1.通过在置于沉积室(30)中的基板(20)表面上的两种试剂之间的反应而气相沉积层(10)的方法，所述方法包括：
-将第一试剂以气相通过第一注入路径(40)注入所述沉积室(30)；
-将第二试剂以气相通过第二注入路径(50)注入所述沉积室(30)，所述第二注入路径(50)不同于所述第一注入路径(40)；
所述方法的特征在于，所述沉积室(30)内的压力在所述方法的整个持续时间大于500mTorr，并且特征在于，根据第一脉冲序列将所述第一试剂引入所述沉积室(30)，根据第二脉冲序列将所述第二试剂引入所述室，所述第一脉冲序列和所述第二脉冲序列是相移的。
2.如权利要求1所述的方法，其中所述沉积室(30)内的压力大于1Torr。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中所述第一试剂和所述第二试剂一起反应，反应时间小于所述第一试剂和所述第二试剂在试剂注入用系统和所述基板(20)的表面之间的行进时间，所述试剂注入用系统包含所述第一注入路径(40)和所述第二注入路径(50)。
4.如权利要求1～3中任一项所述的方法，其中所述第一脉冲序列是周期性的并具有第一周期。
5.如权利要求1～4中任一项所述的方法，其中所述第二脉冲序列是周期性的并具有第二周期。
6.如权利要求5所述的方法，所述方法与权利要求4组合，其中所述第一周期和所述第二周期相等。
7.如权利要求1～6中任一项所述的方法，其中所述第一脉冲序列的脉冲和所述第二脉冲序列的脉冲之间的重叠为0。
8.如权利要求1～7中任一项所述的方法，其中所述第一脉冲序列的两个连续脉冲之间的间隔大于所述第一脉冲序列的脉冲的持续时间。
9.如权利要求1～8中任一项所述的方法，其中所述第二脉冲序列的两个连续脉冲之间的间隔大于所述第二脉冲序列的脉冲的持续时间。