基板传送装置的制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种用于传送半导体基板以及玻璃基板等的基板传送装置。
【背景技术】
[0002]作为一种对半导体基板以及硅晶片、液晶显示装置用玻璃基板等进行真空处理的基板处理装置，人们公知一种多腔装置，其以传送室为中心，在传送室周围隔着各闸阀配置有多个处理室，从而能够在真空中连贯地进行各种基板处理。这种多腔型基板处理装置具有基板传送装置，该基板传送装置用于自动由传送室向各处理室送入-送出基板。
[0003]基板传送装置为了向各室传送基板，而进行伸缩、回旋动作，通过伴随该动作而进行的加速减速，使基板能够相对于基板传送装置的机械手移动。从向各室传送基板的精确度的观点来看，为了抑制基板相对于机械手的移动量，在机械手上安装有保持垫和止挡部件，保持垫用于防止基板的滑动，止挡部件用于支承基板的周缘部，并确定其位置(例如参照下述专利文献I)。
[0004]【专利文献I】日本发明专利公开公报特开2009-43799号(第
[0085]段，图17、18)
[0005]近年来，随着基板的大型化、薄型化，基板容易发生变形。在由基板传送装置传送像这样的基板的情况下，由于基板的卷曲以及变形，导致无法适当确定基板的周缘部的位置，因此，存在无法得到所期望的基板传送的精确度的问题。
【发明内容】
[0006]鉴于上述问题，本发明的目的在于，提供一种在传送能够变形的基板时，能够提高基板传送的精确度的基板传送装置。
[0007]为达到上述目的，本发明的一个实施方式所涉及的基板传送装置具有机械手部、多个定位垫和至少一个支承垫。
[0008]上述机械手部具有用于放置能够变形的基板的放置面。
[0009]上述多个定位垫设置于上述机械手部，其以自上述放置面起的第I高度支承放置在上述放置面上的上述基板的周缘。
[0010]上述至少一个支承垫设置在上述放置面上，其支承放置在上述放置面上的上述基板的下表面，并具有比第I高度高的第2高度。
【附图说明】
[0011]图1为具有本发明的一个实施方式所涉及的基板传送装置的基板处理装置的平面示意图。
[0012]图2为上述基板传送装置的俯视图。
[0013]图3为上述基板传送装置的侧视图。
[0014]图4为上述基板传送装置中的第I定位垫的立体图。
[0015]图5为上述基板传送装置中的第2定位垫的立体图。
[0016]图6为上述基板传送装置中的第3定位垫的立体图。
[0017]图7为上述基板传送装置中的支承垫的立体图。
[0018]图8为用于说明上述基板传送装置的一个作用的侧视图。
[0019]图9为表示基板被放置在上述基板传送装置中的机械手部上时的状态的侧视示意图。
[0020]图10为表示在上述机械手部上放置热膨胀后的基板时的状态的侧面示意图。
[0021]【附图标记说明】
[0022]1:基板传送装置；2:基板支承部；20:机械手部；21a?21d:轴部件；23a:第I定位垫；23b:第2定位垫；23c ??第3定位垫；24:支承垫；100:基板处理装置；201:放置面；231a、231b、231c ??第 I 支承面;232a、232b、232c:第 I 台阶部;233b、233c:第 2 支承面；234b,234c:第2台阶部。
【具体实施方式】
[0023]本发明的一个实施方式所涉及的基板传送装置具有机械手部、多个定位垫和至少一个支承垫。
[0024]上述机械手部具有用于放置能够变形的基板的放置面。
[0025]上述多个定位垫设置于上述机械手部，其以自上述放置面起的第I高度支承放置在上述放置面上的上述基板的周缘。
[0026]上述至少一个支承垫设置在上述放置面上，其支承放置于上述放置面上的上述基板的下表面，并具有比第I高度高的第2高度。
