专利名称：柔性显示基板的制作方法
技术领域：
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种柔性显示基板的制作方法。
背景技术：
柔性显示(Flexible Display)技术在近十年有了飞速地发展，由此带动柔性显示器从屏幕的尺寸到显示的质量都取得了很大进步。柔性显示器又称为可卷曲显示器，是用柔性材料制成可视柔性面板而构成的可弯曲变形的显示装置。无论是濒临消失的CRT，还是现今主流的LCD，本质上都属于传统的刚性显示器。与普通的刚性显示器相比，柔性显示器具有诸多优点耐冲击，抗震能力更强；重量轻、体积小，携带更加方便；采用类似于报纸印刷工艺的卷带式工艺，成本更加低廉等。目前的几种柔性显示器的制造方法虽然各有特点，但也有一些相同之处，例如它们都需要在一个坚硬而平坦的硬质底座上粘合一层柔性衬底基板，再在柔性衬底基板上制作电子元件完成柔性显示基板的制作，然后再把完工的柔性显示基板从底座上揭下来。之所以这样做，是因为在精细的显示组件制作过程中，需要精确固定柔性衬底基板的位置和平坦度，误差只能以微米来计算，以保证电子元件之间不致错位。上述硬质底座通常为玻璃材质，这种底座虽然硬度满足要求，但其表面不够平坦，经常有高低起伏，当在真空环境下在柔性衬底基板上制作电子元件时，玻璃表面由于高低起伏产生的空间内的气泡会将比较柔软的柔性衬底基板背面顶起若干气泡，甚至使得柔性衬底基板发生无法恢复的塑性形变，即柔性显示基板会发生无法恢复的塑性形变。柔性衬底基板的不规则的不平整会导致其上器件的特性不均匀，从而影响柔性显示基板的品质。
发明内容
本发明的目的是提供一种避免柔性衬底基板发生无法恢复的塑性形变的柔性显示基板的制作方法。本发明的柔性显示基板的制作方法，包括在载体基板上制备打底层在所述打底层上制备柔性衬底基板；在所述柔性衬底基板上制备电子器件；将所述打底层由所述柔性衬底基板的背面去除，得到柔性显示基板。其中，所述打底层材料为光刻胶，和/或，所述柔性衬底基板的材料为聚酰亚胺。本发明的柔性显示基板的制作方法，其中，所述将打底层由所述柔性衬底基板的背面去除的步骤包括照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解，然后通过去除溶液将所述打底层去除。本发明的柔性显示基板的制作方法，其中，在载体基板上制备打底层的步骤包括在所述载体基板的正面上涂覆一层打底层材料，待其干燥后在所述载体基板上得到所述打底层。本发明的柔性显示基板的制作方法，其中，所述载体基板是透明基板，所述照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解，然后通过去除溶液将所述打底层去除的步骤包括在所述载体基板的背面进行光线照射，使所述打底层发生光化学反应并分解；通过去除溶液将所述打底层去除，使得所述透明基板与所述柔性衬底基板分离。本发明的柔性显示基板的制作方法，其中，所述打底层材料为能够在紫外线下分解的材料，所述光线为紫外线，所述载体基板为非黄色基板。本发明的柔性显示基板的制作方法，其中，所述打底层材料为正性光刻胶，所述柔性衬底基板的材料为聚酰亚胺。本发明的柔性显示基板的制作方法，其中，所述去除溶液是为丙酮溶液或丙二醇甲醚醋酸酯溶液。本发明的柔性显示基板的制作方法，其中，所述载体基板为玻璃基板，所述照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解，然后通过所述去除溶液将所述打底层去除的步骤包括在所述玻璃基板背面进行紫外线照射，使所述打底层发生光化学反应并进行分解，所述光化学反应完成后，将整个基板放入显影液中，将所述打底层溶解去除，最后将所述柔性衬底基板及其上的所述电子器件取出清洗干燥，得到柔性显示基板。本发明的柔性显示基板的制作方法，其中，所述在载体基板上制备打底层的步骤、所述在所述打底层上制备柔性衬底基板的步骤、所述在所述柔性衬底基板上制备电子器件的步骤、所述将所述打底层由所述柔性衬底基板的背面去除，得到柔性显示基板的步骤均在黄光区内进行。本发明实施例的柔性显示基板的制作方法，首先在载体基板上制备打底层，在打底层上再制备柔性衬底基板，然后再去除打底层，得到柔性显示基板，因为柔性衬底基板的背面只和打底层接触，不会和载体基板接触，所以不会有气泡对柔性衬底基板的背面产生破坏，由此在保证精确固定柔性衬底基板的位置和保证柔性衬底基板的平坦度的前提下，避免柔性显示基板发生塑性形变。
