传送方法、传送装置、曝光方法和曝光装置的制作方法

专利名称：传送方法、传送装置、曝光方法和曝光装置的制作方法
传送方法、传送装置、曝光方法和曝光装置
背景技术：
本发明涉及一种用于传送例如柔性的、伸长膜状构件的传送技术以及使用该传送技术的曝光技术和制造技术。本发明还涉及一种使用此曝光技术和制造技术的器件制造技术。要求享有2009年6月5日提交的美国临时申请第61/213，似4号和2010年4月 29日提交的美国专利申请第12/769，965号的优先权，其全部内容通过引用并入本申请。在用于制造元件(诸如半导体元件或液晶显示器元件)的曝光装置中，典型的曝光对象传统上是具有高刚度的平板状对象，诸如涂覆有光致抗蚀剂的半导体晶片或玻璃基底。近来，为了有效率地制造具有大面积的器件，已经使用柔性的且可通过卷绕成辊形而存储的伸长膜状构件作为曝光对象。注意，在本说明书中，对于曝光而言，除了经由掩模图案和投影光学系统通过曝光的光使对象曝光的技术之外，也可以使用通过带电粒子束(诸如电子束)将预定图案绘制到对象上的技术。为了使预定图案曝光到此伸长膜状构件上，传统上，拉伸两个固定辊之间的膜状构件，并且在保持膜状构件的张力恒定的情况下，相对于辊之间的曝光区域在恒定方向上连续地移动膜状构件(参见例如日本专利申请公开第2006-098718号或对应的美国专利公开第 2006/0066715 号)。在使膜状构件曝光的传统装置中，因为拉伸膜状构件的两个辊是固定的并且膜状构件在两个辊的顶部上滑动的情况下移动，所以存在由于振动等而将会降低膜状构件的位置精度(即，在时间序列上相对于目标位置的定位精度)的可能性。由于位置精度的这种降低，存在要曝光的图案的分辨率将会降低以及套刻(overlay)曝光期间还会降低套刻精度的可能性。

发明内容
本发明的方面是鉴于上述情形而想到的，并且其目的是以高精度水平沿着目标路径传送例如柔性的、伸长膜状构件。根据本发明第一方面的传送方法是一种用于传送膜状构件的传送方法，该方法包括在沿着膜状构件的表面的移动方向上移动膜状构件；通过多个杆状构件来支撑膜状构件的多个表面位置，所述多个杆状构件的纵向方向对准与移动方向相交的方向，并且所述多个杆状构件在移动方向上排齐；以及在移动方向上，同步地移动支撑膜状构件的所述多个杆状构件。根据本发明第二方面的曝光方法是一种用于使膜状构件曝光的曝光方法，该方法包括使用根据本发明第一方面的传送方法，在移动方向上移动膜状构件；从膜状部件之中检测由杆状构件支撑的要曝光的部分上形成的对准标记；以及基于对准标记的检测结果来执行膜状构件的要曝光的部分与曝光对象的图案的对准，以及使由杆状构件支撑的且在移动方向上移动的要曝光的部分曝光。根据本发明第三方面的制造方法是一种用于将第一膜状构件和第二膜状构件粘附的制造方法，该方法包括使用根据本发明第一方面的传送方法，传送第一膜状构件；使用根据本发明第一方面的传送方法，传送第二膜状构件以使得面对第一膜状构件；从第一和第二膜状构件之中检测分别由杆状构件支撑的第一部分和第二部分上形成的对准标记； 以及基于对准标记的检测结果来执行第一和第二膜状构件的第一部分和第二部分的对准， 以及将由杆状构件支撑的且在移动方向上移动的第一部分和第二部分粘附。根据本发明第四方面的传送装置是一种传送膜状构件的传送装置，该装置包括 多个杆状构件，其纵向方向对准与沿着膜状构件的表面的移动方向相交的方向，并且所述多个杆状构件在移动方向上排齐以支撑膜状构件；以及驱动装置，其在移动方向上同步地移动所述多个杆状构件之中的支撑膜状构件的多个杆状构件。根据本发明第五方面的曝光装置是一种使膜状构件曝光的曝光装置，该装置包括根据本发明第四方面的传送装置，其传送膜状构件；标记检测系统，其从膜状构件之中检测由传送装置的杆状构件支撑的要曝光的部分上形成的对准标记；以及曝光部，其基于标记检测系统的检测结果来执行膜状构件的要曝光的部分与曝光对象的图案的对准，并且使由杆状构件支撑的且在移动方向上移动的要曝光的部分曝光。根据本发明第六方面的制造装置是一种将第一膜状构件和第二膜状构件粘附的制造装置，该装置包括根据本发明第四方面的第一传送装置，其传送第一膜状构件；根据本发明第四方面的第二传送装置，其传送第二膜状构件以使得面对第一膜状构件；标记检测系统，其从第一和第二膜状构件之中检测分别由杆状构件支撑的第一部分和第二部分上形成的对准标记；以及粘附部，其执行第一和第二膜状构件的第一部分和第二部分的对准， 并将由杆状构件支撑的且在移动方向上移动的第一部分和第二部分粘附。根据本发明第七方面的器件制造方法包括使用根据本发明第二方面的曝光方法或使用根据本发明第五方面的曝光装置，使膜状光敏基底曝光；以及在曝光之后处理膜状光敏基底。此外，根据本发明第八方面的器件制造方法包括使用根据本发明第三方面的制造方法或使用根据本发明第六方面的制造装置，将第一和第二膜状构件粘附。根据本发明的方面，因为在移动方向上移动支撑膜状构件的棒状构件，并且在移动方向上移动膜状构件，因此能够以高精度水平沿着目标路径传送例如柔性的、伸长膜状构件。


图1是示出了根据第一实施例的曝光装置的结构的透视图。图2A是示出了图1中的阶梯型平台装置的透视图。图2B是示出了阶梯型平台装置的前视图。图2C是示出了阶梯型平台装置的部分切割平面视图。图3A是示出了图2A中的阶梯型平台装置的抽吸机构的截面视图。图;3B是示出了图3A中的杆和公用管道(utility pipe)接合到一起的状态的透视图。图4A是示出了从鼓状滚动导卫(roll guide)向杆转移膜状基底的状态的透视图。
图4B是示出了图案转移区域的对准开始的状态的透视图。图4C是示出了图案转移区域的对准结束的状态的透视图。图5A是示出了图案转移区域的对准期间的膜状基底的平面视图。图5B是示出了图案转移区域的曝光期间的膜状基底的平面视图。图6A是示出了第一掩模的图案曝光期间的掩膜台的平面视图。图6B是示出了掩模的步进移动期间的掩模台的平面视图。图6C是示出了第二掩模的图案曝光期间的掩膜台的平面视图。图7是示出了第一实施例的曝光操作的示例的流程图。图8是示出了根据第一实施例的变型示例的阶梯型平台装置的平面视图。图9是示出了根据第二实施例的滚动构件镶板装置的示意结构的前视图。图10是示出了图9所示的阶梯型平台装置的结构的透视图。图11是示出了微型器件制造方法的示例的流程图。附图标记说明EX:曝光装置MA、MB:掩模MST 掩模台PL 投影光学系统PLA至PLD 部分投影光学系统P:膜状基底4 主控制单元6 基底台控制单元20 供应辊26J6A:鼓状滚动导卫28 J8A:阶梯型平台装置30A 至 30L 杆32A、32B 链36A、36B:驱动电机50 卷绕辊52A、52B:对准系统EP 滚动构件镶板装置
