技术总结
本发明提出一种等离子刻蚀设备，包括：反应腔体；静电吸附盘，设置于所述反应腔体内部；多个支撑脚，设置于所述反应腔体内部，所述多个支撑脚连接并托举所述静电吸附盘。支撑脚的中空结构内设置有电线管路，供气管路，及冷却液管路。本发明提出的等离子刻蚀设备，改变现有的悬臂支撑静电吸附盘的模式，改在静电吸附盘的下方做三根空心支撑脚托举静电吸附盘让气流可以从上至下贯通腔体。支撑脚的主要作用是支撑静电吸附盘，内部用来走静电吸附盘所用的电线管路，供气管路，及冷却液管路，相比现有的传统悬臂，支撑脚内部分路走线更加独立安全方便后期维护维保，且腔体内气流从上向下均匀流动，改善刻蚀工艺时的均一性，从而提高产品的良率。
技术研发人员：李定斌;阚保国;彭国发;张旭升;朱骏;吕煜坤;刘东升
受保护的技术使用者：上海华力微电子有限公司
文档号码：201610924485
技术研发日：2016.10.24
技术公布日：2017.01.11