构思，本发明实施例中还提供了一种阵列基板的制作方法，包括:
[0047]在衬底基板上形成透明电极；
[0048]在所述透明电极上形成感光层，所述感光层与所述透明电极的图案一致；
[0049]在所述感光层的表面形成用于对液晶分子进行取向的沟槽。
[0050]上述步骤中，具体通过同一构图工艺形成所述透明电极和感光层，并在所述感光层上形成沟槽，取代现有技术中的取向膜，从而缺省了单独制作取向模的材料和工艺，简化了制作工艺，降低生产成本。
[0051]本发明实施例中，形成所述透明电极和感光层的步骤具体包括:
[0052]形成透明导电薄膜；
[0053]在所述透明导电薄膜上形成感光薄膜；
[0054]采用掩膜板对所述感光薄膜进行曝光，显影，形成所述感光层，所述感光层上具有多个狭缝；
[0055]以所述感光层为掩膜对所述透明导电薄膜进行刻蚀工艺，形成透明电极。
[0056]其中，透明导电薄膜的材料可以为铟锌氧化物或铟锡氧化物。
[0057]当然，所述透明电极和感光层也可以通过以下步骤形成:依次形成透明导电薄膜和感光薄膜。在所述感光薄膜上形成光刻胶，对所述光刻胶和感光薄膜进行曝光，显影，形成感光层。然后以所述感光层和光刻胶为阻挡对透明导电薄膜进行刻蚀，形成所述透明电极，剥离光刻胶。需要说明的是，所述光刻胶在剥离工艺中使用的剥离液不能腐蚀所述感光层。
[0058]优选地，阵列基板的制作方法还包括:
[0059]在所述沟槽内形成锚定层，用于增加对液晶分子进行取向的锚定力。
[0060]通过设置所述锚定层，能够增加对液晶分子的锚定力，有效改善原来锚定力小，液晶分子取向不好的问题，提升显示品质。
[0061]作为一个具体的实施方式，在所述沟槽内形成锚定层的步骤具体包括:
[0062]在所述感光层上形成锚定层薄膜，所述锚定层薄膜的材料包括第一材料和光引发剂，所述第一材料的分子结构包括液晶态的主链和光聚合的侧链；
[0063]利用紫外光照射所述锚定层薄膜，使所述锚定层薄膜中的第一材料固化在所述沟槽内。
[0064]该实施方式中，制作锚定层的材料包括具有液晶态主链的第一材料，所述主链与液晶分子的结构相似，能够增加对液晶分子的锚定力，使得液晶分子的取向效果良好，提升显示品质。所述第一材料的光聚合侧链使得所述第一材料能够发生聚合反应，固化在所述沟槽内，与所述沟槽配合实现对液晶分子的锚定，并增加锚定力的作用。所述光引发剂是一种催化剂，在紫外光的照射下，能够催化所述第一材料发生聚合反应。
[0065]以ADS型TFT阵列基板为例，本发明实施例中阵列基板的制作过程具体包括:
[0066]在沉底基板上形成多条栅线和多条数据线(图中未示出)，限定多个像素区域；
[0067]在每个像素区域形成薄膜晶体管和像素电极，像素电极与所述薄膜晶体管的漏电极电性连接，所述栅线和薄膜晶体管栅电极可以通过对同一栅金属薄膜的构图工艺形成，所述数据线和薄膜晶体管栅电极可以通过对同一源漏金属薄膜的构图工艺形成。栅金属和源漏金属可以是Cu，Al，Ag，Mo，Cr，Nd，Ni，Mn，Ti，Ta，W等金属以及这些金属的合金。所述栅金属薄膜和源漏金属薄膜可以是单层结构或者多层结构，多层结构比如Cu\Mo，Ti\Cu\Ti，Μο\Α1\Μο 等；
[0068]形成覆盖薄膜晶体管和像素电极的保护层，所述保护层的材料可以选用氧化物、氮化物或者氮氧化物，保护层可以为单层、双层或多层结构。具体地，保护层可以是SiNx，S1x 或 Si(0N)x ；
[0069]在所述保护层上依次形成透明导电薄膜和感光薄膜，采用掩膜板对所述感光薄膜进行曝光，显影，形成所述感光层，所述感光层上具有多个狭缝。以所述感光层为掩膜对所述透明导电薄膜进行刻蚀，去除所述感光层上的狭缝所在区域的透明导电薄膜，形成公共电极。所述公共电极上具有多个狭缝，所述公共电极与像素电极的位置对应，用于与像素电极配合形成驱动电场。
[0070]通过摩擦工艺在所述感光层的表面形成有用于对液晶分子进行取向的细微沟槽。
[0071]至此完成ADS型TFT阵列基板的制作。
[0072]本发明实施例中还提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括阵列基板和彩膜基板，所述显示面板的制作方法包括采用如上所述的制作方法制得所述阵列基板，用以简化显示基板的制作工艺，降低生产成本。
[0073]所述显示面板的制作方法还包括:
[0074]对盒所述阵列基板和彩膜基板，在所述阵列基板和彩膜基板之间形成密封空间；
[0075]在所述密封空间内填充液晶，所述感光层位于所述阵列基板靠近所述液晶的一侦牝用于为液晶分子提供一定的预倾角，使液晶分子规则排列。
[0076]当所述阵列基板的制作方法包括在所述沟槽内形成锚定层的步骤时，所述在所述沟槽内形成锚定层的步骤具体为:
[0077]在所述液晶中添加所述第一材料和光引发剂；
[0078]具体将添加有所述第一材料和光引发剂的液晶填充在阵列基板和彩膜基板之间。
[0079]并采用紫外光照射显示面板，使所述液晶中的第一材料固化在所述沟槽内。