具体实施例方式[第一实施例]将参照图1至7来描述本发明的第一实施例。图1示出了本实施例的曝光装置(即投影曝光装置)EX的示意结构。在图1中， 曝光装置EX包括曝光光源(未示出)；照射单元IU，其通过来自曝光光源的照射光IL (即曝光的光)来照射第一掩模MA或第二掩模MB的图案的部分；掩模台MST，其例如在预定方向上交替地扫描掩模MA和MB ；以及投影光学系统PL，其将掩模MA或掩模MB的图案的部分的图像投影到膜状基底P上。注意，为了简化说明，在图1中，用双点划线来表示膜状基底P等。掩模台MST被可移动地安装在掩模底座(未示出)上，其中用于使照射光IL通过的孔径(开口)被形成在照射单元IU与投影光学系统PL之间。此外，曝光装置EX包括基底移动装置PDV，其例如在恒定方向上连续地移动膜状基底P ；以及主控制单元4，其由计算机构成并执行曝光装置EX的操作的集成控制。本实施例的膜状基底P是柔性的且可通过卷绕成辊形而存储的、由合成树脂制成的伸长片状构件(即带状构件)，并且用于例如制造显示元件等。在曝光期间将光致抗蚀剂(即光敏材料)涂覆在此膜状基底P的表面上。膜状基底P被描述为片形式是指与膜状基底P的宽度相比，其厚度足够小(即薄)以使得膜状基底P是柔性的。在以下描述中，将参考图1中设置的CTZ正交坐标系来描述构件之间的位置关系。 在该XYZ正交坐标系中，X轴和Y轴设置在水平平面上，而Z轴设置成竖直方向。在本实施例中，掩模MA和MB的图案表面平行于XY平面，并且在曝光期间将照射光IL辐射到其上的、 膜状基底P的曝光表面的部分也平行于XY平面。曝光装置EX是扫描曝光装置，并且在扫描曝光期间掩模MA和MB的移动方向(即扫描方向)平行于X轴(即X方向)，并且在投影光学系统PL的曝光区域中膜状基底P的移动方向(即扫描方向)也是X方向。首先，曝光光源(未示出)包括超高压汞灯、椭圆镜和波长选择元件。照射单元IU 包括包括光导等的光传输光学系统；以及分光光学系统，其将入射的照射光IL分成多个光通量并且然后经由光学积分器、中继光学系统、可变百叶窗(即，可变视场光阑)和聚光透镜发出每个光通量。照射光IL是从包括例如g射线(具有436nm的波长)、h射线(具有 405nm的波长)和i射线(具有365nm的波长)的波长区选择的光。照射光IL经由照射单元IU以均勻照度分布照射掩模MA(或掩模MB)的图案表面的四个照射区域18A至18D，其中照射区域18A至18D分别通过上述可变百叶窗独立地打开和关闭。照射区域18A至18D 具有这样的形状在与扫描方向正交(相交)的非扫描方向(即Y方向)上是窄的且伸长的。投影光学系统PL由四个部分投影光学系统PLA至PLD构成，四个部分投影光学系统PLA至PLD分别在膜状基底P的曝光区域18AP至18DP (参见图5B)上形成四个照射区域18A至18D内的图案的图像。部分投影光学系统PLA至PLD(由此为投影光学系统PL)的从掩模MA和MB到膜状基底P的投影放大率β是扩大放大率(其中，β > 1)。投影放大率β是例如约2倍至5倍。本实施例的部分投影光学系统PLA至PLD被支撑在框架结构 (未示出)上。此外，部分投影光学系统PLA至PLD形成中间图像，并在膜基底P上形成照射区域18Α至18D内的图案的正像。部分投影光学系统PLA至PLD可以在X方向和/或Y 方向上形成倒像。此外，例如可使用用于部分投影光学系统PLA至PLD的折射系统(折光系统)或折反射系统。 此外，在四个部分投影光学系统PLA至PLD之中，在Y方向上将两个部分投影光学系统PLA和PLC布置成一行，而另两个部分投影光学系统PLB和PLD被布置在从部分投影光学系统PLA和PLC在+X方向和+Y方向上对角地偏移的位置处。
图6A是示出了图1中的掩模台MST的平面视图。在图6A中，在第一掩模MA的图案区域中在Y方向上以预定间隔形成四行部分图案区域MAl至MA4，并且在第二掩模MB的图案区域中在Y方向上以预定间隔形成四行部分图案区域MBl至MB4。要转移到膜状基底 P上的一个图案转移区域的图案减小至1/β (其中，β是投影放大率)，并且在Y方向上被划分成四个部分的其部分图案被分别形成在第一掩模MA的部分图案区域MAl至MA4以及第二掩模MB的部分图案区域MBl至MB4中。例如，两个二维对准标记(未示出)分别形成在掩模MA和MB的部分图案区域MAl至MA4和MBl至MB4的X方向上的端部附近。掩模MA 和MB的对准通过使用掩模对准系统(未示出)检测这些对准标记来执行。此外，在掩模MA(或MB)的曝光期间，掩模MA(或MB)的部分图案区域MAl和 MA3 (或MBl和MB； )的图案的图像通过部分投影光学系统PLA和PLC形成在膜状基底P上， 并且掩模MA(或MB)的部分图案区域MA2和MA4(或MB2和MB4)的图案的图像通过部分投影光学系统PLB和PLD形成在膜状基底P上。在此情况下，两个部分图案区域MAl和MA3 (或 MBl和MB3)以及两个部分图案区域MA2和MA4(或MB2和MB4)的位置在X方向上相互偏移，以使得掩模MA (或MB)的部分图案区域MAl至MA4(或MBl至MB4)的图像被形成在膜状基底P上的X方向上的相同位置处。此外，为了减小拼接误差(接合误差)，优选地，在部分图案区域MAl至MA4和MBl 至MB4的边界部分中执行两次曝光。由此，照射区域18A至18D被形成为其两端(或一端) 倾斜的梯形形状。在图1中，掩模台MST包括第一台10A，其保持和移动第一掩模MA;第二台10B， 其保持和移动第二掩模MB ；矩形框架12，在矩形框架12中台IOA和IOB可以平行地移动； 一对线性电机14A1和14A2(在图1中，仅示出了其转子)，其相对于框架12在X方向上驱动台IOA ；—对线性电机14B1和14B2(在图1中，仅示出了其转子)，其相对于框架12在X 方向上驱动台IOB ；以及一对线性电机16A和16B (在图1中，仅示出了其定子)，其相对于掩模底座(未示出)在Y方向上驱动框架12。在这种情况下，通过控制线性电机14A1和 14A2(或14B1和14B2)的驱动量，还可以围绕平行于Z轴的轴在预定范围内(在下文中，被称作θ ζ方向)旋转掩模MA(或MB)。此外，至少包括台IOA和IOB (即掩模MA和iffi)的X方向和Y方向上的位置和θ z 方向上的旋转角的位置信息、以及框架12在Y方向上的位置信息通过两组用于X轴的两轴激光干涉仪(未示出)以及通过用于Y轴的三轴激光干涉仪(未示出)而分别测量。测量值被提供给主控制单元4和掩模台控制单元8。掩模台控制单元8基于来自主控制单元4 的控制信息和这些测量值来驱动线性电机16A、16B、14A1、14A2、14B1和14B2，以控制框架 12在Y方向上的位置、以及台IOA和IOB (即掩模MA和MB)在X方向和Y方向上的位置和速度，还有其在θ ζ方向上的旋转角。此外，基底移动装置PDV包括供应辊20，其将在+X方向上为片形式的膜状基底P 退卷；辊22，其将膜状基底P的方向改变为-Z方向；气导Μ，其将压缩空气吹到膜状基底P 以无接触地将膜状基底P的方向改变为对角(倾斜)向上方向；鼓状滚动导卫26，其例如由金属制成并形成为轴对称形状以使得其在纵向方向(即Y方向)上的两个端部比中央部分宽，并且其将越过它的膜状基底P的方向改变为基本+X方向；阶梯型平台装置观，其使用抽吸以保持(抽吸保持)膜状基底P并在+X方向上连续地移动它；以及卷绕辊50，将膜状基底P卷绕到卷绕辊50。在此情况下，供应辊20、辊22和鼓状滚动导卫沈可旋转地支撑在预定基底侧框架(未示出)上。气导M被支撑为使得例如可以调整其相对于基底侧框架的在Z方向上的位置以保持膜状基底P的张力基本恒定。此外，卷绕辊50通过驱动电机(未示出)被驱动以进行旋转，并且此驱动电机通过基底台控制单元6来控制。
