有机电致发光显示装置及其制造方法

文档序号:8208134阅读:257来源:国知局
有机电致发光显示装置及其制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及有机电致发光显示装置及其制造方法,特别涉及具有层叠了无机膜和有机膜的阻挡膜的有机电致发光显示装置及其制造方法。
【背景技术】
[0002]在具有有机电致发光(electroluminescence,以下也称为“EL”)元件的有机EL显示装置中提案有,为了抑制有机EL元件的劣化,以覆盖有机EL元件的方式,或者在使用塑料基板的情况下,以覆盖该塑料基板的基板表面的方式,设置层叠有无机膜和有机膜的阻挡膜,抑制水分和氧的混入的构造。
[0003]例如,在专利文献I中,公开了一种有机EL显示元件,该有机EL显示元件构成为:利用在构成上述有机EL元件的相对电极(阴极)上通过依次真空蒸镀S1J莫和Al膜而设置的第一阻挡层、通过在该第一阻挡层上真空蒸镀聚乙二醇丙烯酸酯(Poly ethyleneglycol acrylate)后使其固化而设置的树脂层、和通过在该树脂层上依次真空蒸镀Al膜和3102膜而设置的第二阻挡层,构成与上述阻挡膜相当的密封层。
[0004]此外,在专利文献2中,公开了在构成上述有机EL元件的阴极膜上,聚合物材料层和无机材料薄膜的叠层膜作为上述阻挡膜设置的电场发光元件。
[0005]此外,在专利文献3中,公开了在与上述有机EL元件相当的元件部上交替地层叠有机层和无机层而成的阻挡层作为上述阻挡膜设置的有机电场发光元件。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1:日本特开2001-307873号公报
[0009]专利文献2:日本特开2002-252080号公报
[0010]专利文献3:日本特开2003-17244号公报
[0011]专利文献4:日本特开2003-282239号公报

