喷墨印刷制备tco薄膜的方法

文档序号:1959998阅读:194来源:国知局
专利名称:喷墨印刷制备tco薄膜的方法
技术领域
本发明涉及TCO薄膜技术,具体地说是一种喷墨印刷制备TCO薄膜的方法。
技术背景TCO(透明导电氧化物)是指可见光透过率在80%以上,电阻率在l(^Q'cm 以下的透明导电材料。通常通过在宽禁带半导体中掺入杂质元素来获得。TCO 材料主要有以下三大类In2Cb基薄膜如ITO, Sn02基薄膜如Sn02:F、 Sn02:Sb等, ZnO基薄膜如ZnO:Al、 ZnO:Ga等。TCO薄膜以其接近金属的导电率、可见光范 围内的高透射率、红外高反射率以及半导体特性,广泛应用于太阳能电池、平板 显示器、气敏元件、抗静电涂层、微波屏蔽和防护镜以及其它光电器件中。针对 诸多的应用,人们一直试图去获得尽可能低的电阻率,尽可能高的可见光透过率, 相应地发展了蒸发技术、热喷涂、化学气相沉积技术、溅射沉积技术、溶胶-凝 胶法等各种薄膜制备方法。其中,磁控溅射、 一般的化学气相沉积需要在真空条件下实施,且操作复杂、设备昂贵,制备成本较高。热喷涂和溶胶-凝胶法都是 用可溶的金属化合物作为前驱体,与水或有机溶剂反应生成含氧的金属化合物, 加热分解得透明导电氧化物薄膜,特点是工艺简单,无需真空环境。基于这两种 技术,本发明提出一种更为简便易行的薄膜制备技术——喷墨印刷。喷墨印刷是在打印信号驱动下,打印头产生的墨滴经喷嘴的小孔直接喷射到 介质表面特定位置,实现字符及图形的打印。喷墨打印技术在微小液滴的产生和 定位方面有突出优势。目前喷墨打印机按打印头的工作方式可以分为压电喷墨技 术和热喷墨技术两大类型。压电喷墨技术是将许多小的压电陶瓷放置到喷墨打印 机的打印头喷嘴附近,利用脉冲电压产生的压力波驱动墨滴喷出喷嘴。用压电喷 墨技术制作的喷墨打印头对墨滴的控制能力强,容易实现高精度的打印。热喷墨 技术是在喷头的管壁上设置加热器,在电脉冲作用下,加热器上形成很小的气泡, 气泡受热膨胀产生压力驱动墨滴喷出喷嘴。所以这种喷墨打印机有时又被称为气 泡打印机。 一般打印机种配置多个喷墨系统,每个喷墨系统同装有不同颜色墨水的墨盒连接,可以打印丰富多彩的图案。喷墨印刷本是现代办公印刷中普遍采用 的主要技术之一,近年来由于其设备简单、操作简便、制备成本低等优点,也逐 渐在薄膜技术领域中有了新的应用,例如用喷墨印刷制备高分子薄膜、薄膜气敏 材料、锂离子电池的薄膜电极等。利用这种技术制备太阳电池的透明导电氧化物 薄膜有望降低电池的生产成本,关于这方面研究还未见报道。发明内容本发明的目的是提供一种制备成本低,操作简单,无需真空环境的喷墨印刷 制备TCO薄膜的方法。为了实现上述目的,本发明的技术方案是按如下步骤操作(1) 以In、 Sn、 Zn等金属基材料的可溶性化合物以及掺杂元素的可溶性化合 物为原料,将其一起溶解在水或有机溶剂中;也可分别溶解在水或有机溶剂中, 然后混合两种溶液。为使溶液性能稳定,也可加入盐酸等试剂调节溶液的酸度;(2) 加入能使化合物颗粒均匀分散的添加剂,加入量为水或有机溶剂重量的 0.01 5%,以控制墨水的粘度为10 50mPa*s,表面张力为1.0xl0"V/m 4.0xlO'4N/m之间,配制成性能稳定的金属氧化物墨水;(3) 将所述墨水注入到墨盒中,采用常规喷墨印刷技术沉积到基片上;(4) 将所述沉积到基片的薄膜置于恒温炉中,在100 60(TC;焙烧,反应形 成一定掺杂比例的TCO薄膜。另外,本发明步骤(l冲所述原料为可溶性化合物的纳米颗粒,如氯化物、硝 酸盐、醋酸盐、金属醇盐、铵盐等。