1.一种硅片表面HF酸处理系统，其特征在于，包括由气体管路依次连接的气源、HF酸源、硅片处理单元和尾气处理单元；其中该气体管路上设有一总阀门，且自该管路分出第一支路和第二支路；该第一支路连接至HF酸源液面底部，且设有第一阀门；该第二支路上设有第二阀门，且又分出连接至HF酸源液面上方的支路和连接至硅片处理单元进气口的支路，在连接至HF酸源液面上方的支路上更设有第三阀门。
2.根据权利要求1所述的硅片表面HF酸处理系统，其特征在于，所述硅片处理单元内部设有数个可装卸卡槽部件。
3.根据权利要求1所述的硅片表面HF酸处理系统，其特征在于，所述气源供应的气体不与HF酸反应的气体。
4.根据权利要求3所述的硅片表面HF酸处理系统，其特征在于，所述气源供应的气体为纯净的氮气或氩气。