用于研磨待研磨材料的方法以及立式研磨机的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种根据权利要求8的前序部分所述的用于在立式研磨机中研磨待研磨材料的方法，并且涉及一种根据权利要求1的前序部分所述的立式研磨机。
【背景技术】
[0002]根据权利要求1的前序部分所述的立式研磨机例如已从EP I 675 683 BI中得知，并且图示性地在图3中显示了其主要部件。
[0003]这种立式研磨机具有旋转研磨台3，在研磨台3上设置了研磨棍4或研磨碾以粉碎并研磨被供入到研磨盘3的中心区域中的待研磨材料，其例如为水泥熟料或原煤。
[0004]根据供入到研磨盘3的待研磨材料的类型，主气流14 (在研磨-干燥过程中其通常是热气流)从底部向上穿过立式研磨机30。从底部吹入的用作运输和干燥气体的热气在围绕研磨盘3环形地设置的具有叶片环的环形管道中送入，通过磨机壳体11的限制而大体向上成为用于研磨过的颗粒的竖直输送气流。
[0005]在较上的区域中通过通常设计成动态旋转分级机的分级机9对被向上供应的颗粒进行分类。将分级机拒收的待研磨材料的较大颗粒通过设置在下方的尺寸过大材料锥6供回到研磨台3上以进一步研磨。
[0006]由于尺寸过大材料锥6的形态以及研磨辊4或研磨碾的布置，在尺寸过大材料锥的较下区域中，在尺寸过大材料锥与研磨辊4的较上区域之间形成了自由环形间隙21。
[0007]另一方面，在立式研磨机的这种设计中，扩大了位于立式研磨机30的研磨辊4和壳体11之间的空间的空间体积。尺寸过大材料锥的形态也促进了这一情况，从而使得穿过具有叶片环的环形管道而离开的气流32在该扩大的空间内产生压降。压降的结果是，通过气流32而上升的细颗粒经过再循环气流33而进入环形间隙21中，并被再次供回到研磨台并且通过辊来进行研磨处理。
[0008]这种围绕研磨辊的再循环和再流动的效果，尤其是对于细颗粒的效果，随着研磨机尺寸的增加、尤其是随着研磨盘3直径的增加而更好。
[0009]但是，这种流动模式导致立式研磨机的工作产量的相当大的损失，这是由于首先小的细颗粒由于质量较小而随着压降或分别随着气体吸力而进入环形间隙21中。以这种方式被引入到环形间隙21内的待研磨材料的小颗粒不仅在立式研磨机的研磨材料环路上造成不必要的负担并因此增加了所产生的压力损失，而且其还危害研磨台上的研磨床的相互合作以及负载性能，这导致振动趋势增加。
[0010]由于这些问题以及相关缺点随着立式研磨机尺寸的增加而不断增长，其显示为立式研磨机内的高压力损失、研磨辊的高运行振动以及因此的立式研磨机的运行效率受损的形式，这些问题必须被克服。
【发明内容】
[0011]本发明的目标是设计一种通用型立式研磨机，从而尤其是通过避免细颗粒的再循环来实现提高运行效率，这也可在相应的方法中得以实现。
[0012]根据本发明，通过权利要求1的特征部分的特征来在通用型立式研磨机中实现该目标，并且可通过根据权利要求8的特征的方法来实现该目标。
[0013]本发明的核心理念可认为是，在尺寸过大材料锥的下方区域中设置用于屏障气流的输送单元，所述屏障气流的流动方向从内部引导向外部，并且保持细颗粒远离位于尺寸过大材料锥的出口和研磨辊的较上区域之间的环形间隙距离，并且因此避免了这些细颗粒的再循环。
[0014]本发明的附属的核心理念在于，在输送和干燥气流进入具有叶片环的环形管道之前，将立式研磨机中的用于研磨-干燥操作所需要的全部输送和干燥气流分流出一部分，所述分流位于研磨盘的下方，并且转而在尺寸过大材料锥的出口的高度处引导位于研磨辊上方的部分气流成为从立式研磨机的内部到外部的部分气体或屏障气流。
[0015]通常可实现该屏障气流在环形间隙距离的区域中的均匀分布，因此覆盖住360°的区域。在结构方面，这可通过在尺寸过大材料锥的下方区域的外侧的环形管道或环形线路来实现。
[0016]在流量方面，屏障气流也可有效地吹送并分布成几部分，因此覆盖住360°的区域，以这种方式，在较常出现细颗粒的区域中提供了较强的屏障气流。
[0017]结合说明书，在从属权利要求2到7中指出了根据本发明的立式研磨机的有利的进一步发展，权利要求9到12中示出了与方法相关的有利的进一步发展。
[0018]在流动方面，用于屏障气流的输送单元优选地设计为位于尺寸过大材料锥的下方区域的围绕所述尺寸过大材料锥的气体管道，使得具有向外的流动方向的屏障气流将供入到环形间隙距离内的细颗粒引导开，并且使这些细颗粒转向进入到上升的输送和干燥气流中。
