曝光光4可以是来自文件的反 射光或透射光。选择性地，曝光光4可以是通过以下施加的光：例如，根据由传感器读取的 文件转换的信号的激光束扫描，LED阵列的驱动，或液晶闸阵列的驱动。
[0086] 实施例
[0087] 下文中，本发明将基于具体实例详细地进一步描述，但不限于此。以下使用的"份" 是指"质量份"。在实施例和比较例中的电子照相感光构件的各层的厚度通过使用涡电流厚 度计（Fischerscope，Fischer Instruments制造）或通过使用比重从每单位面积的质量的 换算来测定。
[0088] 实施例1
[0089] 合成步骤
[0090] 在将36. 7份的邻苯二甲腈、25份的三氯化镓、和300份的α -氯萘在200°C下在 氮气气氛中彼此反应5. 5小时之后，将所得产物在130°C下过滤。将产物在140°C下使用 N，N-二甲基甲酰胺分散清洗2小时，然后过滤。将过滤剩余物使用甲醇清洗并且干燥从而 获得46份的氯镓酞菁。
[0091] 酸溶步驟
[0092] 将24份的在合成步骤中获得的氯镓酞菁溶解在5°C的750份的浓硫酸中。将 混合物在搅拌下滴入2500份的冰水中从而进行再沉淀，并且在减压下进行过滤。其中， 如.5(：仏0￥41^^(：(： 〇.，1^(1.制造）用作过滤器。接着，将过滤剩余物使用2%的氨水分散清 洗30分钟，然后使用离子交换水分散清洗四次。最终，进行冷冻干燥，因此以97%的产率获 得羟基嫁酿菁晶体。
[0093] 盐酸处理步骤
[0094] 将10份的在酸溶步骤中获得的羟基镓酞菁晶体和浓度为35质量％的23°C的200 份的盐酸水溶液彼此混合并且使用磁力搅拌器搅拌90分钟。基于lmol的羟基镓酞菁，添加 的盐酸水溶液包含118mol的盐酸。在搅拌之后，将混合物滴入由冰水冷却的1000份的离子 交换水中，并且使用磁力搅拌器搅拌30分钟。在减压下进行过滤。其中，No. 5C(ADVANTEC Co.，Ltd.制造）用作过滤器。接着，将过滤剩余物在23°C下使用离子交换水分散清洗四次。 因此，获得了 9份的氯镓酞菁晶体。
[0095] 湿式研磨步驟
[0096] 在室温（23°C )下，将0. 5份的在盐酸处理步骤中获得的氯镓酞菁晶体和10份的 N，N-二甲基甲酰胺使用磁力搅拌器进行湿式研磨处理4小时。将氯镓酞菁晶体使用四氢呋 喃从所得分散液萃取并且过滤，并且将在过滤器上的所得过滤剩余物使用四氢呋喃充分清 洗。将过滤剩余物真空干燥从而获得0. 47份的氯镓酞菁晶体。
[0097] 从1H-NMR测量确认的是，以质子比计，基于在氯镓酞菁晶体中的氯镓酞菁，N，N-二 甲基甲酰胺的含量是〇. 59质量％。
[0098] 电子照相感光构件的牛产步驟
[0099] 具有直径为24mm和长度为257. 5mm的铝制圆筒（JIS-A3003,铝合金）用作支承体 (导电性支承体）。
[0100] 接着，将60份的涂布有氧化锡的硫酸钡颗粒（商品名：Passtran PCI，MITSUI MINING & SMELTING Co.，Ltd.制造）、15 份的氧化钛颗粒（商品名：TITANIX JR，TAYCA CORPORATION制造）、43份的可溶性酚醛树脂（商品名：Phenolite J-325，DIC Corporation 制造，固含量：70质量％)、0·015份的硅油（商品名：SH28PA，Dow Corning Toray Co.，Ltd. 制造）、3. 6 份的娃树脂颗粒（商品名：Tospearl 120，Toshiba Silicone Co.，Ltd.制造）、 50份的2-甲氧基-1-丙醇、和50份的甲醇装入球磨机并且分散20小时从而制备导电层形 成用涂布液。将导电层形成用涂布液通过浸渍施涂至支承体上从而形成涂膜。将该涂膜在 140°C下通过进行加热而固化1小时从而形成具有厚度为15 μπι的导电层。
[0101] 接着，10 份的共聚物尼龙（商品名：Amilan CM8000，Toray Industries, Inc. 制造）和30份的甲氧基甲基化6尼龙（商品名：Toresin EF-30T，Teikoku Chemical Industries Co.，Ltd.制造）溶解在甲醇400份/正丁醇200份的混合溶剂中从而制备底 涂层形成用涂布液。将底涂层形成用涂布液通过浸渍施涂至导电层上从而形成涂膜。将涂 膜在80°C下干燥6分钟从而形成具有厚度为0. 42 μπι的底涂层。