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阶梯型平台装置观包括第一链32A，其形成平行于)(Z平面的椭圆(卵形)环； 第二链32B，其形成环，该环好像是第一链32A在Y方向上平行移动了预定间隔(距离)而成形的；多个(这里使用12作为示例)柱状杆30A至30L，其例如由金属制成并且分别与Y 方向基本平行，并且其在Y方向上链接第一链32A和第二链32B ；驱动电机36A和36B (参见图2C)，其在同一方向(即其顶部在+X方向上移动的方向)上、以基本相同的速度同步地驱动链32A和32B ；以及驱动部38A，其在Y方向上驱动集体地作为整体的链32A和32B在+X 方向上的端部。基底台控制单元6基于来自主控制单元4的控制信息来控制驱动电机36A 和36B以及驱动部38A的操作。在杆30A至30L之中，顺序相邻的两个杆30A和30B、杆30C和30D、杆30E和30F、 杆30G和30H、杆301和30J、以及杆30K和30L之间的间隔(空间)与膜状基底P上的一个图案转移区域在X方向上的长度相同。这些两个杆之间的间隔与膜状基底P上的两个相邻图案转移区域之间的区域(即空区域)的长度(这里，例如在图案转移区域在X方向上的长度的大约一半与略小部分之间)相同。此外，在膜状基底P中，具有对应于两个相邻图案转移区域以及它们之间的空的空间的、X方向上的长度的部分始终基本上由杆30A至30L 中的任意四个来支撑，并在+X方向上传送。此外，在与膜状基底P接触的杆30A至30L中的每个的接触部分中，以在Y方向上延伸的行形成用于真空抽吸的多个抽吸孔31。杆30A至30L的抽吸孔31经由具有柔性和弹性的管(未示出)以及被安置为横穿链32A和32B的中心的公用管道40而连接到真空泵(未示出)。注意，还可以在Y方向上形成窄的、伸长的抽吸凹槽，来替代多个抽吸孔31。图2A是示出了图1所示的阶梯型平台装置观的示意结构的透视图。图2B是示出了阶梯型平台装置观的前视图，图2C是示出了阶梯型平台装置观的平面视图。如在图 2C中所示，在链32A中，大量的内板32Ab以及与这些内板对应的大量的外板32Aa通过销钉32Ac而交替链接。链32B的结构与链32A的结构相同。杆30A至30L被设置为将例如链32A的预定销钉32Ac以及在+Y方向上从其面对销钉32Ac的链32B的销钉接合在一起， 并且还被设置为不旋转。杆30A至30L的两个端部的直径被形成为小于膜状基底P通过的部分的直径。注意，还可使用具有半圆形截面等的非轴对称构件(构件)来替代杆30A至 30L，并且所述构件的圆弧形表面与膜状基底P接触。此外，具有彼此完全相同的形状且能够围绕平行于Y轴的轴旋转的链轮34A1和 34B1与链32A和32B在+X方向上的端部啮合。此外，具有彼此完全相同的形状且能够围绕平行于Y轴的轴旋转的链轮34A2和34B2与链32A和32B在-X方向上的端部啮合。链轮 34A1和34B1在+X方向上的旋转轴分别经由轴承35而被U形第一底座构件33A支撑。此外，链轮34A2和34B2在-X方向上的旋转轴分别经由轴承35而被U形第二底座构件3 支撑。第一底座构件33A通过驱动部38A和偏置部(激励部)38B被支撑在基底侧框架(未示出)上，以使得其能够在Y方向上在预定范围内移动。第二底座构件3 和公用管道40 被支撑在基底侧框架上。具有相同形状的用于驱动的齿轮37A和37B被固定到链轮34A1和34B1在+X方向侧的旋转轴。具有相同形状的驱动电机36A和36B的齿轮与齿轮37A和37B啮合。旋转编码器37AR和37BR(参见图3B)安装在齿轮37A和37B中。基于由旋转编码器37AR和37BR 检测到的链轮34A1和34B1的旋转角信息，基底台控制单元6控制驱动电机36A和36B的旋转角和旋转速度。此外，线性编码器38AL(参见图3B)安装在第一底座构件33A中。基于由线性编码器38AL检测到的第一底座构件33A在Y方向上的位置信息，基底台控制单元 6控制驱动部38A的驱动量。根据此配置，作为以相同旋转速度同步地驱动驱动电机36A和36B的结果，链轮 34A1和34B1以相同旋转速度旋转，并且抽吸保持膜状基底P的杆(即杆30A至30L中的一些)以及链32A和32B在+方向上以相同的速度移动。此外，通过稍微改变驱动电机36A和 36B的驱动量，改变链32A和32B在X方向上的相对位置，并且可以控制链上的膜状基底P 在θ ζ方向上的旋转角。此外，作为链轮34Α1和34Β1经由第一底部构件33Α被驱动部38Α 在Y方向上位移的结果，可以控制链轮34Α1和34Β1之间的膜状基底P在Y方向上的位置。由旋转编码器37AR和37BR检测到的链轮34Α1和34Β1的旋转角以及由链32Α和 32Β保持的每个杆30Α至30L的位置之间的关系被存储在基底台控制单元6的存储部之中。此外，如图2Α所示，在-Y方向上支撑两个链轮34Α1和34Α2之间的链32Α的引导构件70Α以及在+Y方向上支撑两个链轮34Β1和34Β2之间的链32Β的引导构件70Β被支撑在基底侧框架(未示出)上。结果，防止从链轮34Α2和34Β2向链轮34Α1和34Β1延伸的链32Α和32Β的部分(S卩，杆30Α至30L)在-Z方向上下跌，并且由杆30Α至30L支撑的膜状基底P沿着XY平面在+X方向上移动。图3Α是示出了设置在图2Α所示的杆30Α至30L中的抽吸孔31被接合到公用管道40的状态的截面视图。图:3Β是示出了图3Α所示的一个杆30Α被接合到公用管道40的状态的透视图。如图3Β所示，公用管道40具有圆柱状，并且气孔40a形成在公用管道40 在-Y方向上的端部内。气孔40a经由管42接合到真空泵43，并且围绕公用管道40的端部内的气孔40a的部分通过密封机构(未示出)被制成气密的。此外，与气孔40a连通的大量小的气孔40b形成在公用管道40在-Y方向上的端部的表面中。此外，可围绕公用管道40的外表面(外部)旋转的第一旋转构件41被定位为覆盖公用管道40的大量通孔40b。第一旋转构件41在Y方向上的两个端部与公用管道40的外表面之间的部分例如通过磁性流体轴承来密封。公用管道40的外表面上的第一旋转构件41在Y方向上的位置通过两个E环45被固定。杆30A的表面中的多个抽吸孔31被接合到杆30A内的排出孔，并且沿着排出孔部分地设置开关阀44V。排出孔经由具有柔性和弹性的管44被接合到第一旋转构件41的外表面中的气孔41a。