，最终得到成型后 的电芯。
[0032] 比较例2，
[0033] 与比较例1不同之处在于：
[0034] 正极片制备：将硫-活性碳（比表面积为2000m2/g)复合物（硫的负载量为75%) 与PVDF、Supper-P及溶剂混合配置得到浆料。
[0035] 其余与比较例1相同，不再赘述。
[0036] 比较例3，
[0037] 与比较例1不同之处在于：
[0038] 正极片制备：将硫-活性碳（比表面积为3000m2/g)复合物（硫的负载量为75%) 与PVDF、Supper-P及溶剂混合配置得到浆料。
[0039] 其余与比较例1相同，不再赘述。
[0040] 比较例4，
[0041] 与比较例1不同之处在于：
[0042] 正极片制备：将硫-碳纳米管复合物（硫的负载量为75% )与PVDF、Supper-P及 溶剂混合配置得到浆料。
[0043] 其余与比较例1相同，不再赘述。
[0044] 比较例5，
[0045] 与比较例1不同之处在于：
[0046] 正极片制备：将硫-科琴黑复合物（硫的负载量为75% )与PVDF、Supper-P及溶 剂混合配置得到浆料。
[0047] 其余与比较例1相同，不再赘述。
[0048] 比较例6，
[0049] 与比较例1不同之处在于：
[0050] 正极片制备：将硫-石墨烯复合物（硫的负载量为75% )与PVDF、Supper-P及溶 剂混合配置得到浆料。
[0051] 其余与比较例1相同，不再赘述。
[0052] 比较例7，
[0053] 与比较例1不同之处在于：
[0054] 正极片制备：将硫-聚苯胺复合物（硫的负载量为75% )与PVDF、Supper-P及溶 剂混合配置得到浆料。
[0055] 其余与比较例1相同，不再赘述。
[0056] 比较例8，
[0057] 与比较例1不同之处在于：
[0058] 正极片制备：将硫-多孔铝复合物（硫的负载量为75% )与PVDF、Supper-P及溶 剂混合配置得到浆料。
[0059] 其余与比较例1相同，不再赘述。
[0060] 实施例1，
[0061] 第一涂敷层正极片制备：将硫-活性碳（比表面积为1500m2/g)复合物（硫的负 载量为75% )与PVDF、Supper-P(以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分搅拌 后得到浆料1，之后涂覆在铝箱上，冷压后得到单面涂层厚度为30 μ m的正极片待用。
[0062] 两层涂敷结构的正极片制备：将硫-活性碳（比表面积为2000m2/g)复合物（硫 的负载量为75% )与PVDF、Supper-P(以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分 搅拌后得到浆料2,之后涂覆在上述第一层涂敷层的表面，冷压后得到第二层涂敷层厚度为 30 μ m的两层正极片待用。
[0063] 成品电芯制备：将制备得到的两层涂敷结构的正极片、金属锂带以及隔离膜卷绕 得到裸电芯，使用铝塑膜为包装袋进行入袋封装，之后烘干、注液、静置、化成、整形、除气 后，最终得到成型后的电芯。
[0064] 实施例2，
[0065] 第一涂敷层正极片制备：将硫-活性碳（比表面积为1500m2/g)复合物（硫的负 载量为75% )与PVDF、Supper-P(以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分搅拌 后得到浆料1，之后涂覆在铝箱上，冷压后得到单面涂层厚度为20 μ m的正极片待用。
[0066] 第二层涂敷结构的正极片制备：将硫-活性碳（比表面积为2000m2/g)复合物（硫 的负载量为75% )与PVDF、Supper-P(以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分 搅拌后得到浆料2,之后涂覆在上述第一层涂敷层的表面，冷压后得到第二层涂敷层厚度为 20 μ m的两层正极片待用。
[0067] 第三涂敷层正极片制备：将硫-活性碳（比表面积为3000m2/g)复合物（硫的负 载量为75% )与PVDF、Supper-P(以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分搅拌 后得到浆料3,之后涂覆在第二层涂敷结的表面上，冷压后得到第三层涂敷层厚度为20 μ m 的三层正极片待用。