图I为本发明的流程示意图；图2为本发明的实施例的具体流程示意图。
具体实施例方式本发明的实施例公开了一种柔性显示基板的制作方法。本发明实施例的柔性显示基板的制作方法首先在载体基板上制备打底层，在打底层上再制备柔性衬底基板，然后再去除打底层，得到柔性显示基板。因为柔性衬底基板的背面只和打底层接触，不会和载体基板接触，所以不会有气泡对柔性衬底基板的背面产生破坏，由此在保证精确固定柔性衬底基板的位置和柔性衬底基板的平坦度的前提下，避免柔性显示基板发生塑性形变。如图I所示，本发明实施例的柔性显示基板的制作方法，包括
步骤I、在载体基板上制备打底层步骤2、在所述打底层上制备柔性衬底基板；步骤3、在所述柔性衬底基板上制备电子器件；步骤4、将所述打底层由所述柔性衬底基板的背面去除，得到柔性显示基板。其中，上述打底层的材料应该是一种可以和柔性衬底基板以及载体基板的材料紧密粘合的材料，比如光刻胶等。上述柔性衬底基板的材料应该是一种可以用于制备柔性衬底基板，并且同时可以与打底层的材料紧密粘合的材料，比如聚酰亚胺等。本发明各实施例的柔性显示基板，采广义概念，包括柔性阵列基板、柔性彩膜基板，还可以包括柔性显示面板等。本发明实施例的柔性显示基板的制作方法，将所述打底层由所述柔性衬底基板的 背面去除的步骤，可以包括照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解，然后通过去除溶液将所述打底层去除。这种去除方式利用打底层与柔性衬底基板的化学特性差异来去除打底层，更为彻底、闻效。本发明实施例的柔性显示基板的制作方法，在载体基板上制备打底层的步骤包括在所述载体基板的正面上涂覆一层打底层材料，待其干燥后在所述载体基板上得到所述打底层。本发明实施例的柔性显示基板的制作方法，所述载体基板是透明基板；所述照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解，然后通过去除溶液将所述打底层去除的步骤包括在所述载体基板背面进行光线照射，使所述打底层发生光化学反应并分解。在所述载体基板背面进行光线照射，光线透过透明基板(载体基板)被打底层吸收，而不会照射到柔性衬底基板，保证打底层发生光化学反应并分解，而柔性衬底基板不受影响；通过去除溶液将所述打底层去除，使得所述透明基板与所述柔性衬底基板分离。进一步地，本发明实施例的柔性显示基板的制作方法，所述打底层材料可以为能够在紫外线下分解的材料，所述光线为紫外线，所述载体基板为非黄色基板。黄色基板可以吸收紫外线，影响打底层对紫外线的吸收，从而影响工作效率。本发明实施例的柔性显示基板的制作方法，所述柔性衬底基板的材料是在紫外线下不会分解的材料。本发明实施例的柔性显示基板的制作方法，所述打底层材料为正性光刻胶，所述柔性衬底基板的材料为聚酰亚胺。所述去除溶液是为丙酮溶液或丙二醇甲醚醋酸酯溶液。所述载体基板为玻璃基板，所述照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解，然后通过所述去除溶液将所述打底层去除的步骤包括在所述玻璃基板背面进行紫外线照射，使所述打底层发生光化学反应并进行分解，从载体基板背面进行照射的紫外线的波长至少包括打底层材料发生光化学反应的波长。所述光化学反应完成后，将整个基板放入显影液中，将所述打底层溶解去除，最后将所述柔性衬底基板及其上的所述电子器件取出清洗干燥，得到柔性显示基板。本发明实施例的柔性显示基板的制作方法的四个步骤所述在载体基板上制备打底层的步骤、所述在所述打底层上制备柔性衬底基板的步骤、所述在所述柔性衬底基板上制备电子器件的步骤、所述将所述打底层由所述柔性衬底基板的背面去除，得到柔性显示基板的步骤均在黄光区内进行。这样保证紫外线只对打底层产生影响，而不对柔性衬底基板产生损坏。本发明的具体实施例如图2所示，图中箭头表示步骤进行方向，本实施例的工件的制备方法，包括以下步骤在载体基板上制备打底层在透明的非黄色的玻璃基板I上涂覆一层可在紫外线下分解的材料，待其干燥后得到打底层2，在本发明的其他实施例中，玻璃基板I也可以用平坦光滑的有机物基板代替，在本实施例中，打底层材料是正性光刻胶；在打底层上制备柔性衬底基板在去除溶剂后的正性光刻胶干膜上再涂覆一层较·厚的紫外光固化聚酰亚胺浆料，流平后通过传统聚酰亚胺薄膜制备方法进行去除溶剂、亚胺化和光固化处理，制成0. 