氯化物包括InCl3*5H20、 SnCLr5H20、 SnCl2.2H20、 SbCl3、 ZnCl2、 A1C13、 GaCl3等,硝酸盐有In(N03)3'4.5H20、 A1(N03)3 等,醋酸盐有醋酸锌、醋酸铵、醋酸铝等,金属醇盐有锡醇、锌醇、锑醇、异丙 醇铝、异丙醇镓等,铵盐有NH4F,将其分散在水或有机溶剂中,所述原料与水 或有机溶剂的重量比为1:3 30。在制备Sn02基透明导电薄膜时,所述掺杂元素包括F、 Sb、 In、 Zn、 Al、 Mn、 Sr、 Zr、 Ge、 Ce、 Pt、 Pd、 Cd、 Nd等元素中的一种或多种。在制备ZnO基透明导电薄膜时,所述掺杂元素包括A1、 Ga、 In、 B、 N、 P、 As、 Sb、 F、 Si、 Ge、 Sn、 Y、 Sc、 Ti、 Zr、 Hf、 Tb、 Cd、 Co、 Rb、 Li、 Ni、Mn、 Fe、 Cr、 Mg、 Cu、 Ce等元素中的一种或多种。所述金属化合物基材料与掺杂元素的化合物的摩尔比为1:0.001 1。在制备 ITO透明导电膜过程中,所述铟的化合物(如InCl3、 In(N03)3等)与锡的化合物 (如SnCl4 、SnCl2等)的摩尔比为1:0.053 0.429,其中,锡的掺杂比例为5at% 30at%。本发明所述水为去离子水;所述有机溶剂可为醇类、乙酰丙酮、乙二醇甲醚 等中的一种或多种,优选无水乙醇;所述添加剂为表面活性剂;所述表面活性剂 包括阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子型表面活性剂或两性离子表 面活性剂;所述阴离子表面活性剂为硬脂酸盐,十二烷基苯磺酸钠或十二垸基硫 酸钠等;所述阳离子表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵等;所述非离子型表面 活性剂为十二烷基二乙醇胺、聚乙烯醇、脂肪酸甘油酯等。所述两性离子表面活 性剂为卵磷脂、氨基酸、甜菜碱等。本发明具有如下优点采用本发明可方便地控制TCO薄膜中掺杂元素的含量,无需真空环境,设 备简单,操作简便,成本低廉,还可制备以111203、 Sn02、 ZnO为基的多元、多 层透明导电膜。多层薄膜制备中单层膜可分别制备也可同时制备。


图1为压电式喷墨打印机镀膜示意图1一墨水室,2——电极板,3——压电晶体,4——变形后的压电晶体,5——喷嘴板,6——墨滴,7——基片图2为热喷墨打印机镀膜示意图1一墨水室,2—压力室,3——加热器,4——气泡,5——喷嘴板,6——墨滴,7——基片其中,图l为摘要附图。
具体实施方式
以下仅为本发明的较佳实施例,不能以此限定本发明的范围。即大凡依本发 明申请专利范围所作的均等变化与修饰,皆应仍属本发明专利涵盖的范围内。6实施例一制备In203:Sn薄膜按如下步骤操作1)称取15glnCl35H20和1.88gSnCLr5H20为原料,将其 溶解在100ml去离子水中;2)加入表面活性剂十二烷基二乙醇胺3.5g,以控制 墨水的粘度为35mPa s、表面张力为3.5xl(T4 N/m; 3)将所述墨水注入到墨盒 中,采用常规压电式喷墨印刷技术喷涂到热的玻璃基片上;4)将玻璃基片在恒 温炉中加热到46(TC,反应形成锡的掺杂量为10at。/。的In2O3:Sn薄膜。实施例二制备In203:Sn薄膜按如下步骤操作1)称取10glnCly5H2O和1.28gSnC1^2H20为原料,将其 溶解在100ml去离子水中;2)加入表面活性剂十六垸基三甲基溴化铵L5g,以 控制墨水的粘度为25mPa,s、表面张力为2.5><10—4 N/m; 3)将所述墨水注入到 墨盒中,采用压电式喷墨印刷技术喷涂到热的玻璃基片上;4)将玻璃基片置于 恒温炉中,加热到50(TC,反应形成锡的掺杂量为15at。/。的In203:Sn薄膜。