气孔41a经由公用管道40中的气孔40b和40a以及管42而与真空泵43连通。开关阀44V在第一状态与第二状态之间切换，在第一状态下，杆30A的抽吸孔31连接到公用管道40的气孔40b，而在第二状态下， 杆30A的抽吸孔31对大气开放。以相同的方式，图3A中的其它杆30B至30L的多个抽吸孔31也经由具有柔性和弹性且分别设置开关阀44V的管44、第一旋转构件41的气孔41a、公用管道40的气孔40b 和40a以及管42而与真空泵43连通。在图;3B中，正电极部分46A和负电极部分46B形成在公用管道40在+Y方向上的端部的外表面上。电极部分46A和46B经由公用管道40中的内引线连接到外部电源47的正电极和负电极。可围绕公用管道40的外表面旋转的第二旋转构件48被安置为覆盖电极部分46A和46B。公用管道40的外表面上的第二旋转构件48在Y方向上的位置也通过两个E环45来固定。第一旋转构件41和第二旋转构件48通过链接(连接)构件(未示出)而链接(连接)到一起，并且围绕公用管道40彼此联合地旋转。此外，平面电极板49A和49B被固定到切入第二旋转构件48的中央部分的半圆形圆柱状缺口部分以在电极部分46A和46B上恒定地滑动，并且接收部56被固定到第二旋转构件48的外表面。经由电极板49A和49B将电力恒定地(连续电力)提供给接收部56。 基底台控制单元6向发送部39发布关于各定时的命令以在由杆30A至30L的抽吸孔31进行的抽吸的开始(即第一状态)与释放(即第二状态)之间切换。据此，发送部39经由无线电波或红外线等向接收部56无线地发送指示切换定时的信号。根据这些信号，接收部56 在杆30A至30L分别支撑膜状基底P之前即刻将对应的开关阀44V设置成第一状态(即由抽吸孔31执行真空抽吸的状态)，并且在杆30A至30L分别从膜状基底P移开(分离)之前即刻将对应的开关阀44V设置成第二状态(即抽吸孔31的内部对大气压开放的状态)。通过提供第一旋转构件41和第二旋转构件48以使得它们能够以上述方式围绕公用管道40的外表面旋转，将来自真空泵43的负压强提供给始终在恒定方向(这里为顺时针方向)上围绕公用管道40旋转的杆30A至30L，并且还向接收部56提供电力。在图1中，将光致抗蚀剂涂覆在膜状基底P上的抗蚀剂涂覆机M被安置在供应辊 20与辊22之间的膜状基底P之上。此外，对准系统52A和52B位于在投影光学系统PL与鼓状滚动导卫26之间被支撑在阶梯型平台装置观上的膜状基底P在-X方向上的端部之上。对准系统52A和52B应用例如图像处理，并在Y方向上以预定间隔检测膜状基底P上的对准标记的位置。将来自对准系统52A和52B的检测结果提供给主控制单元4内的对准控制部。例如可以通过安装参考构件(未示出)以使得它们从对准系统52A和52B的检测区域向投影光学系统PL的投影区域延伸，来测量对准系统52A和52B的中心与由投影光学系统PL形成的掩模MA和MB上的图案的图像的中心之间的位置关系(即基线)，其中参考构件在X方向上是伸长的并且具有例如多个参考标记，已知多个参考标记的位置关系。关于这些位置关系的信息可被存储在主控制单元4内的对准控制部中。图5A是示出了由图1所示的阶梯型平台装置观支撑的膜状基底P的部分的平面视图。在图5A中，在膜状基底P上，在X方向上以预定间隔形成大量图案转移区域60A、 60B、60C、...。分别以与对准系统52A和52B在Y方向上的间隔相同的间隔，在图案转移区域60A等的每个中的两个位置中形成对准标记PMA至PMD。在这种情况下，在+X方向上从对准系统52A和52B的检测区域开始延伸了与图案转移区域的长度基本相同的距离(长度)的区域形成对准区域58A。在+X方向上从投影光学系统PL的曝光区域开始延伸了与图案转移区域的长度基本相同的距离的区域形成曝光区域58E。在对准区域58A与曝光区域58E之间的区域形成中间区域58S。在本实施例中，基本通过对准区域58A、中间区域58S 和曝光区域58E的膜状基底P的部分由阶梯型平台装置28的杆30A至30L中的一些借助抽吸来支撑，并且在+X方向上连续地移动。在下文中，将参照图7的流程图来描述当使用本实施例的曝光装置EX使一卷膜状基底P曝光时执行的操作的示例。此曝光操作由主控制单元4控制。此时，假定掩模MA和 MB加载到图1中的第一掩模台MST的台IOA和IOB上，并且其对准已经完成。首先，在图7中的步骤101，具有片形式的一卷膜状基底P附接到图1所示的供应辊20。在此阶段，光致抗蚀剂未涂覆到膜状基底P上。注意，对准标记PMA至PMD在执行的制造过程中已分别形成在(附着于)膜状基底P上的图案转移区域60A等的序列上。膜状基底P的远端部经由辊22、气导M、鼓状滚动导卫沈和阶梯型平台装置观的顶表面向卷绕辊50转移。在下一步骤102，开始由卷绕辊50在+X方向上卷绕膜状基底P，并且开始由阶梯型平台装置观在+X方向上移动膜状基底P。注意，膜状基底P在+X方向上的移动速度通过阶梯型平台装置观来调节。卷绕辊50的卷绕速度被设置为使得阶梯型平台装置 28与卷绕辊50之间的膜状基底P的下跌包含在预定范围之内。在下一步骤103，开始由抗蚀剂涂覆机M将光致抗蚀剂涂覆在膜状基底P上。以下操作与杆30A至30L之中的每个第四杆有关，即阶梯平台装置28的杆30A、 30E和301，还可针对其它杆30B至30D、30F至30H和30J至30L按照顺序执行相同类型的操作。即，在下一步骤104，如图4A中的箭头Al所示，已经释放了由抽吸孔31进行的抽吸的杆30A对角向上提升，当它到达阶梯平台装置观的顶表面在-X方向上的端部处的位置 Bl时，膜状基底P从鼓状滚动导卫沈转移到杆30A。基本上与此同时地，与杆30A的抽吸孔31连通的管44的开关阀44V通过图;3B中的基底台控制单元6、发送部39和接收部56 被设置成第一状态，并且开始由杆30A中的抽吸孔31对膜状基底P的抽吸。此时，如图4A所示，因为鼓状滚动导卫沈的中央部分窄，所以膜状基底P在其中央位置PC在-Z方向上定位为较低的情形下被转移到杆30A。结果，由杆30A进行的膜状基底P的抽吸从中央部分PC开始，并逐渐移向其两个端部。因此，不存在膜状基底P的扭曲等，并且由杆30A稳定地吸住和保持膜状基底P，其中杆30A中保持高平坦度。结果，能够以高精度水平执行后续对准和曝光。在下一步骤105，由阶梯平台装置观在+X方向上以预定移动速度(即扫描速度) 移动吸住膜状基底P的杆30A。接着，在步骤106，如图4B所示，当杆30A通过对准系统52A 和52B的检测区域时，由对准系统52A和52B检测图5A所示的膜状基底P上的图案转移区域60C中的对准标记PMA和PMB的位置。当杆30A在+X方向上进一步移动时，下一个杆 30B到达位置Bl并且杆30B也通过抽吸来支撑膜状基底P。此后，当杆30A和30B到达图 4C所示的位置时，由对准系统52A和52B检测膜状基底P上的图案转移区域60C中的对准标记PMC和PMD的位置，并且杆30A和杆30B稳定地支撑图案转移区域60C的两个端部。