专利名称：一种插层纳米材料缓蚀剂及其制备方法
技术领域：
本发明属于腐蚀与防护领域，涉及一种缓蚀剂，具体是涉及一种插层纳米材料缓蚀剂及其制备方法。
背景技术：
缓蚀剂是控制腐蚀的重要方法，目前所使用的缓蚀剂一般都是有机小分子或是无机可溶性盐类物质，这些缓蚀剂一般适用在水性的环境中使用，在有机涂料中因为可溶渗出问题，导致涂层起泡，而使其不能在有机涂层中使用，近年来，随着环保要求的提高，有机涂层中所使用的铬酸盐或铅盐以及氧化物都受到了极大的限制，因此，研制无毒，缓蚀效率高，缓蚀时间长的材料，是急需解决的问题
发明内容
本发明所要解决的技术问题，是提供一种无毒、缓蚀效率高、缓蚀时间长的插层纳米材料缓蚀剂，以解决现有的缓蚀剂使用范围局限性大、有机涂层中可溶渗出、毒性大、缓蚀效率低、分散性比较差的技术难题。为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案如下一种插层纳米材料缓蚀剂，它由如下重量百分比的组分组成
蒙脱土20% 35%，
烯基寡聚酰胺季铵盐19% 35%，
碘化钾4~10%，
表面活性剂OP0.3 0.6%,
乙醇40%更优选的是，它由如下重量百分比的组分组成
蒙脱土20% 35%,
烯基寡聚酰胺季铵盐19% 30%,
碘化钾4 7%，
表面活性剂OP0.3-0.6%,
乙醇40%;其中，所述的烯基寡聚酰胺季铵盐由三个含氮的五元杂环、杂环上与N成键的含有官能团的支链烯基官能团和短的碳链支链CH3组成，具体结构式如下
权利要求
1.一种插层纳米材料缓蚀剂，其特征在于，它由如下重量百分比的组分组成蒙脱土20% 35%， 烯基寡聚酰胺季铵盐19% 35%,碘化钾4 10%, 表面活性剂OP0.3-0.6%,乙醇40%; 其中，所述的烯基寡聚酰胺季铵盐结构式如下
2.根据权利要求I所述的插层纳米材料缓蚀剂，其特征在于，所述的蒙脱土为纳米蒙脱土。
3.根据权利要求I所述的插层纳米材料缓蚀剂，其特征在于，所述的表面活性剂OP为表面活性剂0P-10。
4.权利要求I所述的插层纳米材料缓蚀剂的制备方法，其特征在于，先将配方中的液体组分混匀，再固体组分搅拌均匀，浸泡10小时以上，即可。
全文摘要
本发明公开了一种插层纳米材料缓蚀剂，它由如下重量百分比的组分组成蒙脱土20%～35%，烯基寡聚酰胺季铵盐20%～35%，碘化钾4~10%，表面活性剂OP 0.3~0.6%，乙醇40%。本发明还公开了上述插层纳米材料缓蚀剂的制备方法。本发明加入酸性溶液时，溶液虽不透明(浑浊)，但保持均匀分散状，能均匀分散于酸性液中，并且在试验时间内，液体稳定不分层，无沉淀物，是一种效果好的插层纳米材料缓蚀剂复合物材料组合物。
文档编号C23F11/04GK102808182SQ20121025799
公开日2012年12月5日 申请日期2012年7月24日 优先权日2012年7月24日
发明者高延敏, 周超 申请人:江苏科技大学