通过所述 过滤材料，由此在所述过滤材料上得到经所述清洗液清洗的聚合物颗粒， 在所述固液分离工序中，每单位时间通过所述过滤材料的所述介质的量满足下述条件 式⑴： Χ<5·50ΧΑ···(1) 式（1)中，X表示每单位时间通过所述过滤材料的所述介质的量(kg/min)，Α表示过滤材 料与被过滤物的界面的面积(m2)， 在所述清洗工序中，每单位时间通过所述过滤材料的所述清洗液的量满足下述条件式 (2)： Υ<8·50ΧΑ···(2) 式(2)中，Υ表示每单位时间通过所述过滤材料的所述清洗液的量(kg/min )，Α表示过滤 材料与被过滤物的界面的面积(m2)， 在所述清洗工序中，使用保持在所述过滤材料上的聚合物颗粒的重量的10倍以上重量 的清洗液。14.根据权利要求13所述的聚合物颗粒的制造方法，其特征在于， 所述聚合工序包括:在液态的介质中、在种子颗粒和表面活性剂的存在下使乙烯基类 单体进行种子聚合，得到含有包含所述表面活性剂的聚合物颗粒和所述介质的粗产物。
【专利摘要】聚合物颗粒中的表面活性剂的含量超过0ppm～小于50ppm。聚合物颗粒的制造方法包括下述工序：固液分离工序，将在介质中、在表面活性剂的存在下使乙烯基类单体聚合而得到的粗产物(P)投入到过滤器(1)中，使粗产物(P)中含有的介质通过过滤器(1)的过滤材料(3)；清洗工序，向过滤器(1)中投入清洗液，对过滤材料(3)上的聚合物颗粒进行清洗。将过滤材料(3)与被过滤物的界面的面积设为A(m2)时，在固液分离工序中，每单位时间通过过滤材料(3)的前述介质的量X(kg/min)满足X≤5.50×A，在清洗工序中，每单位时间通过过滤材料(3)的清洗液的量Y满足Y≤8.50×A。在清洗工序中使用的清洗液的重量为保持在过滤材料(3)上的聚合物颗粒的重量的10倍以上。
【IPC分类】C08L101/00, C08F291/00, C08F6/16, C08J7/04, G02B5/02, B32B27/18, C08F2/22
【公开号】CN105593248
【申请号】CN201480054204
【发明人】高桥智之, 原田良祐
【申请人】积水化成品工业株式会社
【公开日】2016年5月18日
【申请日】2014年3月26日
【公告号】WO2015045448A1