将对准标记PMA至PMD的位置的检测结果提供给主控制单元4内的对准控制部。对准控制部根据这些检测结果来确定图案转移区域60C的目标位置的在X方向和Y方向上的位置偏移量(AXC，AYC)以及θ ζ方向上的旋转角偏移量Δ θ zc，并将位置偏移量和旋转角偏移量提供给主控制单元4内的台控制部。基于位置偏移量(A)(C，AYC)和旋转角偏移量Δ θ zc,台控制部经由掩模台控制单元8和基底台控制单元6来驱动掩模台MST和阶梯型平台装置观，使得掩模MA的图案图像准确地套刻和曝光到膜状基底P的图案转移区域60C上。S卩，在下一步骤107，如图6A 所示，与图案转移区域60的四个部分区域的移动操作同步地执行部分图案区域MAl至MA4 的移动操作，使得掩模MA的图案图像被扫描曝光到图案转移区域60C上。在部分图案区域 MAl至MA4的移动操作中，关于投影光学系统PL的部分投影光学系统PLA至PLD的照射区域18A至18D，在由箭头A6所示的+X方向上以速度VM移动掩模MA的部分图案区域MAl至 MA4。在图案转移区域60的四个部分区域的移动操作中，如图5B所示，关于部分投影光学系统PLA至PLD的曝光区域18AP至18DP，在+X方向上以速度VM· β (其中β是投影光学系统PL的投影放大率)移动膜状基底P的图案转移区域60的四个部分区域。此时，例如，由于移动掩模MA以使得补偿上述位置偏移量(A)(C，AYC)和旋转角偏移量Δ θ zc，因而掩模MA的位置和旋转角被校正。注意，还可通过阶梯型平台装置28移动杆30Α至30L的移动速度、通过控制链32Α 和32Β的移动速度的平衡、以及通过驱动部38Α来校正膜状基底P的图案转移区域60C侧的这些位置偏移量和旋转角偏移量。此外，在图6Α中，当掩模MA经由第一台IOA在+X方向上移动时，如由箭头Α7所示掩模MB在-X方向上在第二台IOB侧上移动。在此扫描曝光期间，当杆30Α的位置到达曝光区域58Ε在+X方向上的端部的位置 Β2时，在步骤108，与杆30Α的抽吸孔31连通的管44的开关阀44V被设置成第二状态，并且释放由杆30Α的抽吸孔31对膜状基底P的抽吸。然后由阶梯型平台装置观将杆30Α对角向下地从膜状基底P移开。当下一个杆30Β随后到达位置Β2时，到图案转移区域60C的扫描曝光结束。此时，如图6Β所示，在掩模台MST侧，整个框架12在箭头Α8所示的-Y方向上移动，并且第二台IOB上的掩模MB移动到投影光学系统PL的照射区域的扫描开始位置。接着，如图6C所示，在到膜状基底P的下一图案转移区域60D的扫描曝光期间，通过在由箭头 Α9所示的+X方向上向投影光学系统PL的照射区域18Α至18D移动部分图案区域MBl至 ΜΒ4，掩模MB的图案图像曝光到图案转移区域60D。此时，因为掩模MA在由箭头AlO所示的-X方向上移动，通过在由箭头All所示的+Y方向上移动框架12，随后可将掩模MA上的图案图像曝光到下一图案转移区域。以这种方式，通过将掩模MA和MB的图案图像交替地曝光到膜状基底P上的相邻图案转移区域，可有效率地执行到膜状基底P的曝光，同时在相同方向(即+X方向)上连续地移动膜状基底P并且还缩短相邻图案转移区域之间的空区域。此外，在图案转移区域60C的扫描曝光期间，执行由图5B所示的杆30C和30D支撑的膜状基底P上的下一图案转移区域60D的对准。在下一步骤109，关于膜状基底P的曝光是否结束来执行确定。如果曝光尚未结束，针对杆30E、30I和30A等顺序地重复步骤104至108的操作，并且针对膜状基底P的下一图案转移区域60E等重复对准和扫描曝光。如果在步骤109确定膜状基底P的曝光已结束，则操作移至步骤110，并且由主控制单元4停止抗蚀剂涂覆机M和阶梯型平台装置观的操作，并将膜状基底P卷绕到卷绕辊50。将卷绕的膜状基底P例如传送到显影装置(未示出)并使其显影。以这种方式，根据本实施例的曝光装置EX，可有效率地涂覆光致抗蚀剂以及将掩模图案的图像曝光到一卷膜状基底P上。以下为本实施例的操作和效果。(1)在本实施例中，传送膜状基底P的基底移动装置PDV包括用于支撑膜状基底P 的阶梯型平台装置28。此外，阶梯型平台装置28包括多个杆30A至30L、以及驱动机构，该驱动机构在+X方向上同步地移动杆30A至30L之中的支撑膜状基底P的多个杆。多个杆 30A至30L被布置为使得其纵向方向在与+X方向(其中+X方向是沿着膜状基底P的表面的移动方向)正交(相交)的Y方向上延伸，并且使得它们在移动方向上平行地排齐。此外，用于由基底移动装置PDV传送膜状基底P的方法包括步骤102，其中使膜状基底P在+X方向上移动；步骤104，其中由多个杆30A至30L之中的多个杆支撑膜状基底P的多个表面位置；以及步骤105和106，其中在+X方向上同步地移动支撑膜状基底P的此多个杆。根据本实施例，通过在移动方向上移动杆30A至30L之中的支撑膜状基底P的多个杆来移动膜状基底P。因此，由于在膜状基底P与支撑它的构件之间基本无相对移动，所以能够沿着目标传送路径以高精度水平传送柔性的、伸长膜状基底P。(2)此外，基底移动装置PDV包括在+X方向上移动膜状基底P的卷绕辊50。此外， 阶梯型平台装置28包括一对链32A和32B、以及驱动电机36A和36B。这对链32A和32B 沿着包括位置Bl和位置B2的环形轨迹将杆30A至30L接合到一起，其中，在位置Bl处，杆 30A至30L支撑膜状基底P，位置B2位于位置Bl的下游并且是杆30A至30L从膜状基底P 移开(分离)的位置。驱动电机36A和36B通过使驱动链32A和32B的链轮34A1和34A2 旋转，经由链32A和32B沿着环形轨迹移动杆30A至30L。通过使用该阶梯型平台装置观，可借助于沿该闭环在恒定方向上移动杆30A至 30L的简单结构而在移动方向上稳定地移动膜状基底P。因此，即使膜状基底P是柔性的、伸长片状光敏对象(即带状构件)，也可以有效率地执行到膜状基底P上的一系列图案形成区域的曝光，同时在恒定方向上连续地移动膜状
