透明导电配线及透明导电配线的制造方法与流程

文档序号:12513839阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种透明导电配线,其具有由Ag或Ag合金构成的Ag膜及层叠于该Ag膜上的透明导电氧化物膜,且通过蚀刻处理形成有配线图案,所述透明导电配线的特征在于,

所述Ag膜的膜厚在15nm以下的范围内,

所述Ag膜相对于所述透明导电氧化物膜的过蚀刻量为1μm以下。

2.根据权利要求1所述的透明导电配线,其特征在于,

所述Ag膜由如下组成的Ag合金构成:以合计为0.05原子%以上且10.0原子%以下的范围包含Sn、In、Mg、Ti中的任意一种或两种以上的元素来作为添加元素,且剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成。

3.根据权利要求2所述的透明导电配线,其特征在于,

所述Ag膜由如下组成的Ag合金构成:还包含0.01原子%以上的Sb及0.1原子%以上的Cu中的任意一种或两种来作为添加元素,并且所有添加元素的合计为10.0原子%以下,且剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的透明导电配线,其特征在于,

所述透明导电氧化物膜为非晶膜。

5.一种透明导电配线的制造方法,所述透明导电配线具有由Ag或Ag合金构成的Ag膜及层叠于该Ag膜上的透明导电氧化物膜,且形成有配线图案,所述透明导电配线的制造方法的特征在于,

将所述Ag膜的膜厚设在15nm以下的范围内,

具有蚀刻处理工序,对具有所述Ag膜和所述透明导电氧化物膜的层叠膜进行蚀刻处理而形成配线图案,

该蚀刻处理工序中,使用草酸蚀刻液对所述透明导电氧化物膜及所述Ag膜一并进行溶解。

6.根据权利要求5所述的透明导电配线的制造方法,其特征在于,

所述草酸蚀刻液为草酸浓度在3质量%以上且7质量%以下的范围内的草酸水溶液。

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