实施例三制备In203:Sn薄膜按如下步骤操作1)称取20gIn(NO3)3A5H2O和7.87gSnCLr5H20为原料, 将In(N03)3'4.5H20溶解在100ml乙酰丙酮中,将SnCl4'5H20溶解在100ml乙二 醇甲醚中;2)将上述两种溶液混合搅拌均匀;3)加入表面活性剂十二烷基硫酸 钠2.0g,以控制墨水的粘度为20mPa,s、表面张力为2.0xl0"4 N/m; 4)将所述 墨水注入到墨盒中,采用热喷墨印刷技术喷涂到热的玻璃基片上;5)将玻璃基 片置于恒温炉中,加热到550'C,反应形成锡的掺杂量为30atn/。的In2O3:Sn薄膜。实施例四制备In203:Sn薄膜按如下步骤操作1)称取20g InCl3.5H20和7.51gSnCl4*5H20为原料,将其 溶解在100ml去离子水中;2)加入表面活性剂卵磷脂l.Og,以控制墨水的粘度7为10mPa s、表面张力为l.Oxl(T4 N/m; 3)将所述墨水注入到墨盒中,采用常 规热喷墨印刷技术喷涂到热的玻璃基片上;4)将玻璃基片置于恒温炉中,加热 到550°C ,反应形成锡的掺杂量为25atM的In203:Sn薄膜。实施例五制备Sn02:F薄膜,操作步骤如下1 )取10g SnCLr5H20和0.35gNH4F为原料,将其溶解在37.5ml去离子水中, 并加入2.5ml浓盐酸,强烈搅拌,配置成稳定的透明酸性溶液;2)加入表面活 性剂十六垸基三甲基溴化铵0.8g,以控制墨水的粘度为20mPa*s、表面张力为 2.0xl0—4 N/m; 3)将所述墨水注入到墨盒中,采用压电式喷墨印刷技术喷涂到 玻璃基片上;4)将所述沉积到基片上的薄膜在恒温炉中加热到15(TC,反应形 成掺杂量为25atW的Sn02:F薄膜。实施例六制备Sn02:Sb薄膜,操作步骤如下1)取10g SnCl2.2H20溶于50ml无水乙醇中,然后在80'C的水浴中搅拌3 小时,使其充分溶解,在溶解过程中生成HC1和锡醇;2)取0.21g SbCl3溶于 50ml无水乙醇中,也在8(TC的水浴中搅拌4小时,此反应生成HC1和锑醇;3) 将上述两种溶液充分混合搅拌4小时,再静置24小时;4)在上述混合溶液里加 入表面活性剂硬脂酸钠0.3g,以控制墨水的粘度为15mPa,s、表面张力为1.5xl0"4 N/m; 5)将所述墨水注入到墨盒中,采用常规压电式喷墨印刷技术喷涂到玻璃 基片上;6)将所述沉积到基片上的薄膜在恒温炉中加热到400'C,锡醇和锑醇 分解成对应得的氧化物,形成掺杂量为2aty。的Sn02:Sb薄膜。实施例七制备ZnO:Al薄膜按如下步骤操作1)取20g Zn(CH3COO)r2H20和UlgAl(N03)3.9H20为原 料,将其溶解在200ml去离子水中;2)加入表面活性剂十二烷基硫酸钠0.3g, 加入量为水重量的0.15%,以控制墨水的粘度为15mPa,s、表面张力为1.5xl0"4N/m; 3)将所述墨水注入到墨盒中,采用常规压电式喷墨印刷技术喷涂到玻璃 基片上;4)将所述沉积到基片上的膜层在恒温炉中加热到370°C,反应形成摻 杂量为3.14at。/。的ZnO:Al薄膜。实施例八制备ZnO:Ga薄膜按如下步骤操作1)取10gZnCl2为原料,溶于50ml无水乙醇中,然后在 6(TC的水浴中搅拌2小时,使其充分溶解,在溶解过程中生成HC1和锌醇化合 物;2)取0.3g GaCl3溶于50ml无水乙醇中,也在60。C的水浴中搅拌2小时, 此过程中生成HC1和镓醇化合物;3)将上述两种溶液充分混合搅拌4小时,再 静置24小时;4)在上述混合溶液里加入表面活性剂十六垸基三甲基溴化铵0.3g, 以控制墨水的粘度为15mPa,s、表面张力为1.5x10—4 N/m; 5)将所述墨水注入到 墨盒中,采用常规压电式喷墨印刷技术喷涂到玻璃基片上;6)将所述沉积到基 片上的膜层在恒温炉中加热到35(TC,形成惨杂量为2.27atn/。