基底Po(3)此外，基底移动装置PDV包括可旋转鼓状滚动导卫沈，其纵向方向在Y方向上延伸并且其两个端部被形成为比其中央部分更宽的杆形状，并且可旋转鼓状滚动导卫沈被用于使膜状基底P的传送路径弯曲以及将膜状基底P转移到杆30A至30L中的位于位置 Bl处的杆。即，鼓状滚动导卫沈被布置为使得其纵向方向平行于杆30A至30L。此外，在步骤104，膜状基底P经由鼓状滚动导卫沈转移到杆30A至30L中的位于位置Bl处的杆。因此，由于初始在杆的中央部分处以及随后逐渐向外朝向杆的两个端部， 将膜状基底P支撑在杆上，所以当转移膜状基底P时膜状基底P中不存在扭曲。(4)当由例如多个杆30A至30L之中的至少两个杆30A和30B来支撑膜状基底P 时，可以设置间隔调整机构，其调整支撑膜状基底P的两个杆30A和30B之间的X方向上的间隔。例如，在图2C中，该间隔调整机构被设置在支撑杆30A的链32A和32B的部分中， 并且可以由在士X方向上移动杆30A的驱动元件(即压电元件等)构成。存在如下情况 通过使用该间隔调整机构展宽杆30A和30B之间的间隔，可防止由杆30A和30B通过抽吸而保持的膜状基底P的部分向下下跌。此外，阶梯型平台装置28始终使用例如杆30A至30L之中的四个杆来支撑膜状基底P。然而，也可使用更多数目的杆支撑膜状基底P。此外，也可以仅使用杆30A至30L之中的两个杆支撑膜状基底P。注意，阶梯型平台装置28的杆30A至30L的数目是可选的。例如，也可仅提供在环形轨迹中移动的三个杆，以及使用这些杆中的两个来支撑膜状基底P并在+X方向上传送膜状基底P。(5)此外，阶梯型平台装置28包括具有抽吸孔31的抽吸机构、配备有开关阀44V 的管44、公用管道40、以及真空泵43，以便在杆30A至30L支撑膜状基底P的时段内将膜状基底P真空抽吸到杆30A至30L中的每个上。因此，膜状基底P可以由杆30A至30L稳定地支撑。注意，也可以使用例如静电抽吸将膜状基底P吸到杆30A至30L上。(6)本实施例的曝光装置EX是一种使膜状基底P曝光的曝光装置，并包括基底移动装置PDV，其用于传送膜状基底P ；对准系统52A和52B，其检测由杆30A至30L支撑的膜状基底P的图案转移区域上形成的对准标记PMA至PMD ；以及包括投影光学系统PL的曝光部，投影光学系统PL基于来自对准系统52A和52B的检测结果，将膜状基底P的图案转移区域的位置与掩模MA(或MB)的图案图像的位置对准，并使由杆30A至30L支撑的且在 +X方向上移动的图案转移区域曝光。此外，由曝光装置EX执行的曝光方法包括步骤105，其中使用由基底移动装置 PDV执行的传送方法，在+X方向上移动膜状基底P ；步骤106，其中检测由杆30A至30L支撑的膜状基底P的图案转移区域上形成的对准标记PMA至PMD ；以及步骤107，其中基于对准标记的检测结果，将图案转移区域和掩模MA(或MB)的图案图像的位置对准，并且使由杆 30A至30L支撑的且在+X方向上移动的图案转移区域曝光。根据曝光装置EX或其曝光方法，由于能够沿着目标路径以高精度水平移动膜状基底P，所以能够以高精度水平以及高套刻精度水平将掩模MA和MB的图案图像曝光到膜状基底P上的每个图案转移区域上。注意，在本实施例中以下变型是可能的。(1)如图5A所示，在上述实施例中，窄中间区域58S被设置在对准区域58A与曝光区域58E之间。与之相比，如通过图8所示的包括杆30A等的阶梯型平台装置28B所示出的，也可以在对准区域58A (其端部对应于对准系统52A和52B的检测区域)与曝光区域58A (其端部对应于投影光学系统PL的曝光区域)之间设置具有与曝光区域58E基本相同的长度的备用区域58W。在这种情况下，支撑膜状基底P的阶梯型平台装置^B的部分的长度比阶梯型平台装置观长。然而，可以在膜状基底P的要曝光的图案转移区域60B和60C等通过备用区域58W的同时校正位置偏移等。因此，可以使膜状基底P上的各个图案转移区域60B 和60C等之间的间隔变窄。(2)接着，投影光学系统PL由四个部分投影光学系统PLA至PLD构成。然而，部分投影光学系统PLA至PLD的数目和放置是可选的。此外，投影光学系统PL还可以由单个投影光学系统构成。投影光学系统PL的投影放大率也可以是等同放大率或缩小放大率。此外，投影光学系统PL将掩模MA和MB的图案的图像投影到膜状基底P。然而，替代掩模MA和MB，还可以由投影光学系统PL将液晶板或数字镜器件(DMD)等上形成的可变图案的图像形成在膜状基底P上。在这种情况下，膜状基底P上的两个相邻图案转移区域之间的间隔可以减小到最小可能。 此外，替代投影光学系统PL，还可以使用电子束绘制装置在膜状基底P上绘制图案。(3)此外，在上述实施例中，在+X方向上连续地移动膜状基底P。然而，也可以断续地移动膜状基底P。在这种情况下，例如当由对准系统52A和52B检测膜状基底P上的对准标记的位置时，停止膜状基底P，而在其它时间处，在+X方向上连续地移动膜状基底P。(4)此外，膜状基底P的移动速度不是绝对必须为恒定速度，并且例如曝光期间的膜状基底P的移动速度还可以与其它时间处的移动速度不同。阶梯型平台装置观借助链32A和32B将杆30A至30L接合到一起。然而，例如， 也可以通过诸如工程机械等中使用的履带型机构来支撑杆30A至30L并在恒定方向上移动杆 30A 至 30L。此外，在上述实施例中，由杆30A至30L支撑膜状基底P上的各图案转移区域60A 等在X方向上的两个端部。然而，还可以通过在X方向上以相等间隔安置的大量杆来支撑包括一个或多个图案转移区域的膜状基底P的部分并且在X方向上移动它。(6)在图1所示的基底移动装置PDV中，替代鼓状滚动导卫沈，还可以使用可旋转圆柱状辊。此外，在这种情况下，还可以提供使杆30A等的中央部分变形(即弯曲)并朝向膜状基底P向外突出的机构，其中杆30A等是到达位置Bl的杆(参见图4A)，位置Bl是将膜状基底P转移到阶梯型平台装置观的转移位置。由此，以与使用鼓状滚动导卫26时相同的方式，初始从杆30A的中央部分、以及随后逐渐向外朝向两个端部将膜状基底P吸到杆 30A上，使得膜状基底P在没有任何扭曲等的情况下转移到杆30A。(7)此外，还可以在图1所示的阶梯型平台装置观与卷绕辊50之间安置显影装置，并且在将膜状基底P卷绕到卷绕辊50之前使膜状基底P上的光致抗蚀剂显影。[第二实施例]接着，将参照图9和10来描述本发明的第二实施例。在本实施例中，将本发明应用于滚动构件镶板装置EP，滚动构件镶板装置EP将片状(带状)柔性滤色器CF和作为片状柔性TFT(薄膜晶体管)基底的TFT基底TP连续地粘附。在图9和10中，对于与图1至 3B中的部分对应的部分使用相同或相似的标记，并省略其详细描述。图9示出了本实施例的滚动构件镶板装置EP，而图10示出了图9所示的阶梯型平台装置观和28k的结构。注意，图10所示的Z方向上的阶梯型平台装置观和28A之间的间隙(间隔)比实际间隙大。此外，在图9中，Z方向上的阶梯型平台装置观和28々之间的间隙被设置为这样的间隙通过该间隙位于阶梯型平台装置观和28A之间的滤色器CF 和TFT基底TP几乎相互接触。在图9中，滚动构件镶板装置EP包括第一移动装置，其在+X方向上连续地移动滤色器CF ；第二移动装置，其在+X方向上连续地移动TFT基底TP，使得它面对滤色器CF ； 粘附剂涂敷装置64，其将例如热固性粘附剂LQ涂敷到滤色器CF ；对准系统52A和52B，其检测滤色器CF的各器件区域中形成的对准标记(未示出)的位置；对准系统52C和52D， 其检测TFT基底TP的各器件区域中形成的对准标记(未示出)的位置；加热装置71，其发出红外线等以固化粘附剂LQ;以及切割装置68和支撑底座66，其切割(切掉)对应于相互粘附的滤色器CF和TFT基底TP的一个器件区域的部分。该第一移动装置包括供应辊20，其供应滤色器CF ；辊22，其改变滤色器CF的方向；气导M，其控制滤色器CF的张力；阶梯型平台装置观，其通过抽吸来保持滤色器CF并在+X方向上移动它；以及鼓状滚动导卫26，其将滤色器CF从气导M转移到阶梯型平台装置观。