[0027]在上述基板传送装置中，能够因自重而变形的基板被放置在放置面上时，基板以其周缘部比其面内中央部更向下方变形的状态被支承垫支承。另外，由于定位垫的高度比支承垫的高度低，因而使定位垫能够支承向下方变形的基板的周缘部，并确定基板的周缘部的位置。
[0028]因此，采用上述基板传送装置时，即使是容易因自重而变形的基板，也能够准确地确定其周缘部的位置，因而能够提高基板传送的精确度。另外，即使在因热处理等导致基板发生热变形的情况下，由于能够使基板的周缘部因自重向下方变形，因而也能够由上述定位垫来确保所期望的精确定位。
[0029]然而，在由基板传送装置传送基板时，由于基板在机械手部上做相对移动，而导致在基板支承垫和基板的接触点处发生摩擦带电，使形成于基板上的器件被静电损坏。虽然通过使基板传送装置的加减速变慢，使基板在机械手部上相对移动的速度变慢，能够抑制基板的摩擦带电，但是却使生产效率降低。
[0030]为了在不降低生产效率的同时，解决上述基板的摩擦带电问题，上述支承垫还可以具有基部和转动体，转动体配置于上述基部的上表面，且其至少以一个轴为中心转动。从而，能够使上述支承垫和上述基板的接触变为滚动摩擦，使摩擦减少，因而能够减轻驱动机械手部时随着上述基板的相对移动而产生的摩擦带电，防止形成于上述基板上的器件被静电损坏。
[0031]上述转动体可以为导电性材料，从而能够抑制在上述基板上产生静电。
[0032]上述多个定位垫具有在上述放置面内，于一个轴方向相对的至少一对定位垫。上述一对定位垫还可以具有第I支承面和第I台阶部。其中，第I支承面具有能够支承上述基板的周缘的第I高度，第I台阶部设置于上述第I支承面，能够限定上述基板在上述一个轴方向上的位置。
[0033]从而，能够抑制上述基板随着上述机械手部的伸缩-回旋动作，而在机械手部上所作的相对移动，更精确地确定上述基板的位置。
[0034]上述一对定位垫中的至少一方的定位垫还可以具有第2支承面和第2台阶部。其中，第2支承面设置于上述第I台阶部，其具有高于上述第I高度且低于上述第2高度的第3高度，能够支承上述基板的周缘；第2台阶部设置于上述第2支承面，能够限定上述基板在上述一个轴方向上的位置。
[0035]从而，即使在基板因加热而发生热膨胀的情况下，也能够由上述第2支承面支承基板的周缘部，并且由第2台阶部来保证所期望的基板的精确定位。
[0036]上述机械手部包括多个轴部。上述多个轴部可以沿着第I轴方向延伸，并沿着与上述第I轴方向垂直的第2轴方向排列。上述多个定位垫还可以至少分别设置于上述多个轴部中的位于外侧的一对轴部上。上述支承垫还可以包括至少设置于上述多个轴部中的位于内侧的轴部上的多个支承垫。
[0037]从而，能够减轻上述机械手部的重量。因此，例如能够由重量轻且成本低的机械手部来构成用于传送大型基板的机械手部。
[0038]下面，参照附图对本发明的实施方式进行说明。
[0039]【基板处理装置的结构】
[0040]图1为本发明的一个实施方式所涉及的基板处理装置100的平面示意图。基板处理装置100在其中央具有传送室A，在传送室A的周围隔着并未图示的闸阀，配置有准备-取出室B以及多个处理室C。在传送室A内设置有用于向各室传送基板W的基板传送装置I。作为多个处理室C，例如可以为热处理室、成膜室(CVD室、溅射室)、蚀刻室等适当的真空处理室。
[0041]传送室A、准备-取出室B以及多个处理室C，分别被真空排气而使其室内压力在规定压力以下。典型的是，由不同的真空排气装置对各室进行排气。准备-取出室B也可以由准备室和取出室2个腔室构成。对于处理室C的个数没有特别限定，只要至少配置一个即可。
[0042]基板W使用能够变形的