09微米 250微米厚的聚酰亚胺薄膜作为柔性衬底基板3 ；在上步骤得到的柔性衬底基板上制备电子器件在采用传统工艺在聚酰亚胺材料的柔性衬底基板3上制备电子器件4 ；将打底层由柔性衬底基板背面去除，得到柔性显示基板完成器件制备后，在玻璃基板I的背面利用紫外灯8进行紫外线照射，使得打底层2能够发生光化学反应并进行分解，待反应完成后，将整个基板放入作为去除溶液的显影液5中，将打底层2溶解，最后将柔性衬底基板3及其上的电子器件4取出清洗干燥，得到柔性显示基板10，从而完成整个柔性显不基板的制备。本发明实施例的显影液可以是四甲基氢氧化铵或氢氧化钾。所述去除溶液是为丙酮溶液或丙二醇甲醚醋酸酯溶液。本发明实施例的载体基板可以是聚四氟材料、高密度聚乙烯、聚碳酸酯、高密度聚丙烯等有机材料。因为黄光会吸收紫外线，为保证柔性衬底基板不受紫外线的影响，本实施例的柔性显示基板的制作方法的四个步骤均在环境光线为黄光的黄光区内进行。本实施例中的柔性衬底基板的背面只和打底层接触，打底层中不会有气泡对柔性衬底基板的背面产生破坏，由此在保证精确固定柔性衬底基板的位置和柔性衬底基板的平坦度的前提下，避免柔性显示基板发生塑性形变。以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
权利要求
1.一种柔性显示基板的制作方法，其特征在于，包括 在载体基板上制备打底层 在所述打底层上制备柔性衬底基板； 在所述柔性衬底基板上制备电子器件； 将所述打底层由所述柔性衬底基板的背面去除，得到柔性显示基板。
2.根据权利要求I所述的柔性显示基板的制作方法，其特征在于，所述将所述打底层由所述柔性衬底基板的背面去除的步骤包括 照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解，然后通过去除溶液将所述打底层去除。
3.根据权利要求I所述的柔性显示基板的制作方法，其特征在于，在载体基板上制备打底层的步骤包括在所述载体基板的正面上涂覆一层打底层材料，待其干燥后在所述载体基板上得到所述打底层。
4.根据权利要求2所述的柔性显示基板的制作方法，其特征在于，所述载体基板是透明基板，所述照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解，然后通过去除溶液将所述打底层去除的步骤包括 在所述载体基板的背面进行光线照射，使所述打底层发生光化学反应并分解； 通过去除溶液将所述打底层去除，使得所述透明基板与所述柔性衬底基板分离。
5.根据权利要求4所述的柔性显示基板的制作方法，其特征在于，所述打底层材料为能够在紫外线下分解的材料，所述光线为紫外线，所述载体基板为非黄色基板。
6.根据权利要求5所述的柔性显示基板的制作方法，其特征在于，所述打底层材料为正性光刻胶,所述柔性衬底基板的材料为聚酰亚胺。
7.根据权利要求6所述的柔性显示基板的制作方法，其特征在于，所述去除溶液是为丙酮溶液或丙二醇甲醚醋酸酯溶液。
8.根据权利要求6所述的柔性显示基板的制作方法，其特征在于，所述载体基板为玻璃基板，所述照射光线使得所述打底层发生光化学反应分解，然后通过所述去除溶液将所述打底层去除的步骤包括 在所述玻璃基板背面进行紫外线照射，使所述打底层发生光化学反应并进行分解，所述光化学反应完成后，将整个基板放入显影液中，将所述打底层溶解去除，最后将所述柔性衬底基板及其上的所述电子器件取出清洗干燥，得到柔性显示基板。
9.根据权利要求4-8任一项所述的柔性显示基板的制作方法，其特征在于，所述在载体基板上制备打底层的步骤、所述在所述打底层上制备柔性衬底基板的步骤、所述在所述柔性衬底基板上制备电子器件的步骤、所述将所述打底层由所述柔性衬底基板的背面去除，得到柔性显示基板的步骤均在黄光区内进行。
10.根据权利要求I所述的柔性显示基板的制作方法，其特征在于，所述打底层材料为光刻胶，和/或，所述柔性衬底基板的材料为聚酰亚胺。
全文摘要
本发明提供一种柔性显示基板的制作方法，涉及显示技术领域。本发明提供的柔性显示基板的制作方法，包括在载体基板上制备打底层；在打底层上制备柔性衬底基板；在柔性衬底基板上制备电子器件；将打底层由柔性衬底基板背面去除，得到柔性显示基板。本发明的柔性显示基板的制作方法使柔性衬底基板的背面只和打底层接触，不会有气泡对柔性衬底基板的背面产生破坏，由此在保证柔性衬底基板平坦度和精确固定柔性衬底基板的前提下，避免柔性显示基板发生塑性形变。
文档编号H01L21/77GK102738078SQ20121021224
公开日2012年10月17日 申请日期2012年6月21日 优先权日2012年6月21日
发明者周伟峰 申请人:京东方科技集团股份有限公司