触控显示装置及其制备方法

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触控显示装置及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示器件领域,特别涉及一种触控显示装置及其制备方法。
【背景技术】
[0002]触控屏是电子装置比如触控屏手机、平板电脑、电子书等电子装置的重要组成部分。传统的触控屏一般包括显示模组及触控模组,触控模组通常包括两层层叠的ΙΤ0玻璃,两层ΙΤ0玻璃通过光学胶粘合在一起。
[0003]然而,随着人们对电子产品轻薄化的追求,目前触控屏至少包括两层ΙΤ0玻璃及用来粘合的光学胶,厚度较厚,限制了触控屏的发展。

【发明内容】

[0004]基于此,有必要提供一种厚度较薄的触控显示装置及其制备方法。
[0005]—种触控显示装置,包括依次层叠的薄膜晶体管基板、液晶层及彩色滤光片基板,所述薄膜晶体管基板朝向所述液晶层的表面设有多条相互绝缘的电极,所述触控显示装置还包括高阻层,所述高阻层形成于所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的表面,所述高阻层与所述电极电连接,所述高阻层的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂及交联剂。
[0006]在其中一个实施方式中,所述高阻层的材料按照重量份数计包括1.5份?3份的氧化石墨,0.5份?2份的氧化锡、28份?30份的表面活性剂及20份?30份的交联剂。
[0007]在其中一个实施方式中,所述高阻层的厚度为28 μπι?32 μπι。
[0008]在其中一个实施方式中,所述电极的材料为ΙΤ0。
[0009]上述的触控显示装置的制备方法包括如下步骤:
[0010]提供薄膜晶体管基板,在所述薄膜晶体管基板朝向所述液晶层的表面设有多条相互绝缘的电极;
[0011]提供彩色滤光片基板,在所述彩色滤光片基板朝向所述薄膜晶体管基板的表面形成液晶层;
[0012]在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的表面形成高阻层,所述高阻层的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂及交联剂;以及
[0013]将所述高阻层与所述电极电连接,得到触控显示装置。
[0014]在其中一个实施方式中,在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的表面形成高阻层的操作为:通过线棒涂膜的方式将涂料挤压至所述彩色滤光片基板远离所述薄膜晶体管基板的表面,所述涂料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂、交联剂及溶剂,线棒涂膜的速度为 0.2m/mim ?0.4m/mim,线棒压重为 0.49kg ?0.51kg。
[0015]在其中一个实施方式中,所述涂料按照质量百分含量计包括1.5%?3%的氧化石墨、0.5%?2%的氧化锡、28%?30%的表面活性剂、20%?30%的交联剂及40%?45%的溶剂。
[0016]在其中一个实施方式中,在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的表面形成高阻层之前,包括对所述薄膜晶体管基板研磨处理,使得所述薄膜晶体管基板表面平整。
[0017]在其中一个实施方式中,在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的表面形成高阻层之后,包括将形成高阻层的所述彩色滤光片基板进行晾干处理和烘烤处理,所述晾干处理为自然瞭干lOmin?15min,所述供烤处理为78°C?83°C下供烤58mim?63mim。
[0018]在其中一个实施方式中,在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的表面形成高阻层之前,包括对所述彩色滤光片基板依次进行清洗处理、干燥处理及静电消散处理,所述清洗处理的操作包括依次进行纯水清洗、碱液清洗、二流体喷淋清洗、超纯水喷淋清洗及高压喷淋清洗,所述干燥处理包括依次进行冷风干燥和热风干燥。
[0019]上述触控显示装置,通过在彩色滤光片基板远离液晶层的表面形成高阻层,并将高阻层与电极电连接,形成触控模组。由于高阻层直接形成在彩色滤光片基板表面,无需再使用一层玻璃承载高阻层,相比传统的触控显示装置,减少了一层IT0玻璃及用来粘合的光学胶,从而上述触控显示装置较薄。另外,高阻层的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂及交联剂,可以起到消除静电的作用,提高触控的灵敏度。
【附图说明】
[0020]图1为一实施方式的触控显示装置的结构示意图;
[0021]图2为一实施方式的触控显示装置的制备方法的流程图。
【具体实施方式】
[0022]下面主要结合具体附图及具体实施例对触控显示装置及其制备方法作进一步详细的说明。
[0023]请参阅图1,一实施方式的触控显示装置100,包括依次层叠的薄膜晶体管基板
10、液晶层20、彩色滤光片基板30及高阻层40。