【发明内容】

[0012]发明要解决的课题
[0013]但是,构成阻挡膜的无机膜和有机膜相互的紧贴性不高,因此在阻挡膜中,可能在无机膜与有机膜的分界面发生剥离。如果这样,则水分或氧从无机膜与有机膜剥离的分界面侵入,导致有机EL元件劣化。此外,在使用具有弯曲性的塑料基板(膜基板)作为基底基板(base substrate)的有机EL显示装置中,由于该基板的弯曲导致在无机膜与有机膜的分界面产生弯曲应力,因此容易在无机膜与有机膜的分界面发生剥离。而且,在无机膜和有机膜中,热膨胀系数存在差异,因此由于温度变化导致在无机膜与有机膜的分界面产生热应力,导致容易在无机膜与有机膜的分界面发生剥离。
[0014]于是,在上述专利文献4中,提案有一种有机EL显不面板,在该有机EL显不面板中,通过将第一无机阻挡层、点状的高分子化合物层的第一组、中间的第二无机阻挡层、点状的高分子化合物层的第二组、中间的第三无机阻挡层、点状的高分子化合物层的第三组和位于最靠表面的位置的第四无机阻挡层在树脂基板上依次层叠,包合(clathrate)无机阻挡层作为上述阻挡膜设置。
[0015]此处,上述专利文献4中公开的有机EL显示面板中,由于高分子化合物层的有机膜被图案形成为岛状,因此夹着有机膜的一对无机膜彼此接触,由此一定程度上使得无机膜与有机膜的分界面处的剥离难以发生,但如上所述,在无机膜与有机膜的分界面产生热应力、弯曲应力时,该应力分别施加于相互独立的多个点状(岛状)的有机膜的图案,难以分散和缓和该应力,可能在无机膜与有机膜的分界面发生剥离,因此存在改善的余地。
[0016]本发明鉴于上述问题而完成的,其目的在于,抑制在构成阻挡膜的无机膜和有机膜的分界面产生的应力所导致的无机膜与有机膜的分界面处的剥离。
[0017]用于解决课题的技术方案
[0018]为了实现上述目的,本发明依次层叠第一无机膜、设置有多个第一贯通孔的第一有机膜、第二无机膜、设置有多个第二贯通孔的第二有机膜和第三无机膜,来构成阻挡膜。
[0019]具体来说,本发明的有机电致发光显示装置包括:基底基板;设置于上述基底基板的有机电致发光元件;和抑制上述有机电致发光元件的劣化的阻挡膜,上述阻挡膜具有:从上述基底基板侧起依次设置的第一无机膜、第二无机膜和第三无机膜;设置在该第一无机膜与第二无机膜之间的第一有机膜;和设置在该第二无机膜与第三无机膜之间的第二有机膜,在上述第一有机膜设置有使上述第一无机膜和第二无机膜相互接触的多个第一贯通孔,在上述第二有机膜设置有使上述第二无机膜和第三无机膜相互接触的多个第二贯通孔。
[0020]上述第一贯通孔也可以设置为与上述第二贯通孔不重叠。
[0021]上述第一贯通孔和第二贯通孔也可以分别设置为线状。
[0022]上述第一贯通孔和第二贯通孔也可以分别设置为点状。
[0023]另外,分别点状地设置有第一贯通孔和第二贯通孔的第一有机膜和第二有机膜,是在上述专利文献4中公开的点状的高分子化合物层中,使配置有高分子化合物层的区域和没有配置高分子化合物层的区域正好反转的构造。
[0024]上述阻挡膜也可以是覆盖上述有机电致发光元件的密封膜。
[0025]上述阻挡膜也可以是在上述基底基板的上述有机电致发光元件侧的表面设置的基底涂层(base coat)膜。
[0026]上述阻挡膜base coat可以是在上述基底基板的与上述有机电致发光元件相反的一侧的表面设置的保护膜。
[0027]此外,本发明的有机电致发光显示装置包括:基底基板;在上述基底基板设置的有机电致发光元件;和抑制上述有机电致发光元件的劣化的阻挡膜,上述阻挡膜具有:从上述基底基板侧起依次设置的第I?第η无机膜;和在该相邻的无机膜彼此之间从上述基底基板侧起依次分别设置的第I?第(η-1)有机膜,其中,η是3以上的自然数,在上述第I?第(η-1)有机膜中,分别设置有使与该有机膜相邻的无机膜彼此相互接触的多个贯通孔,上述第I?第(η-1)有机膜的至少一层,与在不同于该有机膜的其它有机膜的至少一层设置的各贯通孔在俯视时相互重叠。
[0028]此外,本发明的有机电致发光显示装置的制造方法包括:在基底基板形成有机电致发光元件的EL元件形成工序;和形成抑制上述有机电致发光元件的劣化的阻挡膜的阻挡膜形成工序,在上述阻挡膜形成工序中,依次形成第一无机膜、在厚度方向上贯通设置有多个第一贯通孔的第一有机膜、第二无机膜、在厚度方向上贯通设置有多个第二贯通孔的第二有机膜、和第三无机膜。
[0029]在上述阻挡膜形成工序中,也可以以使得上述第一贯通孔和第二贯通孔相互不重叠的方式,形成上述第一有机膜和第二有机膜。
[0030]在上述阻挡膜形成工序中,也可以通过真空成膜法形成上述第一有机膜和第二有机膜。
[0031]在上述阻挡膜形成工序中,也可以通过印刷法或光刻法形成上述第一有机膜和第二有机膜。
[0032]本发明也可以为如下方式:上述阻挡膜形成工序在上述EL元件形成工序之后进行,在上述阻挡膜形成工序中,作为上述阻挡膜,形成覆盖上述有机电致发光元件的密封膜。
[0033]本发明也可以为如下方式:上述阻挡膜形成工序在上述EL元件形成工序之前进行,在上述阻挡膜形成工序中,作为上述阻挡膜,形成覆盖上述基底基板的上述有机电致发光元件侧的表面的基底涂层膜。
[0034]本发明也可以为如下方式:上述阻挡膜形成工序在上述EL元件形成工序之前进行,在上述阻挡膜形成工序中,作为上述阻挡膜,形成覆盖上述基底基板的与上述有机电致发光元件相反的一侧的表面的保护膜。
[0035]发明效果
[0036]根据本发明,由于依次层叠第一无机膜、设置有多个第一贯通孔的第一有机膜、第二无机膜、设置有多个第二贯通孔的第二有机膜、和第三无机膜来构成阻挡膜,因此能够抑制在构成阻挡膜的无机膜和有机膜的分界面处产生的应力所引起的无机膜与有机膜的分界面处的剥离。
【附图说明】
[0037]图1是实施方式I的有机EL显示装置的截面图。
[0038]图2是表示实施方式I的有机EL显示装置的像素构造(也称为“像素结构”)的俯视图。
[0039]图3是构成实施方式I的有机EL显示装置的有机EL元件的等效电路图。
[0040]图4是表示构成实施方式I的有机EL显示装置的阻挡膜的贯通孔的构造的俯视图(即,平面图)。
[0041]图5是沿图4中的V-V线的阻挡膜的截面图。
[0042]图6是表示实施方式I的阻挡膜的变形例I的贯通孔的构造的俯视图。
[0043]图7是表示实施方式I的阻挡膜的变形例2的贯通孔的构造的俯视图。
[0044]图8是表示实施方式I的阻挡膜的变形例3的贯通孔的构造的俯视图。
[0045]图9是表示实施方式I的阻挡膜的变形例4的贯通孔的构造的俯视图。
[0046]图10是表示实施方式I的阻挡膜的变形例5的截面图。
[0047]图11是实施方式2的有机EL显示装置的截面图。
[0048]图12是构成实施方式2的有机EL显示装置的阻挡膜的截面图。
[0049]图13是实
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