的ZnO:Ga薄膜。实施例九制备ZnO:N薄膜按如下步骤操作1)取10g Zn(CH3COO)r2H20锌和0.4g醋酸铵 CH3COONH4为原料,将其溶解在100ml去离子水中;2)加入表面活性剂十二 烷基二乙醇胺0.2g,加入量为水重量的0.2%,以控制墨水的粘度为20mPa"、表 面张力为2.0xl(T4 N/m; 3)将所述墨水注入到墨盒中,釆用常规热喷墨印刷技 术喷涂到玻璃基片上;4)将所述沉积到基片上的膜层在恒温炉中加热到370'C, 反应形成掺杂量为10atQ/。的ZnO:N薄膜。实施例十制备Sn02:(Sb、 Zn)薄膜,操作步骤如下1)取10g SnCl2.2H20溶于100ml无水乙醇中,然后在80。C的水浴中搅拌3 小时,使其充分溶解,在溶解过程中生成HC1和锡醇化合物;2)取0.32gSbCb 溶于50ml无水乙醇中,也在8(TC的水浴中搅拌4小时,此反应生成HC1和锑醇化合物;取0.19gZnCl2溶于50ml无水乙醇中,在8(TC的水浴中搅拌2小时,此 反应生成HC1和锌醇化合物3)将上述两种溶液充分混合搅拌4小时,再静置 24小时;4)在上述混合溶液里加入表面活性剂脂肪酸甘油酯0.28,以控制墨水 的粘度为10mPa,s、表面张力为1.0x10—4N/m; 5)将所述墨水注入到墨盒中,采 用常规热喷墨印刷技术喷涂到玻璃基片上;6)将所述沉积到基片上的薄膜在恒 温炉中加热到375°C,形成掺杂量为3at%Sb、 3at%Zn的Sn02基薄膜。实施例十一制备SnO^F/ZnO:Al双层薄膜,操作步骤如下1)取10g SnCl45H20和0.3gNH4F为原料,将其溶解在37.5ml去离子水中, 并加入2.5ml浓盐酸,强烈搅拌,配置成稳定的透明酸性溶液;2)加入表面活 性剂卵磷脂0.4g,以控制墨水的粘度为20mPa,s、表面张力为2.0x10—4N/m; 3) 将所述墨水注入到墨盒中,采用常规热喷墨印刷技术喷涂到玻璃基片上;4)将 所述沉积到基片上的膜层在恒温炉中加热到15(TC,反应形成Sn02:F薄膜;5) 取20g Zn(CH3COO)22H20和l.llgAl(N03)39H20为原料,将其溶解在200ml去 离子水中;6)加入表面活性剂卵磷脂0.4g,加入量为水重量的0.2%,以控制墨 水的粘度为20mPa,s、表面张力为2.0x10'4N/m; 7)将所述墨水注入到墨盒中, 采用常规热喷墨印刷技术喷涂到玻璃基片上;8)将所述沉积到基片上的膜层在 恒温炉中加热到400°C ,反应形成ZnO:Al薄膜。 实施例十二制备掺Al和Ga的ZnO薄膜按如下步骤操作1)取20gZnCl2,将其溶解在100ml无水乙醇中,置入回 流器,控制回流温度为60'C,回流时间为2小时,此过程中反应生成HC1和锌 醇化合物;2)取0.95g异丙醇铝Al(OC3H7)3和0.76g异丙醇镓Ga(OC3H7)3分别 溶于50ml无水乙醇中;3)将上述三种溶液混合,搅拌均匀,加入表面活性剂甜 菜碱0.38,加入量为有机溶剂重量的0.15%,以控制墨水的粘度为15mPa,s、表 面张力为1.5x10" N/m; 3)将所述墨水注入到墨盒中,采用常规热喷墨印刷技 术喷涂到玻璃基片上;4)将所述沉积到基片上的膜层在恒温炉中加热到35(TC, 反应形成掺杂量为A13at%、 Ga2at。/。的ZnO基薄膜。10
权利要求
1.一种喷墨印刷制备TCO薄膜的方法,其特征在于按如下步骤操作(1)以In、Sn、Zn金属基材料的可溶性化合物和掺杂元素的可溶性化合物为原料,将其溶解在水或有机溶剂中;(2)加入能使化合物颗粒均匀分散的添加剂,配制成性能稳定的透明导电氧化物墨水;(3)将墨水注入到墨盒中,采用喷墨印刷技术沉积到基片上;(4)将沉积到基片的薄膜经热处理,反应形成TCO薄膜。
2. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,原料为氯化物、硝酸盐、醋酸盐、 金属醇盐或铵盐的纳米颗粒,将其分散在水或有机溶剂中。
3. 根据权利要求2所述的方法,其特征在于,原料为InCl3*5H20、 SnCl4JH20、 SnCl2.2H20、 SbCl3、 ZnCl2、 A1C13、 GaCl3; In(N03)3.4.5H20、 A1(N03)3;醋酸锌、 醋酸铵、醋酸铝;锡醇、锌醇、锑醇、异丙醇铝、异丙醇镓;或NH4F。
4. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,In基薄膜的掺杂元素为Sn; Sn基 薄膜的掺杂元素为F、 Sb、 In、 Zn、 Al、 Mn、 Sr、 Zr、 Ge、 Ce、 Pt、 Pd、 Cd或 Nd中的一种或多种;Zn基薄膜的掺杂元素为Al、 Ga、 In、 B、 N、 P、 As、 Sb、 F、 Si、 Ge、 Sn、 Y、 Sc、 Ti、 Zr、 Hf、 Tb、 Cd、 Co、 Rb、 Li、 Ni、 Mn、 Fe、 Cr、 Mg、 Cu或Ce中的一种或多种。
5. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,水为去离子水,有机溶剂为醇类、 乙酰丙酮或乙二醇甲醚中的一种或多种。
6. 根据权利要求1 5所述的任意一种方法,其特征在于,金属基材料的化合物 与掺杂元素的化合物的摩尔比为1:0.001 1。
7. 根据权利要求1 6所述的任意一种方法,其特征在于,原料与水或有机溶剂 的重量比为1:3 30。
8. 根据权利要求1 7所述的任意一种方法,其特征在于,添加剂加入量为水或 有机溶剂重量的0.01 5%,墨水的粘度为10 50mPa,s,表面张力为 1 .Ox 10'4N/m 4.0 x 1 O^N/m 。
9. 根据权利要求1、 8所述的方法,其特征在于,添加剂为阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子型表面活性剂或两性离子表面活性剂。
10. 根据权利要求9所述的方法,其特征在于,表面活性剂选自硬脂酸盐、十二烷基苯磺酸钠或十二垸基硫酸钠;十六垸基三甲基溴化铵;十二烷基二乙醇胺、 聚乙烯醇或脂肪酸甘油酯;卵磷脂、氨基酸或甜菜碱。
11. 根据权利要求1 10所述的任意一种方法,其特征在于,采用本方法制备不 同掺杂元素的以Iffi03、 Sn02、 ZnO为基的多元素或多层透明导电膜。
全文摘要
本发明提供一种喷墨印刷制备TCO薄膜的方法,其操作步骤(1)以In、Sn、Zn金属基材料的可溶性化合物和掺杂元素的可溶性化合物为原料,将其溶解在水或有机溶剂中;(2)加入能使化合物颗粒均匀分散的添加剂,配制成性能稳定的透明导电氧化物墨水;(3)将墨水注入到墨盒中,采用喷墨印刷技术沉积到基片上;(4)将沉积到基片的薄膜经热处理,反应形成TCO薄膜。它具有不需真空环境、设备和工艺简单、制备成本低、周期短、可随意控制薄膜掺杂量等优点。
文档编号C03C17/23GK101580345SQ20091008014
公开日2009年11月18日 申请日期2009年3月24日 优先权日2009年3月24日
发明者茜 唐, 孙劲鹏, 雷志芳 申请人:新奥光伏能源有限公司
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