[0068] 成品电芯制备：采用金属锂片直接接触补锂的方式，在上述两层结构正极片表面 均匀布置一层锂带，之后进行辊压，从而实现对上述得到的四层涂层正极片进行富锂，之后 于烘干后的负极片（活性物质为石墨）以及隔离膜卷绕得到裸电芯，使用铝塑膜为包装袋 进行入袋封装，之后注液、静置、化成、整形、除气后，最终得到成型后的电芯。
[0069] 实施例3，
[0070] 第一涂敷层正极片制备：将硫-碳纳米管复合物（硫的负载量为75% )与PVDF、 Supper-P (以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分搅拌后得到浆料1，之后涂覆 在铝箱上，冷压后得到单面涂层厚度为μ m20 μ m的正极片待用；
[0071] 第二涂敷层正极片制备：将硫-科琴黑复合物（硫的负载量为75%)与PVDF、 Supper-P (以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分搅拌后得到浆料2,之后涂覆 在上述第一层涂敷层的表面，冷压后得到第二层涂敷层厚度为40 μ m的两层正极片待用。
[0072] 实施例4，
[0073] 第一涂敷层正极片制备：将硫-多孔铝复合物（硫的负载量为40%)与PVDF、 Supper-P (以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分搅拌后得到浆料1，之后涂覆 在铝箱上，冷压后得到单面涂层厚度为20 μ m的正极片待用；
[0074] 第二涂敷层正极片制备：将硫-聚苯胺复合物（硫的负载量为60% )与PVDF、 Supper-P (以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分搅拌后得到浆料2,之后涂覆 在上述第一层涂敷层的表面，冷压后得到第二层涂敷层厚度为10 μ m的两层正极片待用。
[0075] 第三涂敷层正极片制备：将硫-石墨烯复合物（硫的负载量为75% )与PVDF、 Supper-P (以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分搅拌后得到浆料3,之后涂覆 在上述第二层涂敷层的表面，冷压后得到第三层涂敷层厚度为30 μ m的三层正极片待用。
[0076] 实施例5，
[0077] 第一层涂层结构的正极片制备：将纳米硫、石墨稀复合，得到纳米硫-石墨稀复合 物（质量比例为98:2)，之后与PVDF (质量比例为99. 5:0. 5)及溶剂搅拌均匀，涂敷在铝箱 上，，冷压后得到单面涂层厚度为1 μ m的正极片待用；
[0078] 两层涂敷结构的正极片制备：将纳米硫、石墨烯复合，得到纳米硫-石墨烯复合物 (质量比例为90:10)，之后与PVDF (质量比例为98:2)及溶剂搅拌均匀，涂敷在铝箱上，，冷 压后得到单面涂层厚度为2 μπι的正极片待用；
[0079] 三层涂敷结构的正极片制备：将硫-导电碳复合物（硫的负载量为50% )与PVDF、 Supper-P (以上三种物质的质量比例为90:4:6)及溶剂，充分搅拌后得到浆料3,之后涂覆 在上述第二层涂敷层的表面，冷压后得到第三层涂敷层厚度为97 μ m的三层正极片待用。
[0080] 成品电芯制备：采用金属锂粉直接接触补锂的方式，在上述两层结构正极片表面 均匀布置一层锂粉，之后进行辊压，从而实现对上述得到的两层涂层正极片进行富锂，之后 于烘干后的负极片（活性物质为石墨）以及隔离膜卷绕得到裸电芯，使用铝塑膜为包装袋 进行入袋封装，之后注液、静置、化成、整形、除气后，最终得到成型后的电芯。
[0081] 实施例6，
[0082] 第一涂敷层正极片制备：将硫-科琴黑复合物（硫的负载量为5% )与粘接剂、导 电剂（以上三种物质的质量比例为94:3:3)及溶剂，充分搅拌后得到浆料1，之后涂覆在铝 箱上，冷压后得到单面涂层厚度为400 μ m的正极片待用；
[0083] 两层涂敷结构的正极片制备：将磷酸铁锂、粘接剂、导电剂（以上四种物质的质量 比例为95:2:3)及溶剂，充分搅拌后得到浆料2,之后涂覆在上述第一层涂敷层的表面，冷 压后得到第二层涂敷层厚度为10 μ m的两层正极片待用。