[0080]其中，所述第一材料具有液晶态的主链和光聚合的侧链，所述主链起到增加对液晶分子的锚定力的作用，所述侧链使得所述第一材料能够发生光聚合反应，固化在所述沟槽内，与所述沟槽配合实现对液晶分子的锚定，并增加锚定力的作用。
[0081]在实际应用过程中，为了不影响显示，所述液晶中，所述第一材料和光引发剂的质量百分比均为1%。?5%。
[0082]本发明的技术方案缺省了单独制作取向模的材料和工艺，只需通过同一工艺形成透明电极和感光层的图案，然后在所述感光层的表面形成用于对液晶分子进行取向的细微沟槽，即可实现对液晶分子的取向，简化了制作工艺，降低了生产成本。进一步地，还能够提升显示品质。
[0083]以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种阵列基板，包括设置在衬底基板上的透明电极，所述透明电极位于所述阵列基板的最外层，其特征在于，所述透明电极上设置有感光层，所述感光层与所述透明电极的图案一致，且所述感光层的表面形成有用于对液晶分子进行取向的沟槽。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述沟槽内设置有锚定层，用于增加对液晶分子进行取向的锚定力。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，制作所述锚定层的材料分子结构包括液晶态的主链和光聚合的侧链。4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述感光层的材料为感光树脂。5.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述透明电极上具有多个狭缝，为像素电极或公共电极。6.一种阵列基板的制作方法，包括: 在衬底基板上形成透明电极，其特征在于，所述制作方法还包括: 在所述透明电极上形成感光层，所述感光层与所述透明电极的图案一致； 在所述感光层的表面形成用于对液晶分子进行取向的沟槽。7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括: 在所述沟槽内形成锚定层，用于增加对液晶分子进行取向的锚定力。8.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，形成所述透明电极和感光层的步骤具体包括: 形成透明导电薄膜； 在所述透明导电薄膜上形成感光薄膜； 采用掩膜板对所述感光薄膜进行曝光，显影，形成所述感光层； 以所述感光层为掩膜对所述透明导电薄膜进行刻蚀工艺，形成透明电极。9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述沟槽内形成锚定层的步骤包括: 在所述感光层上形成锚定层薄膜，所述锚定层薄膜的材料包括第一材料和光引发剂，所述第一材料的分子结构包括液晶态的主链和光聚合的侧链； 利用紫外光照射所述锚定层薄膜，使所述锚定层薄膜中的第一材料固化在所述沟槽内。10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的阵列基板。11.一种显示装置，包括权利要求10所述的显示面板。12.—种显示面板的制作方法，所述显示面板包括阵列基板和彩膜基板，其特征在于，所述制作方法包括采用权利要求6-9任一项所述的制作方法制得所述阵列基板。13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述显示面板的制作方法还包括: 对盒所述阵列基板和彩膜基板，在所述阵列基板和彩膜基板之间形成密封空间； 在所述密封空间内填充液晶； 当所述阵列基板的制作方法包括在所述沟槽内形成锚定层的步骤时，所述在所述沟槽内形成锚定层的步骤具体为: 在所述液晶中添加所述第一材料和光引发剂； 采用紫外光照射显示面板，使所述液晶中的第一材料固化在所述沟槽内。14.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于，所述液晶中，所述第一材料和光引发剂的质量百分比均为1%。?5%。
【专利摘要】本发明涉及显示技术领域，公开了一种阵列基板和显示面板及其制作方法、显示装置。所述阵列基板包括位于最外层的透明电极，所述透明电极为像素电极或公共电极。所述透明电极上设置有感光层，并通过同一构图工艺形成所述透明电极和感光层，使得所述透明电极和感光层的图案一致，并在所述感光层的表面形成用于对液晶分子进行取向的沟槽，为液晶分子提供一定的预倾角，从而缺省了现有技术中的取向膜，简化了制作工艺，降低了生产成本。
【IPC分类】H01L27/12, H01L21/77, G02F1/1337, G02F1/1343
【公开号】CN105242460
【申请号】CN201510601329
【发明人】王强涛, 崔贤植, 林允植
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2016年1月13日
【申请日】2015年9月18日