磁屏蔽壳体防变形真空处理工装的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种磁屏蔽壳体防变形真空处理工装，包括底座，底座上按照一定间距设有若干个支柱，沿底座的四周设有防护网。本实用新型的磁屏蔽壳体防变形真空处理工装结构简单，设计合理，经济实用，操作方便，能够较好地适用于磁屏蔽壳体的真空处理，经过真空处理后，工件外观上不挠曲、不变形、不变色、不粗糙、不脱焊、不粘连，符合各项工业技术要求，且进炉量多，生产效率高。
【专利说明】磁屏蔽壳体防变形真空处理工装
【技术领域】
[0001]本实用新型属于工艺设备【技术领域】，具体地说，是关于一种磁屏蔽壳体防变形真
空处理工装。
【背景技术】
[0002]壳体材料1J79铁镍软磁合金，形状为一大一小两个有锥度的圆筒体焊接而成，壁厚1_，结构示意图如图1所示。对该工件进行真空高温退火处理时，要求平面不挠曲，圆周度好，不变形，不变色，工件之间不得有粘连或脱焊现象，以达到合金净化，提高磁性能的目的。由于该工件的壁很薄，并且真空处理时温度高，在现有技术中，将工件直接摆放并进行真空处理后易产生变形挠曲或粘连现象，因此，急需一种适用于壳体材料1J79铁镍软磁合金真空高温退火处理的工装。
实用新型内容
[0003]本实用新型的目的就在于提供一种磁屏蔽壳体防变形真空处理工装，以使磁屏蔽壳体工件经真空处理后符合工业技术要求，且提高生产效率。
[0004]为实现上述目的，本实用新型的磁屏蔽壳体防变形真空处理工装包括底座，底座上按照一定间距设有若干个支柱，沿底座的四周设有防护网。所述支柱上还设有铁块。所述支柱的高度与磁屏蔽壳体的圆筒体的高度齐平。
[0005]本实用新型的磁屏蔽壳体防变形真空处理工装结构简单，设计合理，经济实用，操作方便，能够较好地适用于磁屏蔽壳体的真空处理，经过真空处理后，工件外观上不挠曲、不变形、不变色、不粗糙、不脱焊、不粘连，符合各项工业技术要求，且进炉量多，生产效率闻。
【专利附图】
【附图说明】
[0006]图1为壳体材料1J79铁镍软磁合金的结构示意图。
[0007]图2为本实用新型的磁屏蔽壳体防变形真空处理工装的结构示意图。
[0008]图3为磁屏蔽壳体套装于本实用新型的工装上的结构示意图。
[0009]图4为磁屏蔽壳体套装于本实用新型的工装上后分层放置的结构示意图。
[0010]附图标记:
[0011]1:底座；2:支柱；3:铁块；4:防护网。
【具体实施方式】
[0012]以下结合附图，以具体实施例对本实用新型的磁屏蔽壳体防变形真空处理工装做进一步详细说明。应理解，以下实施例仅用于说明本实用新型而非用于限定本实用新型的范围。
[0013]如图2所示，本实用新型的磁屏蔽壳体防变形真空处理工装包括底座1，底座I上按照一定间距设有若干个支柱2。支柱2的高度与磁屏蔽壳体的圆筒体的高度齐平,支柱2的间距根据磁屏蔽壳体的圆筒体直径进行调整，要求使工件套装于支柱2上后，工件摆放平整，不摇晃、不挤压为宜。支柱2上设有铁块3，用于工件分层放置时起到隔层作用，避免上层的支柱压到下层。沿底座I的四周设有防护网4，起到固定工件、避免工件摇晃的作用。
[0014]如图3-4所不,将磁屏蔽壳体工件米用大小壳体套装于支柱上，内外保持一定间距，在真空处理进炉时采用分层放置，每炉进炉量可达到64件。
[0015]本实用新型的磁屏蔽壳体防变形真空处理工装结构简单，设计合理，经济实用，操作方便，能够较好地适用于磁屏蔽壳体的真空处理，经过真空处理后，工件外观上不挠曲、不变形、不变色、不粗糙、不脱焊、不粘连，符合各项工业技术要求，且进炉量多，生产效率闻。
【权利要求】
1.磁屏蔽壳体防变形真空处理工装，其特征在于，包括底座，底座上按照一定间距设有若干个支柱，沿底座的四周设有防护网。
2.如权利要求1所述的磁屏蔽壳体防变形真空处理工装，其特征在于，所述支柱上还设有铁块。
3.如权利要求1所述的磁屏蔽壳体防变形真空处理工装，其特征在于，所述支柱的高度与磁屏蔽壳体的圆筒体的高度齐平。
【文档编号】C21D9/00GK203559088SQ201320645578
【公开日】2014年4月23日 申请日期:2013年10月18日 优先权日:2013年10月18日
【发明者】潘诗良 申请人:上海朋泰精密模具有限公司