硅氧烷类化合物、包含其的光敏性组合物及光敏性材料的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种硅氧烷类化合物、一种包含其的光敏性组合物和一种光敏性材料。
【专利说明】硅氧烷类化合物、包含其的光敏性组合物及光敏性材料
【技术领域】
[0001] 本申请要求2012年3月30日在韩国知识产权局提交的第10-2012-0032949号韩 国专利申请以及2013年1月24日在韩国知识产权局提交的第10-2013-0007949号韩国专 利申请的优先权，其全部内容通过引用的方式纳入本说明书。
[0002] 本发明涉及一种硅氧烷类化合物、一种包含其的光敏性组合物和一种光敏性材 料。
【背景技术】
[0003] 各种光阻材料用于制造液晶显示器。例如，当制造彩色滤光片时，可以使用使形成 彩色像素的颜料分散的光阻材料。
[0004] 当形成作为能遮光的遮光层的黑底（black matrix)时，可以使用颜料黑、炭黑、花 黑、二氧化钛等在其中分散的溶液。
[0005] 不包含颜料的透明光阻材料可用于制造一种保护层（overcoat)，所述保护层能校 正像素和列间隔件（column spacer)之间的阶梯高度，以保持液晶显示器的晶胞间隙。
[0006] 用于列间隔件或保护层的光敏性组合物也可用于薄膜晶体管层的钝化。
[0007] 根据特定的需求，当每一种光阻材料在玻璃基板或涂覆有氧化铟锡的玻璃基板上 通过适当的光罩蚀刻方法进行加工时，可形成一种包含厚度为5μπι以下的多层有机薄膜 的单色滤板。
[0008] 可改善液晶显示器的分辨率以实现高阶影像品质，为达此目的，可提高彩色滤光 片的分辨率。
【发明内容】
[0009] 技术问题
[0010] 在制造具有高分辨率的彩色滤光片时，彩色像素、黑底、列间隔件等的尺寸将降 低，并且在此情况下，光阻薄膜和底部基板之间的粘附力在图案显影过程中将变得不足，因 此可能产生部分图案损失的缺陷。
[0011] 为了解决这一问题，需要开发一种在显影过程中具有较低的损失薄膜可能性的光 敏性组合物。
[0012] 技术方案
[0013] 本发明的一个示例性的实施方案提供了如下式1所示的化合物。
[0014] [式 1]
[0015]
【权利要求】
1. 一种如下式1所示的化合物 [式1]
在式1中， R1、R1'、R1"、R2、R2'和R2"彼此相同或不同，并且各自独立地为具有1-6个碳原子 的烧氧基基团， R3和R4彼此相同或不同，并且各自独立地为具有1-6个碳原子的烷基基团， R5、R6、R7和R8彼此相同或不同，并且各自独立地为具有1-6个碳原子的亚烷基基团， X代表-CRR' -，其中R和R'彼此相同或不同，并且各自独立地为氢或具有1-6个碳原 子的烷基基团，并且 η是一个1-10的整数。
2. 权利要求1的化合物，其中，式1中的R5、R6、R7和R8彼此相同或不同，并且各自独 立地为具有1-3个碳原子的亚烷基基团。
3. 权利要求1的化合物，其中，式1中的RU Rl'、Rl"、R2、R2'和R2"彼此相同或不 同，并且各自独立地为甲氧基或乙氧基。
4. 权利要求1的化合物，其中，式1中的R3和R4彼此相同或不同，并且各自独立地为 具有1-3个碳原子的烷基基团。
5. 权利要求1的化合物，其中，式1中的R和R'为氢。
6. 权利要求1的化合物，其中，式1中的η是一个1至3的整数。
7. -种光敏性组合物，包括： a) 权利要求1的如式1所示的化合物； b) -种可交联的化合物，其含有两个或更多个不饱和丙烯酸键； c) 一种碱溶性粘合剂树脂； d) -种光聚合引发剂；和 e) -种溶剂。
8. 权利要求7的光敏性组合物，其中，式1中的R5、R6、R7和R8彼此相同或不同，并且 各自独立地为具有1-3个碳原子的亚烷基基团。
