一种阵列基板及其制造方法、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制造方法、显示装置。
【背景技术】
[0002]目前，常用的液晶显示装置为常白模式的扭曲向列型液晶显示装置，该显示装置包括相互对盒的阵列基板和彩膜基板。
[0003]示例性地，如图1所示，阵列基板包括阵列排布的多个像素电极1、位于相邻两列像素电极I’之间的数据线2’、位于相邻两行像素电极I’之间的栅线3’，其中，像素电极I’与数据线2’之间均存在间隙4’，像素电极I’与栅线3’之间也存在间隙4’。彩膜基板包括黑矩阵，黑矩阵用于遮挡相邻两像素电极I’之间的区域，即数据线2’、栅线3’以及间隙4，。
[0004]然而，本申请的发明人发现，当阵列基板与彩膜基板沿平行于栅线3’延伸方向的方向存在较大的对位偏差时，如图2所示，黑绝阵5’不能完全遮挡相邻两像素电极I’之间的区域，进而会导致光线从间隙4’射出显示装置，使显示装置出现漏光现象，降低了显示装置的对比度，影响了显示装置的显示效果。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种显示基板及其制造方法、显示装置，用于改善显示装置的漏光现象。
[0006]为达到上述目的，本发明提供了一种显示基板，采用如下技术方案:
[0007]一种阵列基板包括阵列排布的多个像素区，相邻两所述像素区之间设置有信号线；所述像素区与所述信号线之间具有间隙，所述阵列基板还包括至少一个防漏光电极，所述防漏光电极与所述像素区和所述信号线之间绝缘设置，所述防漏光电极在衬底基板的垂直投影至少覆盖所述间隙在所述衬底基板的垂直投影中的一部分。
[0008]进一步地，所述像素区包括像素电极；所述防漏光电极在所述衬底基板上的垂直投影，覆盖相邻两个所述像素电极在所述衬底基板的垂直投影之间的区域。
[0009]示例性地，所述信号线为数据线，所述阵列基板还包括电连接所述数据线和所述像素电极的薄膜晶体管；
[0010]所述防漏光电极在所述衬底基板的垂直投影，与所述薄膜晶体管在所述衬底基板的垂直投影无交叠。
[0011 ] 进一步地，相邻两个所述防漏光电极通过连接电极电连接。
[0012]进一步地，所述阵列基板还包括与所述数据线垂直的公共电极线，所述公共电极线在所述衬底基板的垂直投影与所述像素电极在所述衬底基板的垂直投影之间相互交置;
[0013]所述连接电极在所述衬底基板的垂直投影，位于所述公共电极线在所述衬底基板的垂直投影之内。
[0014]可选地，所述防漏光电极所在层，位于所述像素电极所在层与所述信号线所在层之间；
[0015]所述防漏光电极所在层与所述像素电极所在层之间设置有第一绝缘层，所述防漏光电极所在层与所述信号线所在层之间设置有第二绝缘层。
[0016]可选地，所述防漏光电极所在层，位于所述像素电极所在层上；
[0017]所述防漏光电极所在层与所述像素电极所在层之间设置有第一绝缘层。
[0018]本发明实施例提供了一种具有以上所述结构的阵列基板，由于该阵列基板包括至少一个防漏光电极，防漏光电极与像素区和信号线之间绝缘设置，防漏光电极在衬底基板的垂直投影至少覆盖间隙在所述衬底基板的垂直投影中的一部分，从而使得防漏光电极能够至少遮挡由光源射向该间隙的一部分光线，进而使得该部分光线无法射出显示装置，从而能够改善显示装置的漏光现象，提高显示装置的对比度，改善显示装置的显示效果。
[0019]此外，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括以上任一项所述的阵列基板。
[0020]本发明还提供了一种阵列基板的制造方法，采用如下技术方案:
[0021]一种阵列基板的制造方法包括:
[0022]形成信号线；
[0023]形成像素区；
[0024]形成至少一个防漏光电极；
[0025]其中，所述像素区与所述信号线之间具有间隙，所述防漏光电极与所述像素区和所述信号线之间绝缘设置，所述防漏光电极在衬底基板的垂直投影至少覆盖所述间隙在所述衬底基板的垂直投影中的一部分。
[0026]可选地，形成至少一个防漏光电极的步骤具体包括:
[0027]在形成有所述信号线的所述衬底基板上形成第二绝缘层；
[0028]在形成有所述第二绝缘层的所述衬底基板上形成防漏光电极材料层，通过一次构图工艺形成包括所述防漏光电极的图形。
[0029]形成像素区的步骤具体包括:
[0030]在形成有所述防漏光电极的所述衬底基板上形成第一绝缘层；
[0031]在形成有所述第一绝缘层的所述衬底基板上形成像素电极材料层，通过一次构图工艺形成包括所述像素电极的图形。
[0032]可选地，形成像素区的步骤具体包括:
[0033]在所述衬底基板上形成像素电极材料层，通过一次构图工艺形成包括所述像素电极的图形。
[0034]形成至少一个防漏光电极的步骤具体包括:
[0035]在形成有所述像素电极的所述衬底基板上形成第一绝缘层；
[0036]在形成有所述第一绝缘层的所述衬底基板上形成防漏光电极材料层，通过一次构图工艺形成包括所述防漏光电极的图形。
[0037]本发明实施例提供了一种阵列基板的制造方法，该制造方法包括在形成信号线；形成像素区；形成至少一个防漏光电极。由于形成的像素区与信号线之间具有间隙，防漏光电极与像素区和信号线之间绝缘设置，防漏光电极在衬底基板的垂直投影至少覆盖间隙在衬底基板的垂直投影中的一部分，从而使得防漏光电极能够至少遮挡由光源射向该间隙的一部分光线，进而使得该部分光线无法射出显示装置，从而能够改善显示装置的漏光现象，提高显示装置的对比度，改善显示装置的显示效果。
【附图说明】
[0038]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0039]图1为现有技术中的阵列基板的平面示意图；
[0040]图2为现有技术中的显示装置沿垂直于数据线延伸方向的截面示意图；
[0041]图3为本发明实施例中的第一种阵列基板的平面示意图；
[0042]图4为本发明实施例中图3沿A-A’方向的截面示意图；
[0043]图5为本发明实施例中的显示装置的局部截面示意图；
[0044]图6为本发明实施例中的第二种阵列基板的局部截面示意图。
[0045]附图标记说明:
[0046]I一阵列基板； 10—衬底基板； 11一像素区；
[0047]111 一像素电极；12—彳目号线；121 —数据线；
[0048]13一间隙；14一防漏光电极；15—薄膜晶体管；
[0049]16—连接电极； 17—第一绝缘层；18—第二绝缘层；
[0050]2一光源；3—下偏光片；4一液晶分子层；
[0051]5—彩膜基板； 51—公共电极； 52—黑矩阵；
[0052]53一彩色滤色层；6—上偏光片。
【具体实施方式】
[0053]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0054]实施例一
[0055]本发明实施例提供了一种阵列基板，具体地，如图3和图4所示，该阵列基板I包括阵列排布的像素区11，相邻两像素区11之间设置有信号线12，像素区11与信号线12之间具有间隙13 ;阵列基板I还包括至少一个防漏光电极14