[0024]薄膜晶体管基板(TFT) 10朝向液晶层20的表面设有多条相互绝缘的电极11,高阻层40形成于彩色滤光片基板30远离液晶层20的表面,高阻层40与电极11电连接。具体的,高阻层40与电极11可通过引线电连接。
[0025]薄膜晶体管基板10、液晶层20及彩色滤光片基板30及组成显示模组,高阻层40与多条相互绝缘的电极11电连接组成触控模组。
[0026]具体的,多条相互绝缘的电极11可以形成于薄膜晶体管基板10朝向液晶层20的表面,也可以形成于薄膜晶体管基板10远离液晶层20的表面。
[0027]具体在本实施方式中,多条相互绝缘的电极11形成于薄膜晶体管基板10朝向液晶层20的表面,液晶层20形成于彩色滤光片基板30朝向薄膜晶体管基板10的表面,高阻层40形成于彩色滤光片基板30远离液晶层20的表面。多条相互绝缘的电极11可嵌入到与液晶层20中,使得触摸面板功能嵌入到液晶像素中,在显示屏内部嵌入触摸传感器功能,构成In-Cell类型的触控显示装置,使得屏幕更加轻薄。
[0028]当然,触控显示装置100还包括偏光片、盖板等其他元件,在此不做赘述。
[0029]具体的,高阻层40的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂及交联剂
[0030]氧化石墨(Graphite oxide,GO)是一种新型碳素材料,具有优良的吸附性能。氧化锡(Sn02)为一种活性氧化物,具有半导体特性。氧化石墨、氧化锡、表面活性剂及交联剂混合后可得到性能优异的复合材料。氧化锡可改变氧化石墨的表面性质,氧化石墨高孔隙率、大表面积的特点又可提升氧化锡的分散性。各种组分协同作用导致高阻层40具有优良的吸附性能和电学特性。
[0031]优选的,高阻层40的材料按照重量份数计包括1.5份?3份的氧化石墨,0.5份?2份的氧化锡、28份?30份的表面活性剂及20份?30份的交联剂。
[0032]优选的,高阻层40的厚度为28 μπι?32 μπι。
[0033]优选的,高阻层40的透光率多95%,此处透光率指的是彩色滤光片基板30表面形成高阻层40后与形成高阻层40前的透光率的比值。
[0034]优选的,电极11的材料为ΙΤ0,当然,电极11的材料不限于为ΙΤ0,也可以为其他导电材料如ΑΖ0等。
[0035]上述触控显示装置,通过在彩色滤光片基板远离液晶层的表面形成高阻层,并将高阻层与电极电连接,形成触控模组。由于高阻层直接形成在彩色滤光片基板表面,无需再使用一层玻璃承载高阻层,相比传统的触控显示装置,减少了一层ΙΤ0玻璃及用来粘合的光学胶,从而上述触控显示装置较薄、透光性较好。另外,高阻层的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂及交联剂,可以起到消除静电的作用,提高触控的灵敏度。
[0036]如图2所示的上述触控显示装置的制备方法,包括如下步骤:
[0037]S10、提供薄膜晶体管基板,在薄膜晶体管基板朝向液晶层的表面设有多条相互绝缘的电极。
[0038]电极的材料为ΙΤ0,当然,电极的材料不限于为ΙΤ0,也可以为其他导电材料如ΑΖ0等。
[0039]具体的,可通过丝印法或真空磁控溅射的方式在薄膜晶体管基板表面镀膜,并采用化学蚀刻法进行图形制备,得到多条相互绝缘的电极。
[0040]S20、提供彩色滤光片基板,在彩色滤光片基板朝向薄膜晶体管基板的表面形成液晶层。
[0041]液晶层的材料可以是是脂肪族、芳香族、硬脂酸等有机物。可采用灌注液晶方法在薄膜晶体管基板与彩色滤光片基板之间形成液晶层,即将薄膜晶体管基板与彩色滤光片基板对组之后,采用毛细原理将液晶吸入形成液晶层。或采用滴下式液晶注入法,先将液晶直接滴在彩色滤光片基板上,然后再将薄膜晶体管基板与彩色滤光片基板进行对组。
[0042]S30、在彩色滤光片基板远离液晶层的表面形成高阻层,高阻层的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂及交联剂。
[0043]具体的,可通过线棒涂膜机将涂料挤压至彩色滤光片基板远离液晶层的表面,形成高阻层。通过线棒涂膜机的0SP线棒挤压涂料,在彩色滤光片基板上形成高阻层。当然,也可以采用其他方式,如真空磁控溅射、丝网印刷等方式在彩色滤光片基板表面形成高阻层。
[0044]线棒涂膜的方式操作简单,操作简单,一个人可独立完成。并且灵活性较强,适合不同型号、不同尺寸的显示装置随意加工,设备投资成本低,破片风险小。特别适合在小粒薄膜晶体管基板(尺寸一般在4.5寸?6寸左右)上形成薄膜层。
[0045]优选的,0SP线棒直径为9.4mm,并调节涂膜的厚度为30 μπι。线棒涂膜作业环境为无尘空间(百级),室内温度控制在22°C?28°C,湿度控制在20%?30%。具体的,线棒涂膜的速度为0.2m/mim?0.4m/mim,线棒压重为0.49kg?0.51kg。
[0046]涂料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂、交联剂及溶剂,溶剂可以为水或有机溶剂等。
[0047]优选的,涂料按照质量百分含量计包括1.5%?3%的氧化石墨、0.5%?2%的氧化锡、28%?30%的表面活性剂、20%?30%的交联剂及40%?45%的溶剂。
[0048]具体的,表面活性剂可以为硬脂酸、十二烷基苯磺酸钠、季铵化物、卵磷脂、脂肪酸甘油酯,脂肪酸山梨坦(司盘)
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