[0019]因此在位于尺寸过大材料锥和研磨辊之间的环形间隙距离上形成了气动屏障。
[0020]由此，就适当地输出细颗粒和输出细颗粒所需的立式研磨机总能量之间的关系而言，提高了立式研磨机的运行效率。
[0021]在另一个备选实施例中，气体管道在尺寸过大材料锥的下方区域中通过多个围绕的环形管道段来实现。
[0022]这有利于屏障气流以大约相同的压力围绕尺寸过大材料锥的周向流入。在另一方面，在流动方面，这有利于输送和干燥气体在尺寸过大材料锥的外锥表面上更好地上升进入位于各个环形管道段之间的仍然自由的间距中。
[0023]通过用于障碍气体的分支路线还可实现进一步的改进，其中该障碍气体是从用于输送和干燥气体的立式研磨机的主要供应路线中分流出的。穿过具有叶片环的环形管道而供应的气体流量因此降低。这继而在位于研磨辊的外区域和立式研磨机的壳体之间的扩大的流动空间内导致降低的压力并且因此导致压力损失减小。
[0024]由于当前情况下在立式研磨机中不需要热气来作为干燥气体，也可将屏障气流作为单独的气流(特别地为环境空气或新鲜空气)而引入到相应的输送单元中。
[0025]因此还能够减少穿过围绕研磨台的环形管道而上升的输送气体的量。
[0026]实际上已得知可在逐点式基体上通过喷嘴或通过环形管道来单独供应冷却气体，其中该喷嘴或环形管道设置在立式研磨机的壳体的内侧上且位于研磨辊的上方。冷却气体的流动方向因此从外部指向内部，并且仅仅用于冷却以及降低被研磨颗粒(例如在研磨水泥熟料中的上升细颗粒)的温度。
[0027]根据本发明，从内部指向外部的屏障气流优选地具有竖直的流动分量。以这种方式，与竖直上升的输送气流一同产生了流动方面的有利的转变。
[0028]在另一个研磨辊位置以及尺寸过大材料锥的外轮廓的备选方案中，尺寸过大材料锥特别地在下方的区域中也可具有圆柱形的形式，所述圆柱形的形式延伸进入与相对的、大体上竖直定向的研磨辊的间隙空间内。在该结构中，围绕着尺寸过大材料锥和研磨辊的空间体积向外地朝向立式研磨机的壳体的内壁大体上均匀。其结果是，可减少这个区域中的压力损失以及细颗粒在环形间隙距离内的再循环。
[0029]在方法方面，可通过权利要求8的特征来实现本发明的目标。因此在尺寸过大材料锥的下方区域中产生了进入和/或越过环形间隙距离的、具有从内部向外部的流动方向的屏障气流，从而可阻止细颗粒流入或再循环至间隙距离中。
[0030]因此可有效地通过作为主气流的一部分的分支路线来分流出屏障气流，其用于立式研磨机，用作输送和干燥气体，因此分流尤其在研磨台下方进行。
[0031]当引导具有竖直流动分量的屏障气流时，上升的输送和/或干燥气流因此流量增加，因此改善了被研磨颗粒的气动输送。
[0032]当屏障气流的流量和/或温度能够调节，且尤其作为所需的细颗粒的函数而实现上述调节时，实现了另一个优势。
[0033]整体来看，通过本发明获得了多个改善效果。
[0034]在再循环的范围内，细颗粒不再被供回到研磨台并因此回到研磨床，而是到达分级机。因此有利地影响了研磨床的组分并且减小了振动的趋势。
[0035]减少了立式研磨机内的材料环路中的完成材料或细颗粒的比例，这导致立式研磨机中的气动输送的整体负担降低，并因此增加了生产量且减少了压力损失。
[0036]通过在旁路中分流出的屏障气流的比例从而降低了具有叶片环的环形管道中的气体速度，由此相当程度地降低了压力损失。
[0037]叶片环中的降低的气体速度有利于立式研磨机的运行，其控制了废品的产率。由于不必气动地再循环尺寸过大的研磨颗粒，而是例如通过斗式输送机在外置机械环路中再循环尺寸过大的研磨颗粒，这反过来降低了立式研磨机中的压力损失。
[0038]总之，因此，实现了生产量和生产效率的提高。
[0039]本发明可因此用于所有结构类型的立式研磨机中，由于尤其是在辊的上方出现了细颗粒再循环的问题，因此在该区域中使得输送和干燥气流的横截面扩大。
【附图说明】
[0040]以下将参照图示的实施例对本发明进行更详细的说明。在附图中:
[0041]图1以高度示意性展示的形式显示了根据本发明的、具有分支路线和向外的屏障气流的立式研磨机的纵剖面；
[0042]图2显示了根据图1的具有屏障气流的立式研磨机，其中该屏障气流具有竖直分量;
[0043]图3显示了根据现有技术的立式研磨机的示意性纵剖面，该立式研磨机具有与图I相对应的基本部件，但是还具有在位于研磨辊和尺寸过大材料锥之间的环形间隙中的用于细颗粒的再循环气流(其有问题且应当避免)；
[0044]图1到图3用相同的