如图10所示，阶梯型平台装置观的结构与第一实施例(图1)中的相同，并且其操作由第一台控制单元6A来控制。第二移动装置包括供应辊20A，其供应TFT基底TP ；辊22A，其改变TFT基底TP 的方向；阶梯型平台装置^A，其通过抽吸来保持TFT基底TP并在+X方向上移动它；以及鼓状滚动导卫26A，其将TFT基底TP从辊22A转移到阶梯型平台基底^A。鼓状滚动导卫 26A的形状与鼓状滚动导卫沈的形状相同。注意，存在TFT基底TP在-Z方向上向下下跌的趋势。然而，因为它由滤色器CF支撑，所以其中的松弛度是极小的。为了更进一步地减小此松弛度，还可以例如在辊22k与鼓状滚动导卫26A之间安置用于张力调整的气导等。如图10所示，以与阶梯型平台装置观相同的方式，在阶梯型平台装置^A中，多个(这里为12个)杆62A至62L(在杆62A至62L的每个中形成抽吸孔31A)被接合在两个链32C与32D之间，并且通过驱动电机36C和36D (未示出36D)使链32C和32D旋转，在 +X方向上移动杆62A至62L之中的、通过从其顶表面侧抽吸来保持TFT基底TP的多个杆。 然而，由于用于Y方向上的位置调整的驱动部38A被设置在阶梯型平台装置观侧，因此不需要在阶梯型平台装置28A侧设置用于Y方向的位置调整机构。阶梯型平台装置28k的操作由第二台控制单元6B控制，并且台控制单元6A和6B由主控制单元4A控制。在图9中，例如，粘附剂涂敷装置64位于鼓状滚动导卫沈与阶梯型平台装置观之间的部分之上。对准系统52A和52B以及对准系统52C和52D分别位于链32A和32B以及链32C和32D内。加热装置71位于链32C和32D内，并且切割装置68位于紧接在阶梯型平台装置28和28A在+X方向上的端部之后。在这种情况下，在+X方向上从对准系统52A 和52B以及对准系统52C和52D开始延伸了基本上一个器件区域的长度的区域形成对准区域58A，并且在X方向上延伸了基本上一个器件区域的长度的区域形成粘附区域58L，粘附区域58L包括由加热装置71向其辐射红外线的区域。在本实施例的滚动构件镶板装置EP中，在图10中，从供应辊20和20A供应的滤色器CF和TFT基底TP分别经由鼓状滚动导卫沈和2队,从其中央部分开始被转移到阶梯型平台装置观和2名k的在由箭头A91示出的方向上移动的杆30A至30L以及在由箭头A92 示出的方向上移动的杆62A至62L。因此，在滤色器CF和TFT基底TP中没有生成扭曲等。 此外，由粘附剂涂敷装置64将粘附剂LQ涂敷到已经转移到阶梯型平台装置观的滤色器CF 的顶表面上的预定深度。之后，由对准系统52A和52B测量滤色器CF的位置和旋转角，与之并行地，由对准系统52C和52D测量TFT基底TP的位置和旋转角。基于这些检测的结果，图10所示的主控制单元4内的对准控制部计算滤色器CF的器件区域与TFT基底TP的器件区域之间的位置偏移量和旋转角偏移量。此外，主控制单元4内的台控制部校正例如阶梯型平台装置观侧的滤色器CF在X方向和Y方向上的位置以及在θ ζ方向上的旋转角，使得其位置偏移量和旋转角偏移量被校正。之后，通过将来自加热装置71的红外线辐射到已经从对准区域58Α进入粘附区域 58L的滤色器CF和TFT基底TP的器件区域，将这些器件区域中的滤色器CF和TFT基底TP 粘附到一起。之后，通过使用切割装置68切割已经由阶梯型平台装置观和28Α传送出的滤色器CF和TFT基底TP的一个器件部分，可以制造显示元件的一个器件部分。根据本实施例，因为使用阶梯型平台装置观和28Α传送片状滤色器CF和TFT基底TP以使得它们相互面对，所以能够以高精度水平沿着目标路径传送滤色器CF和TFT基底TP。因此，能够以高精度水平制造显示元件。此外，通过使用上述实施例的曝光装置EX在膜状基底上形成预定图案(即电路图案、电极图案等)，可以获得大量液晶显示元件作为微器件。在下文中，将参照图11所示的流程图来描述此制造方法的示例。在图11中的步骤S401(图案形成处理)，执行以下处理首先是涂覆处理，其中通过将光致抗蚀剂涂覆到要曝光的膜状基底(曝光对象)来准备光敏基底；曝光处理，其中使用上述曝光装置，通过曝光将用于液晶显示元件的掩模的图案转移到该光敏基底上的大量图案形成区域；以及显影处理，其中使该光敏基底显影。通过执行包括这些涂覆、曝光和显影处理的光刻处理，在膜状基底上形成预定抗蚀图案。在该光刻处理之后，执行使用这些抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理、以及抗蚀磨砂处理等。结果，在膜状基底上形成包含大量电极等的预定图案。可以根据膜状基底上的层数多次执行该光刻处理等。在下一步骤S401(滤色器形成处理)，通过布置与矩阵图案中的红(R)、绿(G)和蓝(B)对应的三个微滤色器的大量组，或者通过布置由在水平扫描线方向上的三个红R、绿 G和蓝B条构成的多个滤色器组，来形成滤色器。在下一步骤S403 (单元组装处理)，例如在具有从步骤S401获得的预定图案的膜状基底与从步骤S402获得的滤色器之间注入液晶， 从而制造成液晶板(即液晶显示单元)。在下一步骤S404(模块组装处理)，诸如用于执行显示操作的电路和背光等的构件被安装在以这种方式组装的大量液晶板(即液晶显示单元)上，并且完成了液晶显示元件。液晶显示元件的上述制造方法包括使用上述实施例的曝光装置使掩模的图案曝光到光敏基底的处理，以及通过进行显影等来处理通过该处理被曝光的光敏基底的处理。因此，由于能够以高精度水平和高效率执行曝光，因而改进了器件制造处理的生产量。此外，在上述实施例中，柔性的、伸长片状构件被用作要曝光的膜状构件。然而，作为膜状构件，还可以使用用于制造液晶显示元件等的具有较高刚度的矩形板状玻璃板、用于制造薄膜磁头的陶瓷基底、或用于制造半导体元件的圆形半导体晶片等。注意，在上述实施例中，放电灯被用于曝光光源，并且选择所需的g射线光、h射线光或i射线光。然而，本发明不限于此，并且本发明仍可应用于以下情况来自紫外线LED 的光、来自KrF受激准分子激光器Q48nm)或ArF受激准分子激光器(193nm)的激光光、或固态激光器(诸如半导体激光器等)的高次谐波(例如，YAG激光器(具有355nm的波长) 的三倍高次谐波)被用于曝光的光。以这种方式，本发明不限于上述实施例，并且能够获得各种结构，只要它们不背离本发明的精神或范围。
权利要求
1.一种用于传送膜状构件的传送方法，包括在沿着所述膜状构件的表面的移动方向上移动所述膜状构件； 通过多个杆状构件来支撑所述膜状构件的多个表面位置，所述多个杆状构件的纵向方向对准与所述移动方向相交的方向，并且所述多个杆状构件在所述移动方向上排齐；以及在所述移动方向上，同步地移动支撑所述膜状构件的所述多个杆状构件。