9. 权利要求7的光敏性组合物，其中，式1中的RU Rl'、Rl"、R2、R2'和R2"彼此相 同或不同，并且各自独立地为甲氧基或乙氧基。
10. 权利要求7的光敏性组合物，其中，式1中的R3和R4彼此相同或不同，并且各自独 立地为具有1-3个碳原子的烷基基团。
11. 权利要求7的光敏性组合物，其中，式1中的R和R'为氢。
12. 权利要求7的光敏性组合物，其中，式1中的η是一个1至3的整数。
13. 权利要求7的光敏性组合物，其中，a)如式1所示的化合物的含量为0. 05重量％ 至5重量％，基于除e)溶剂之外的固体总重量计。
14. 权利要求7的光敏性组合物，其中，b)含有两个或更多个不饱和丙烯酸键的可交 联的化合物包括一种或两种或更多种选自以下的化合物：通过多元醇和α，β-不饱和羧 酸酯化而获得的化合物；通过（甲基）丙烯酸加成至含有缩水甘油基的化合物而获得的化 合物；通过多元羧酸和具有羟基或烯键式不饱和键的化合物、或具有羟基或烯键式不饱和 键的化合物的聚异氰酸酯加成物而获得的酯化产物；（甲基）丙烯酸烷基酯；和9, 9'-双 [4_(2_丙烯醜氧基乙氧基）苯基]莉。
15. 权利要求7的光敏性组合物，其中，该光敏性组合物还包括二氧化硅分散体。
16. 权利要求7的光敏性组合物，其中，c)碱溶性粘合剂树脂的重均分子量为3, 000至 150, 000。
17. 权利要求7的光敏性组合物，其中，c)碱溶性粘合剂树脂的酸值为30K0H mg/g至 300K0H mg/g〇
18. 权利要求7的光敏性组合物，其中，d)光聚合引发剂为一种或两种或更多种选自以 下的化合物：三嗪类化合物、联咪唑化合物、乙酰苯类化合物、O-酰基肟类化合物、二苯甲 酮类化合物、噻吨酮类化合物、氧化膦类化合物和香豆素类化合物。
19. 权利要求7的光敏性组合物，其中，该光敏性组合物包括： a) 含量为0. 01重量份至1. 5重量份的如式1所示的化合物， b) 含量为1重量份至30重量份的可交联的化合物，其含有两个或更多个不饱和丙烯酸 键， c) 含量为1重量份至20重量份的碱溶性粘合剂树脂， d) 含量为0. 1重量份至5重量份的光聚合引发剂，和 e) 含量为45重量份至95重量份的溶剂， 基于100重量份的全部组合物计。
20. 权利要求7的光敏性组合物，其中，该光敏性组合物还包括一种或两种或更多种选 自以下的物质：着色剂、固化促进剂、热聚合抑制剂、增塑剂、粘合促进剂、填料、光敏剂和表 面活性剂。
21. 权利要求20的光敏性组合物，其中，着色剂的含量为1重量份至20重量份，基于 100重量份的全部组合物计。
22. 权利要求21的光敏性组合物，其中，固化促进剂、热聚合抑制剂、增塑剂、粘合促进 齐U、填料、光敏剂或表面活性剂的含量为〇. 〇1重量份至5重量份，基于100重量份的全部组 合物计。
23. 权利要求7的光敏性组合物，其中，当通过使用孔宽度小于11 μ m的光掩膜而形成 使用所述光敏性组合物的图案时，该图案在显影之后被保存。
24. -种图案，通过使用权利要求7至23中任一项的光敏性组合物而形成。
25. 权利要求24的图案，其中，当使用孔宽度小于11 μ m的光掩膜时，图案的形状在显 影过程中被保存。
26. -种光敏性材料，其通过使用权利要求7至23中任一项的光敏性组合物而制备。
27. 权利要求26的光敏性材料，其中，该光敏性材料为光丙烯酸光敏性材料、颜料分散 型光敏性材料、用于形成黑底的光敏性材料、用于形成保护层或列间隔件光敏性材料的光 敏性材料。
【文档编号】G03F7/004GK104220446SQ201380018114
【公开日】2014年12月17日 申请日期:2013年1月25日 优先权日:2012年3月30日
【发明者】李健雨, 郭尚圭, 李昌淳, 金惠显, 金世熹 申请人:株式会社Lg化学