[0102] 接着，将2份的在湿式研磨步骤中获得的氯镓酞菁晶体（电荷产生物质）、1份的 聚乙烯醇缩丁醛（商品名：S-LEC BX-1，SEKISUI CHEMICAL CO.，LTD.制造）、和52份的环 己酮装入使用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机并且分散6小时。然后，将75份的乙酸乙酯添 加至此从而制备电荷产生层形成用涂布液。将电荷产生层形成用涂布液通过浸渍施涂至底 涂层上从而形成涂膜。将涂膜在l〇〇°C下干燥10分钟从而形成具有厚度为0. 20 μ m的电荷 产生层。
[0103] 接着，将28份的由以下式（C-1)表不的化合物（电荷输送物质（空穴输送性化合 物））、
[0104]
[0105] 4份的由以下式（C-2)表示的化合物（电荷输送物质（空穴输送性化合物））、和
[0106]
[0107] 40 份的聚碳酸酯（商品名：Iupilon Z200，Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造）溶解在单氯苯200份/二甲氧基甲烧50份的混合溶剂中从而制备电荷 输送层形成用涂布液。将电荷输送层形成用涂布液通过浸渍施涂至电荷产生层上从而形成 涂膜。将涂膜在120°C下干燥30分钟从而形成具有厚度为18 μπι的电荷输送层。
[0108] 因此，生产了实施例1的圆筒状（鼓状）电子照相感光构件。另外，如上所述，使 用其中电荷产生层（上述分散膜）形成在Lumirror上的测量样品来测量吸收光谱。图3 表明测量结果。
[0109] 实施例2
[0110] 除了将湿式研磨步骤的处理时间从4小时改变为24小时以外，以与实施例1相同 的方式来生产电子照相感光构件。
[0111] 实施例3
[0112] 除了将湿式研磨步骤的处理时间从4小时改变为48小时以外，以与实施例1相同 的方式来生产电子照相感光构件。
[0113] 实施例4
[0114] 除了将湿式研磨步骤的处理时间从4小时改变为96小时以外，以与实施例1相同 的方式来生产电子照相感光构件。
[0115] 实施例5
[0116] 除了将在湿式研磨步骤中混合的有机化合物从10份的N，N-二甲基甲酰胺改变为 10份的二甲亚砜以外，以与实施例2相同的方式来生产电子照相感光构件。
[0117] 从1H-NMR测量确认的是，以质子比计，基于在湿式研磨步骤中获得的氯镓酞菁晶 体中的氯镓酞菁，二甲亚砜的含量是0.37质量％。
[0118] 实施例6
[0119] 除了将在湿式研磨步骤中混合的有机化合物从10份的N，N-二甲基甲酰胺改变为 10份的丙酮以外，以与实施例2相同的方式来生产电子照相感光构件。
[0120] 从1H-NMR测量确认的是，以质子比计，基于在湿式研磨步骤中获得的氯镓酞菁晶 体中的氯镓酞菁，丙酮的含量是〇. 13质量％。
[0121] 实施例7
[0122] 除了将在湿式研磨步骤中混合的有机化合物从10份的N，N-二甲基甲酰胺改变为 10份的N-甲基甲酰胺以外，以与实施例2相同的方式来生产电子照相感光构件。
[0123] 从1H-NMR测量确认的是，以质子比计，基于在湿式研磨步骤中获得的氯镓酞菁晶 体中的氯镓酞菁，N-甲基甲酰胺的含量是0. 41质量％。
[0124] 实施例8
[0125] 除了将在湿式研磨步骤中混合的有机化合物从10份的N，N-二甲基甲酰胺改变为 10份的四氢咲喃以外，以与实施例2相同的方式来生产电子照相感光构件。
[0126] 从1H-NMR测量确认的是，以质子比计，基于在湿式研磨步骤中获得的氯镓酞菁晶 体中的氯镓酞菁，四氢呋喃的含量是〇. 37质量％。
[0127] 实施例9
[0128] 除了将15份的具有直径为1mm的玻璃珠作为介质在湿式研磨步骤中添加，将设备 改变为油漆搅拌器，并且处理时间改变为1小时以外，以与实施例1相同的方式来生产电子 照相感光构件。
[0129] 实施例10
[0130] 除了将湿式研磨步骤的设备改变为球磨机（120rpm)并且处理时间改变为2小时 以外，以与实施例9相同的方式来生产电子照相感光构件。图4表明测量的吸收光谱。
[0131] 实施例11
[0132] 除了湿式研磨步骤的处理时间改变为4小时以外，以与实施例10相同的方式来生 产电子照相感光构件。
[0133] 实施例12
[0134] 除了湿式研磨步