2.根据权利要求1所述的传送方法，其中，支撑所述膜状构件的所述多个表面位置包括向所述膜状构件的传送路径上的第一位置顺序地移动所述多个杆状构件之中的第一和第二杆状构件；以及分别通过所述第一和第二杆状构件来支撑所述多个表面位置之中的向所述第一位置顺序地传送的第一和第二表面位置。
3.根据权利要求2所述的传送方法，包括分别从所述第一和第二表面位置顺序地移开向第二位置顺序地移动的所述第一和第二杆状构件，所述第二位置位于所述传送路径上的所述第一位置的下游。
4.根据权利要求2或3所述的传送方法，其中，移动所述膜状构件包括经由引导构件使所述膜状构件的所述传送路径弯曲，所述引导构件被形成为杆状，其中所述引导构件的端部比其中央部分宽，并且所述引导构件的纵向方向对准与所述移动方向相交的方向；以及经由所述引导构件，向所述第一位置顺序地移动所述膜状构件的所述第一和第二表面位置。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的传送方法，其中支撑所述膜状构件的所述多个表面位置包括调整所述第一和第二杆状构件之间的间隔。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的传送方法，其中支撑所述膜状构件的所述多个表面位置包括将由所述杆状构件支撑的所述表面位置吸到所述杆状构件上。
7.根据权利要求6所述的传送方法，其中支撑所述膜状构件的所述多个表面位置包括初始从所述杆状构件的中央部分吸住由所述杆状构件支撑的所述表面位置、以及随后逐渐移向其两个端部。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的传送方法，其中所述膜状构件具有带状配置；以及所述膜状构件的移动在与所述带状构件的伸长方向平行的所述移动方向上移动所述膜状构件。
9.一种用于使膜状构件曝光的曝光方法，包括使用根据权利要求1至8中任一项所述的传送方法，在移动方向上移动所述膜状构件；从所述膜状部件之中检测由所述杆状构件支撑的要曝光的部分上形成的对准标记；以及基于所述对准标记的检测结果来执行所述膜状构件的所述要曝光的部分与曝光对象的图案的对准，以及使由所述杆状构件支撑的且在所述移动方向上移动的所述要曝光的部分曝光。
10.一种用于将第一膜状构件和第二膜状构件粘附的制造方法，包括 使用根据权利要求ι至8中任一项所述的传送方法，传送所述第一膜状构件； 使用根据权利要求1至8中任一项所述的传送方法，传送所述第二膜状构件以使得面对所述第一膜状构件；从所述第一和第二膜状构件之中检测分别由所述杆状构件支撑的第一部分和第二部分上形成的对准标记；以及基于所述对准标记的检测结果来执行所述第一和第二膜状构件的所述第一部分和所述第二部分的对准，以及将由所述杆状构件支撑的且在所述移动方向上移动的所述第一部分和所述第二部分粘附。
11.根据权利要求10所述的制造方法，还包括在已经将所述第一部分和所述第二部分粘附之后，切割包括所述第一和第二膜状构件的所述第一部分和所述第二部分的部分。
12.—种器件制造方法，包括使用根据权利要求9所述的曝光方法，使膜状光敏基底曝光；以及在所述曝光之后处理所述膜状光敏基底。
13.一种器件制造方法，包括使用根据权利要求10或权利要求11所述的制造方法，将第一和第二膜状构件粘附。
14.一种传送膜状构件的传送装置，包括多个杆状构件，其纵向方向对准与沿着所述膜状构件的表面的移动方向相交的方向， 并且所述多个杆状构件在所述移动方向上排齐以支撑所述膜状构件；以及驱动装置，其在所述移动方向上同步地移动所述多个杆状构件之中的支撑所述膜状构件的多个杆状构件。
15.根据权利要求14所述的传送装置，还包括移动装置，其在所述移动方向上移动所述膜状构件，其中，所述驱动装置包括接合机构，其沿着包括第一位置和第二位置的环形轨迹来接合所述多个杆状构件，其中在所述第一位置处，所述多个杆状构件支撑所述膜状构件，并且所述第二位置位于所述第一位置的下游并且是所述多个杆状构件从所述膜状构件移开的位置；以及移动机构，其经由所述接合机构，沿着所述环形轨迹移动所述多个杆状构件。
16.根据权利要求15所述的传送装置，还包括引导构件，其被形成为杆状，其中所述引导构件的纵向方向对准与所述移动方向相交的方向，并且所述引导构件的两个端部比其中央部分宽，并且所述引导构件使所述膜状构件的传送路径弯曲，并向所述多个杆状构件之中的位于所述第一位置处的所述杆状构件转移所述膜状构件。
17.根据权利要求14至16中任一项所述的传送装置，其中，所述膜状构件由所述多个杆状构件之中的至少两个杆状构件来支撑；以及所述传送装置包括间隔调整机构，所述间隔调整机构调整支撑所述膜状构件的所述至少两个杆状构件之间的间隔。
18.根据权利要求14至17中任一项所述的传送装置，还包括抽吸机构，其在所述杆状构件支撑所述膜状构件的时段内将所述膜状构件吸到所述杆状构件上。
19.根据权利要求15或16所述的传送装置，其中所述膜状构件具有带状配置；以及所述移动装置在与所述带状构件的伸长方向平行的所述移动方向上移动所述膜状构件。
20.一种使膜状构件曝光的曝光装置，包括根据权利要求14至19中任一项所述的传送装置，其传送所述膜状构件； 标记检测系统，其从所述膜状构件之中检测由所述传送装置的所述杆状构件支撑的要曝光的部分上形成的对准标记；以及曝光部，其基于所述标记检测系统的检测结果来执行所述膜状构件的所述要曝光的部分与曝光对象的图案的对准，并且使由所述杆状构件支撑的且在所述移动方向上移动的所述要曝光的部分曝光。
21.一种将第一膜状构件和第二膜状构件粘附的制造装置，包括根据权利要求14至19中任一项所述的第一传送装置，其传送所述第一膜状构件； 根据权利要求14至19中任一项所述的第二传送装置，其传送所述第二膜状构件以使得面对所述第一膜状构件；标记检测系统，其从所述第一和第二膜状构件之中检测分别由所述杆状构件支撑的第一部分和第二部分上形成的对准标记；以及粘附部，其执行所述第一和第二膜状构件的所述第一部分和所述第二部分的对准，并将由所述杆状构件支撑的且在所述移动方向上移动的所述第一部分和所述第二部分粘附。
22.根据权利要求21所述的制造装置，还包括切割机构，其切割包括由所述粘附部粘附的所述第一和第二膜状构件的所述第一部分和所述第二部分的部分。
23.一种器件制造方法，包括使用根据权利要求20所述的曝光装置，使膜状光敏基底曝光；以及在所述曝光之后，处理所述膜状光敏基底。
24.一种器件制造方法，包括使用根据权利要求21或权利要求22所述的制造装置，将第一和第二膜状构件粘附。
全文摘要
传送膜状基底(P)的阶梯型平台装置(28)包括多个杆(30A-30L)，其纵向方向对准与膜状基底的移动方向正交的方向以支撑膜状基底；链(32A、32B)，其沿着闭环轨迹接合杆；以及驱动电机(36A、36B)，其经由链沿着此环形轨迹移动杆。
文档编号G03F7/20GK102449551SQ20108002397
公开日2012年5月9日 申请日期2010年5月26日 优先权日2009年6月5日
发明者山口麻衣子 申请人:株式会社尼康